Nitreto de silício

1. Excelente estabilidade química

A cerâmica de nitreto de silício tem excelente estabilidade química e pode suportar uma variedade de ácidos fortes, álcalis e gases corrosivos. No processo de fabricação de semicondutores, geralmente precisa lidar com produtos químicos corrosivos, a cerâmica de nitreto de silício pode fornecer garantia de desempenho estável a longo prazo.

2. Excelentes propriedades mecânicas

A cerâmica de nitreto de silício tem alta dureza, excelente resistência à compressão e resistência ao desgaste, capaz de suportar o estresse mecânico e o desgaste da superfície, não é fácil de deformação ou ruptura. Essa propriedade mecânica o torna muito adequado como material para peças estruturais e de processo em equipamentos semicondutores.

3. Estabilidade de alta temperatura

A cerâmica de nitreto de silício pode manter a estabilidade em ambientes de alta temperatura, não é fácil de suavizar ou derreter, e pode suportar processamento e manuseio de alta temperatura no processo de fabricação de semicondutores. Isso permite que ele seja usado na fabricação de componentes-chave do equipamento de processo de alta temperatura, como garra, componentes da câmara de reação e assim por diante.

4. Excelentes propriedades isolantes

As propriedades isolantes são críticas na fabricação de dispositivos semicondutores. A cerâmica de nitreto de silício possui boas propriedades isolantes, que podem isolar e proteger efetivamente os componentes do circuito contra vazamento de corrente ou interferência eletromagnética, ajudando a melhorar a estabilidade e a confiabilidade do dispositivo.

5. Condutividade térmica e condutividade térmica

A cerâmica de nitreto de silício tem uma alta condutividade térmica, pode efetivamente conduzir e dissipar o calor gerado pelo dispositivo, ajudando a manter a estabilidade da temperatura do dispositivo no processo operacional. Isso é fundamental para a operação de alto desempenho de dispositivos semicondutores.

1. Chucks eletrostáticos e componentes da câmara de gravação

A cerâmica de nitreto de silício é frequentemente usada como materiais para chucks eletrostáticos e componentes da câmara de gravação na fabricação de semicondutores devido à sua excelente estabilidade química e resistência à alta temperatura. Os mandíbulas eletrostáticas são usadas para corrigir e estabilizar as bolachas ou substratos, enquanto os componentes da câmara de gravação são usados ​​para suportar gases corrosivos e ambientes de alta temperatura.

2 placas e refletores de distribuição de gás

A cerâmica de nitreto de silício também é usada na fabricação de equipamentos de semicondutores nas placas e refletores de distribuição de gás. As placas de distribuição de gás são usadas para distribuir uniformemente gases reativos ou protetores na câmara de reação, enquanto os refletores são usados ​​para otimizar a distribuição e a reflexão da luz na câmara de reação para melhorar a eficiência e a uniformidade da reação.

3. Suportes e componentes térmicos

A cerâmica de nitreto de silício é frequentemente usada como suportes e componentes de gerenciamento térmico em equipamentos de fabricação de semicondutores. Esses componentes precisam ter boa resistência mecânica, resistência ao desgaste e condutividade térmica para garantir a operação estável do equipamento e a precisão do processamento de dispositivos.

4.

A cerâmica de nitreto de silício é amplamente utilizada como material de almofada no processo de polimento mecânico químico (CMP). Possui excelente resistência à planicidade e desgaste e pode fornecer suporte estável durante o processo de polimento para garantir a planicidade e a precisão da superfície da wafer semicondutores.