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Wangda Road, Ziyang Street, condado de Wuyi, cidade de Jinhua, província de Zhejiang, China
Selecionar a combinação adequada de substrato e revestimento é a chave para evitar falhas prematuras dos componentes, reduzir a contaminação por partículas e maximizar o rendimento do wafer. Fornecemos soluções personalizadas de design estrutural e de materiais em torno da janela de processo específica do cliente (temperatura operacional, química de gás reativo, taxas de rampa).
| Revestimento | Instruções típicas de aplicação | Principais vantagens |
|---|---|---|
| SiC CVD | Epitaxia Si/SiC (Epi), MOCVD, ataque parcial com plasma | Alta pureza, boa estabilidade térmica, resistência à corrosão química, alto custo-desempenho geral |
| TaC CVD | Crescimento de cristal único de SiC em alta temperatura (PVT), componentes de suporte de carga em temperaturas extremamente altas | Classificação de temperatura mais alta (>1600 °C), forte resistência à corrosão, excelente resistência à oxidação |
Um fabricante líder de epitaxia de SiC (Epi):O componente original usava um revestimento CVD TaC incompatível, resultando em tensão interfacial excessiva e microfissuras frequentes em altas temperaturas. Executamos novamente simulações termodinâmicas e mudamos para umSubstrato de grafite especial de alta pureza compatível com CTE + camada tampão + revestimento SiC CVDsolução. Resultado: a vida útil média dos componentes aumentou de 200 horas para 850 horas; a frequência anual de substituição por ferramenta caiu de 40 para 9 vezes; a economia abrangente de custos de O&M de equipamentos ultrapassou 650.000 RMB por ano.
Relatório de análise de pureza GDMS para revestimentos TaC e SiC
UM:Observe a temperatura do processo e a intensidade da corrosão em fase gasosa. Se a temperatura do processo estiver abaixo de 1000 °C e envolver principalmente ataque à base de Cl₂/F₂ ou epitaxia convencional, escolhaSiC CVDpara o melhor custo-benefício; se a temperatura do processo exceder 1200 °C e envolver atmosferas fortemente corrosivas (por exemplo, crescimento de cristal único SiC PVT), recomendamosTaC CVD, que oferece temperatura superior e resistência à corrosão. Podemos fornecer um relatório de recomendação de seleção gratuito com base em seus parâmetros de processo específicos.
UM:Sim! Para protótipos de engenharia reversa,MOQ é 1 peça. Para peças simples convencionais, desde o recebimento da amostra até a entrega da peça mapeada, o lead time mais rápido é de aproximadamente10–15 dias úteis; para peças que envolvem processos de revestimento complexos é aproximadamente20–25 dias úteis. Entre em contato com nossos engenheiros para uma avaliação rápida.
UM:90% dos casos de delaminação são causados pela incompatibilidade entre o coeficiente de expansão térmica (CTE) do substrato de grafite e o revestimento, levando à descamação por fadiga sob rápido aquecimento/resfriamento. Nossa solução: primeiro meça com precisão a curva CTE de sua peça original e, em seguida, ajuste especialmente a densidade do substrato e o gradiente de temperatura de deposição para que os dois CTEs sejam altamente compatíveis. A resistência da união pode ser melhorada para mais de1,5 vezesnível convencional da indústria.
UM:Cada produto enviado vem de fábrica com umnúmero de série exclusivo + relatório CoA completo. O relatório inclui: dados de inspeção de CMM de dimensão crítica, mapa de distribuição de espessura de revestimento multiponto, valores de rugosidade superficial (Ra) e conclusões de análise de pureza de material (GDMS).
Telefone: +86-18069220752(Tina);+86-15988690905(Será)
E-mail: anny@veteksemi.com