Processo de gravação ICP/PSS

O transportador de wafer para processo de gravação VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductly Coupled Plasma Photoresist Stripping) foi projetado especificamente para atender aos exigentes requisitos dos processos de gravação da indústria de semicondutores. Com seus recursos avançados, garante desempenho, eficiência e confiabilidade ideais durante todo o processo de gravação.

A vantagem dos Susveptores de Processo de Gravura VeTek Semiconductor ICP/PSS:

Compatibilidade química aprimorada: O suporte do wafer é construído com materiais que apresentam excelente compatibilidade química com os produtos químicos do processo de gravação. Isso garante compatibilidade com uma ampla variedade de decapantes, decapantes e soluções de limpeza, minimizando o risco de reações químicas ou contaminação.

Resistência a altas temperaturas: O transportador de wafer é projetado para suportar altas temperaturas encontradas durante o processo de gravação. Mantém sua integridade estrutural e resistência mecânica, evitando deformações ou danos mesmo sob condições térmicas extremas.

Uniformidade de gravação superior: O transportador apresenta um design projetado com precisão que promove distribuição uniforme de agentes de corrosão e gases em toda a superfície do wafer. Isso resulta em taxas de gravação consistentes e padrões uniformes de alta qualidade, essenciais para obter resultados de gravação precisos e confiáveis.

Excelente estabilidade do wafer: O transportador incorpora um mecanismo seguro de retenção do wafer que garante um posicionamento estável e evita o movimento ou deslizamento do wafer durante o processo de gravação. Isto garante padrões de gravação precisos e repetíveis, minimizando defeitos e perdas de rendimento.

Compatibilidade com salas limpas: O transportador de wafer foi projetado para atender aos rígidos padrões de salas limpas. Possui baixa geração de partículas e excelente limpeza, evitando qualquer contaminação por partículas que possa comprometer a qualidade e o rendimento do processo de gravação. A impureza é inferior a 5ppm.

Construção robusta e durável: O transportador foi projetado com materiais de alta qualidade, conhecidos por sua durabilidade e longa vida útil. Pode suportar o uso repetido e processos de limpeza rigorosos sem comprometer seu desempenho ou integridade estrutural.

Design personalizável: Oferecemos opções personalizáveis ​​para atender às necessidades específicas do cliente. O transportador pode ser adaptado para acomodar diferentes tamanhos de wafer, espessuras e especificações de processo, garantindo compatibilidade com vários equipamentos e processos de gravação.

Experimente a confiabilidade e o desempenho de nosso transportador de wafer para processo de gravação ICP/PSS, projetado para otimizar o processo de gravação na indústria de semicondutores. Sua compatibilidade química aprimorada, resistência a altas temperaturas, uniformidade de gravação superior, excelente estabilidade do wafer, compatibilidade com salas limpas, construção robusta e design personalizável fazem dele a escolha ideal para suas aplicações de gravação.

Placa de gravação PSS Placa de gravação ICP Susceptor de Gravura ICP