Serviços e Recursos

Materiais e Design

Selecionar a combinação adequada de substrato e revestimento é a chave para evitar falhas prematuras dos componentes, reduzir a contaminação por partículas e maximizar o rendimento do wafer. Fornecemos soluções personalizadas de design estrutural e de materiais em torno da janela de processo específica do cliente (temperatura operacional, química de gás reativo, taxas de rampa).

Nossos principais recursos de design:

  • Rigorosa correspondência de estresse CTE:Para ciclos térmicos rápidos (>100 °C/min), combinamos com precisão as curvas de temperatura CTE de substratos de grafite de alta pureza e revestimentos CVD, reduzindo fundamentalmente o risco de delaminação e microfissuras do revestimento.
  • Seleção de revestimento específico para cenário de processo:Revestimento CVD SiC para ambientes de epitaxia Si/SiC (Epi), MOCVD e gravação de plasma; Revestimento CVD TaC para temperaturas mais altas e condições fortemente corrosivas (por exemplo, crescimento de PVT de cristal único de SiC).
  • Otimização de resistividade controlável e condutividade térmica:Controle preciso da resistividade em massa e da condutividade térmica do substrato e do revestimento para atender aos requisitos específicos de campo elétrico e térmico de RF, mandris eletrostáticos ESC ou zonas de aquecimento.
  • Controle da fonte de contaminação e redução de CoO:Camadas de deposição de CVD de alta pureza vedam densamente o grafite poroso, reduzindo significativamente o derramamento de partículas, a difusão de impurezas metálicas ultra-traços e o risco de liberação de gases em alta temperatura.

Comparação típica de seleção de revestimento (guia rápido)

Revestimento Instruções típicas de aplicação Principais vantagens
SiC CVD Epitaxia Si/SiC (Epi), MOCVD, ataque parcial com plasma Alta pureza, boa estabilidade térmica, resistência à corrosão química, alto custo-desempenho geral
TaC CVD Crescimento de cristal único de SiC em alta temperatura (PVT), componentes de suporte de carga em temperaturas extremamente altas Classificação de temperatura mais alta (>1600 °C), forte resistência à corrosão, excelente resistência à oxidação

Caso real e benefícios do cliente (experiência):

Um fabricante líder de epitaxia de SiC (Epi):O componente original usava um revestimento CVD TaC incompatível, resultando em tensão interfacial excessiva e microfissuras frequentes em altas temperaturas. Executamos novamente simulações termodinâmicas e mudamos para umSubstrato de grafite especial de alta pureza compatível com CTE + camada tampão + revestimento SiC CVDsolução. Resultado: a vida útil média dos componentes aumentou de 200 horas para 850 horas; a frequência anual de substituição por ferramenta caiu de 40 para 9 vezes; a economia abrangente de custos de O&M de equipamentos ultrapassou 650.000 RMB por ano.

GDMS purity analysis report for TaC coating GDMS purity analysis report for SiC coating

Relatório de análise de pureza GDMS para revestimentos TaC e SiC

Perguntas frequentes

1. P: Como devo escolher entre o revestimento CVD SiC e o revestimento CVD TaC?

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UM:Observe a temperatura do processo e a intensidade da corrosão em fase gasosa. Se a temperatura do processo estiver abaixo de 1000 °C e envolver principalmente ataque à base de Cl₂/F₂ ou epitaxia convencional, escolhaSiC CVDpara o melhor custo-benefício; se a temperatura do processo exceder 1200 °C e envolver atmosferas fortemente corrosivas (por exemplo, crescimento de cristal único SiC PVT), recomendamosTaC CVD, que oferece temperatura superior e resistência à corrosão. Podemos fornecer um relatório de recomendação de seleção gratuito com base em seus parâmetros de processo específicos.

2. P: Vocês oferecem suporte à prototipagem de peça única/lote pequeno? Qual é o prazo de entrega?

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UM:Sim! Para protótipos de engenharia reversa,MOQ é 1 peça. Para peças simples convencionais, desde o recebimento da amostra até a entrega da peça mapeada, o lead time mais rápido é de aproximadamente10–15 dias úteis; para peças que envolvem processos de revestimento complexos é aproximadamente20–25 dias úteis. Entre em contato com nossos engenheiros para uma avaliação rápida.

3. P: O que causa a delaminação do revestimento CVD em peças de grafite durante o uso? Isso pode ser resolvido?

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UM:90% dos casos de delaminação são causados ​​pela incompatibilidade entre o coeficiente de expansão térmica (CTE) do substrato de grafite e o revestimento, levando à descamação por fadiga sob rápido aquecimento/resfriamento. Nossa solução: primeiro meça com precisão a curva CTE de sua peça original e, em seguida, ajuste especialmente a densidade do substrato e o gradiente de temperatura de deposição para que os dois CTEs sejam altamente compatíveis. A resistência da união pode ser melhorada para mais de1,5 vezesnível convencional da indústria.

4. P: Você pode fornecer um CoA (Certificado de Análise) para os produtos? Que dados inclui?

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UM:Cada produto enviado vem de fábrica com umnúmero de série exclusivo + relatório CoA completo. O relatório inclui: dados de inspeção de CMM de dimensão crítica, mapa de distribuição de espessura de revestimento multiponto, valores de rugosidade superficial (Ra) e conclusões de análise de pureza de material (GDMS).

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Telefone: +86-18069220752(Tina);+86-15988690905(Será)

E-mail: anny@veteksemi.com

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