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Carboneto de silício sólido

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SIC SHOW Head

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O Vetek Semiconductor é um dos principais fabricantes e inovadores do SiC Subster na China. Fomos especializados em material SiC há muitos anos. O chuveiro ssic é escolhido como um material de anel de foco devido à sua excelente estabilidade termoquímica, alta resistência mecânica e resistência à erosão do plasma. Esperamos avançar para se tornar seu parceiro longo na China.
Susceptor de barril revestido de SiC para LPE PE2061S

Susceptor de barril revestido de SiC para LPE PE2061S

Como uma das principais fábricas de fabricação de susceptores de bolacha na China, o vetek semicondutor fez um progresso contínuo nos produtos susceptores de wafer e se tornou a primeira escolha para muitos fabricantes de bolacha epitaxial. O susceptador de barril revestido com SiC para LPE PE2061s fornecido pelo VETEK Semiconductor foi projetado para as bolachas LPE PE2061S 4 ''. O susceptador possui um revestimento durável de carboneto de silício que melhora o desempenho e a durabilidade durante o processo LPE (Epitaxia de Fase Líquida). Dê boas-vindas à sua pergunta, estamos ansiosos para nos tornar seu parceiro de longo prazo.
Solid SiC Gas Chuser Head

Solid SiC Gas Chuser Head

O chuveiro de gás SiC sólido desempenha um papel importante na uniformização do gás no processo CVD, garantindo assim o aquecimento uniforme do substrato. A VeTek Semiconductor está profundamente envolvida no campo de dispositivos sólidos de SiC há muitos anos e é capaz de fornecer aos clientes chuveiros de gás sólido SiC personalizados. Não importa quais sejam suas necessidades, aguardamos sua consulta.
Processo de deposição de vapor químico anel de borda SiC sólida

Processo de deposição de vapor químico anel de borda SiC sólida

O vetek semicondutor sempre foi comprometido com a pesquisa e desenvolvimento e fabricação de materiais avançados de semicondutores. Hoje, o vetek semicondutor fez um grande progresso no processo de deposição de vapor químico produtos SiC Edge Ring Products e é capaz de fornecer aos clientes anéis de borda SIC sólidos altamente personalizados. Os anéis de borda SiC sólidos fornecem melhor uniformidade de gravação e posicionamento preciso da bolas quando usado com um mandril eletrostático, garantindo resultados de gravação consistentes e confiáveis. Ansioso por sua consulta e se tornará parceiros de longo prazo um do outro.
Anel de foco de gravação sólida de SiC

Anel de foco de gravação sólida de SiC

O anel de foco de gravação de SiC sólido é um dos principais componentes do processo de gravação de wafer, que desempenha um papel na fixação do wafer, focando o plasma e melhorando a uniformidade da gravação do wafer. Como fabricante líder de anel de foco de SiC na China, a VeTek Semiconductor possui tecnologia avançada e processo maduro, e fabrica anel de foco de gravação de SiC sólido que atende totalmente às necessidades dos clientes finais de acordo com os requisitos do cliente. Aguardamos sua consulta e nos tornaremos parceiros de longo prazo um do outro.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


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