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A VeTek Semiconductor é um fabricante especializado em susceptores de LED UV, tem muitos anos de pesquisa, desenvolvimento e experiência em produção em susceptores de LED EPI e foi reconhecida por muitos clientes do setor.
LED, ou seja, diodo emissor de luz semicondutor, a natureza física de sua luminescência é que após a junção pn do semicondutor ser energizada, sob a ação do potencial elétrico, elétrons e buracos no material semicondutor são combinados para gerar fótons, de modo a alcançar a luminescência do semicondutor. Portanto, a tecnologia epitaxial é um dos alicerces e núcleo do LED, sendo também o principal fator decisivo para as características elétricas e ópticas do LED.
A tecnologia Epitaxy (EPI) refere-se ao crescimento de um material de cristal único em um substrato de cristal único com o mesmo arranjo de rede do substrato. Princípio básico: Em um substrato aquecido à temperatura apropriada (principalmente substrato de safira, substrato de SiC e substrato de Si), as substâncias gasosas índio (In), gálio (Ga), alumínio (Al), fósforo (P) são controladas até a superfície do substrato para crescer um filme de cristal único específico. Atualmente, a tecnologia de crescimento da folha epitaxial de LED utiliza principalmente o método MOCVD (deposição meteorológica química de metal orgânico).
GaP e GaAs são substratos comumente usados para LEDs vermelhos e amarelos. Substratos GaP são usados no método de epitaxia em fase líquida (LPE), resultando em uma ampla faixa de comprimento de onda de 565-700 nm. Para o método de epitaxia em fase gasosa (VPE), camadas epitaxiais de GaAsP são cultivadas, produzindo comprimentos de onda entre 630-650 nm. Ao usar MOCVD, os substratos de GaAs são normalmente empregados com o crescimento de estruturas epitaxiais AlInGaP.
Isso ajuda a superar as desvantagens de absorção de luz dos substratos de GaAs, embora introduza incompatibilidade de rede, exigindo camadas tampão para o crescimento de estruturas InGaP e AlGaInP.
VeTek Semiconductor fornece susceptor LED EPI com revestimento SiC, revestimento TaC:
Receptor LED EPI VEECO
Revestimento TaC usado no susceptor LED EPI
● Substrato GaN: O cristal único GaN é o substrato ideal para o crescimento de GaN, melhorando a qualidade do cristal, a vida útil do chip, a eficiência luminosa e a densidade de corrente. Contudo, a sua difícil preparação limita a sua aplicação.
Substrato de Safira: Safira (Al2O3) é o substrato mais comum para o crescimento de GaN, oferecendo boa estabilidade química e sem absorção de luz visível. No entanto, ele enfrenta desafios com condutividade térmica insuficiente na operação de chips de potência de alta corrente.
● Substrato SiC: SiC é outro substrato utilizado para o crescimento do GaN, ocupando o segundo lugar em participação de mercado. Fornece boa estabilidade química, condutividade elétrica, condutividade térmica e nenhuma absorção de luz visível. Porém, possui preços mais elevados e qualidade inferior em relação à safira. O SiC não é adequado para LEDs UV abaixo de 380 nm. A excelente condutividade elétrica e térmica do SiC elimina a necessidade de ligação flip-chip para dissipação de calor em LEDs GaN do tipo potência em substratos de safira. A estrutura do eletrodo superior e inferior é eficaz para dissipação de calor em dispositivos LED GaN do tipo potência.
Receptor LED Epitaxia
Susceptor MOCVD com revestimento TaC
Na epitaxia LED ultravioleta profunda (DUV), LED UV profundo ou Epitaxia LED DUV, os materiais químicos comumente usados como substratos incluem nitreto de alumínio (AlN), carboneto de silício (SiC) e nitreto de gálio (GaN). Esses materiais possuem boa condutividade térmica, isolamento elétrico e qualidade de cristal, tornando-os adequados para aplicações DUV LED em ambientes de alta potência e alta temperatura. A escolha do material do substrato depende de fatores como requisitos de aplicação, processos de fabricação e considerações de custo.
Susceptor de LED UV profundo revestido de SiC
Susceptor de LED UV profundo revestido com TaC
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