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Barco de bolacha de carboneto de silício
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Barco de bolacha de carboneto de silício

O barco de carboneto de alta pureza do vetek semicondutor é feito de material de carboneto de silício extremamente puro com excelente estabilidade térmica, força mecânica e resistência química. O barco de bolacha de carboneto de alta pureza é usado em aplicações de zona quente na fabricação de semicondutores, especialmente em ambientes de alta temperatura, e desempenha um papel importante na proteção das bolachas, no transporte de materiais e na manutenção de processos estáveis. O vetek semicondutor continuará trabalhando duro para inovar e melhorar o desempenho do barco de wafer de carboneto de silício de alta pureza para atender às necessidades em evolução da fabricação de semicondutores. Estamos ansiosos para nos tornar seu parceiro de longo prazo na China. Fique livre para nos perguntar.

Como fabricante profissional, o vetek semicondutor gostaria de fornecer a você um barco de bolacha de carboneto de silício de alta qualidade.

Excelente desempenho térmico: o barco de wafer de carboneto de silício de alta pureza do Vetek semicondutor tem excelente desempenho térmico, é estável em ambientes de alta temperatura e possui excelente condutividade térmica, permitindo que opere em temperaturas muito acima do ambiente. Isso torna o barco de wafer de carboneto de silício de alta pureza ideal para aplicações de resistência de alta potência e alta temperatura.

Excelente resistência à corrosão: O barco de bolacha de carboneto de silício de alta pureza é uma ferramenta-chave para a fabricação de semicondutores e tem forte resistência a vários agentes corrosivos. Como transportadora confiável, ele pode suportar os efeitos da alta temperatura e da corrosão em um ambiente químico, garantindo o processamento seguro e eficaz das bolachas de carboneto de silício. Como transportadora confiável, ele pode suportar os efeitos da alta temperatura e da corrosão em um ambiente químico, garantindo o processamento seguro e eficaz das bolachas de carboneto de silício.

Integridade dimensional: O barco de bolacha de carboneto de silício de alta pureza não diminui durante o processo de sinterização, mantendo a integridade dimensional e eliminando tensões residuais que podem fazer com que as peças deformem ou quebrem. Isso permite a fabricação de peças em forma de complexo com dimensões precisas. Seja na fabricação de dispositivos semicondutores ou outros campos industriais, o barco de wafer de carboneto de silício de alta pureza fornece controle dimensional confiável para garantir que as peças atendam às especificações.

Como uma ferramenta versátil, o barco de wafer de carboneto de silício de alta pureza do Vetek Semicondutor pode ser aplicado a uma variedade de tecnologias de fabricação de semicondutores, incluindo crescimento epitaxial e deposição de vapor químico. Seu design durável e natureza não reativa tornam o barco de wafer de carboneto de silício de alta pureza adequado para uma variedade de químicas de processamento, garantindo que possa se adaptar suavemente a diferentes ambientes de processamento.

Na fabricação de semicondutores, o crescimento epitaxial e a deposição de vapor químico são etapas de processo comuns usadas para cultivar bolachas de alta qualidade e filmes finos. O barco SiC de alta pureza desempenha um papel importante como transportadora, que pode suportar a influência de altas temperaturas e produtos químicos para garantir processos precisos de crescimento e deposição.

Além de seu design durável, o barco SiC de alta pureza também não é reativo. Isso significa que não reagirá adversamente ao processamento de produtos químicos, mantendo assim a integridade e o desempenho do barco. Isso fornece aos fabricantes de semicondutores uma ferramenta confiável para garantir consistência e repetibilidade no processo de produção.


Propriedades físicas de carboneto de silício recristalizado

Propriedades físicas de carboneto de silício recristalizado
Propriedade Valor típico
Temperatura de trabalho (° C) 1600 ° C (com oxigênio), 1700 ° C (redução do ambiente)
Conteúdo sic > 99,96%
Conteúdo SI gratuito <0,1%
Densidade a granel 2.60-2.70 g/cm3
Porosidade aparente <16%
Força de compressão > 600 MPa
Força de flexão fria 80-90 MPa (20 ° C)
Força de flexão quente 90-100 MPa (1400 ° C)
Expansão térmica a 1500 ° C. 4.70 10-6/° C.
Condutividade térmica a 1200 ° C. 23 w/m • k
Módulo elástico 240 GPA
Resistência ao choque térmico Extremamente bom


Compare a loja de produção de semicondutores:

VeTek Semiconductor Production Shop


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


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