Processo RTA/RTP

VeTek Semiconductor fornece transportador de wafer de processo RTA / RTP, feito de grafite de alta pureza e revestimento SiC comimpureza abaixo de 5ppm.

O forno de recozimento rápido é um tipo de equipamento para tratamento de recozimento de materiais eProcesso RTA/RTP, ao controlar o processo de aquecimento e resfriamento do material, pode melhorar a estrutura cristalina do material, reduzir o estresse interno e melhorar as propriedades mecânicas e físicas do material. Um dos principais componentes da câmara do forno de recozimento rápido é o transportador de wafer/receptor de waferpara carregar wafers. Como aquecedor de wafer na câmara de processo, esteplaca transportadoradesempenha um papel importante no tratamento de aquecimento rápido e equalização de temperatura.

O carboneto de silício, o nitreto de alumínio e o carboneto de silício de grafite são materiais disponíveis para o forno de recozimento rápido, e a principal escolha no mercado é o grafite erevestimento de carboneto de silício como materiais. 

Os seguintes sãoos recursos e excelente desempenhode transportador de wafer de processo RTA RTP revestido com SiC da VeTek Semiconductor:

-Estabilidade em altas temperaturas: O revestimento SiC apresenta excelente estabilidade em altas temperaturas, garantindo a integridade da estrutura e a resistência mecânica mesmo em temperaturas extremas. Essa capacidade o torna altamente adequado para processos exigentes de tratamento térmico.

-Excelente condutividade térmica: A camada de revestimento SiC possui condutividade térmica excepcional, permitindo uma distribuição de calor rápida e uniforme. Isto se traduz em processamento térmico mais rápido, reduzindo significativamente o tempo de aquecimento e aumentando a produtividade geral. Ao melhorar a eficiência da transferência de calor, contribui para uma maior eficiência de produção e qualidade superior do produto.

-Inércia Química: A inércia química inerente do carboneto de silício proporciona excelente resistência à corrosão de vários produtos químicos. Nosso transportador de wafer de carboneto de silício revestido de carbono pode operar de forma confiável em diversos ambientes químicos sem contaminar ou danificar os wafers.

-Planicidade da superfície: A camada de carboneto de silício CVD garante uma superfície altamente plana e lisa, garantindo contato estável com os wafers durante o processamento térmico. Isto elimina a introdução de defeitos superficiais adicionais, garantindo ótimos resultados de processamento.

-Leve e de alta resistência: Nosso transportador de wafer RTP revestido com SiC é leve, mas possui uma resistência notável. Esta característica facilita o carregamento e descarregamento conveniente e confiável de wafers.

Como usar o transportador de wafer do processo RTA RTP:

Receptor e tampa do receptor de wafer de revestimento SiC da VeTek Semiconductor

Receptor RTA RTP Transportador de wafer RTA RTP Bandeja RTP (para tratamento de aquecimento rápido RTA) Bandeja RTP (para tratamento de aquecimento rápido RTA) Receptor RTP Bandeja de suporte para wafer RTP