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Alta pureza SiC cantilever paddle
  • Alta pureza SiC cantilever paddleAlta pureza SiC cantilever paddle

Alta pureza SiC cantilever paddle

O VETEK SEMICONDUCOR é um fabricante líder e fornecedor de produtos SiC Cantilever Paddle de alta pureza na China. As pás SiC cantilever de alta pureza são comumente usadas em fornos de difusão de semicondutores como plataformas de transferência de wafer ou carregamento.

Paddle cantilever de alta pureza é um componente essencial usado no equipamento de processamento de semicondutores. O produto é feito de material de carboneto de silício de alta pureza (SIC).  Os clientes podem escolher livremente o material SiC sinterizado ou o material SiC recristalizado. Com a ajuda de suas excelentes características de alta pureza, alta estabilidade térmica e resistência à corrosão, ela é amplamente utilizada em processos como transferência de wafer, suporte e processamento de alta temperatura, fornecendo garantia confiável para garantir a precisão do processo e a qualidade do produto.


A Paddle SiC Cantilever de alta pureza desempenha as seguintes funções específicas no processo de processamento de semicondutores:


Transferência de wafer: A remoção de cantilever SiC de alta pureza é geralmente usada como um dispositivo de transferência de wafer em fornos de difusão ou oxidação de alta temperatura. Sua alta dureza o torna resistente ao desgaste e não é fácil de se deformar durante o uso a longo prazo, e pode garantir que a bolacha permaneça posicionada com precisão durante o processo de transferência. Combinado com sua alta temperatura e resistência à corrosão, ele pode transferir com segurança as bolachas para dentro e fora do tubo do forno em ambientes de alta temperatura sem causar contaminação ou dano às bolachas.


Suporte de wafer: O material SiC possui um baixo coeficiente de expansão térmica, o que significa que seu tamanho muda menos quando a temperatura muda, o que ajuda a manter o controle preciso no processo. Na deposição química de vapor (DCV) ou nos processos de deposição de vapor físico (PVD), o SiC Cantilever Paddle é usado para apoiar e consertar a bolacha para garantir que a bolacha permaneça estável e plana durante o processo de deposição, melhorando assim a uniformidade e a qualidade do filme.


Aplicação de processos de alta temperatura: O SiC Cantilever Paddle tem excelente estabilidade térmica e pode suportar temperaturas de até 1600 ° C. Portanto, este produto é amplamente utilizado em recozimento, oxidação, difusão e outros processos de alta temperatura.


Propriedades físicas básicas de alta pureza SiC cantilever paddle:

Propriedades físicas do carboneto de silício sinterizado

Propriedade

Valor típico

Composição química

Sic> 95% , E <5%

Densidade a granel

> 3.07 g/cm³
Porosidade aparente
<0,1%
Módulo de ruptura aos 20 ℃
270 MPa
Módulo de ruptura a 1200 ℃
290 MPa
Dureza aos 20 ℃
2400 kg/mm²
Resistência à fratura em 20%
3,3 mpa · m1/2
Condutividade térmica em 1200 ℃
45 com M.K.
Expansão térmica em 20-1200 ℃
4,5 × 10-6/℃
Temperatura máxima de trabalho
1400 ℃
Resistência ao choque térmico em 1200 ℃
Bom

Propriedades físicas de carboneto de silício recristalizado
Propriedade
Valor típico
Temperatura de trabalho (° C)
1600 ° C (com oxigênio), 1700 ° C (redução do ambiente)
Conteúdo sic
> 99,96%
Conteúdo SI gratuito
<0,1%
Densidade a granel
2.60-2.70 g/cm3
Porosidade aparente
<16%
Força de compressão
> 600 MPa
Força de flexão fria
80-90 MPa (20 ° C)
Força de flexão quente
90-100 MPa (1400 ° C)
Expansão térmica a 1500 ° C.
4,70 x 10-6/° C.
Condutividade térmica a 1200 ° C.
23 w/m • k
Módulo elástico
240 GPA
Resistência ao choque térmico
Extremamente bom


Alta pureza SiC cantilever paddlelojas:


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Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:


Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

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