Nitreto de Silício

A VeTek Semiconductor concentra-se na fabricação de nitreto de silício e possui uma equipe de pesquisa e desenvolvimento composta por especialistas seniores e talentos técnicos de ponta. A cerâmica de nitreto de silício tem as vantagens de dureza, resistência ao calor, resistência ao desgaste e resistência à corrosão de materiais cerâmicos em geral, e tem as vantagens de boa resistência ao choque térmico, resistência à fluência em alta temperatura, boa autolubrificação e boa estabilidade química, e são amplamente usado em novas áreas de energia, indústria química, aeroespacial e semicondutores.

Os materiais de nitreto de silício da VeTek Semiconductor têm as seguintes vantagens proeminentes:

1. Excelente estabilidade química

A cerâmica de nitreto de silício tem excelente estabilidade química e pode suportar uma variedade de ácidos fortes, álcalis e gases corrosivos. No processo de fabricação de semicondutores, muitas vezes é necessário lidar com produtos químicos corrosivos. A cerâmica de nitreto de silício pode fornecer garantia de desempenho estável a longo prazo.

2. Excelentes propriedades mecânicas

A cerâmica de nitreto de silício possui alta dureza, excelente resistência à compressão e resistência ao desgaste, capaz de suportar tensões mecânicas e desgaste superficial, não sendo fácil de deformar ou romper. Esta propriedade mecânica o torna muito adequado como material para peças estruturais e de processo em equipamentos semicondutores.

3. Estabilidade em altas temperaturas

A cerâmica de nitreto de silício pode manter a estabilidade em ambientes de alta temperatura, não é fácil de amolecer ou derreter e pode suportar processamento e manuseio em alta temperatura no processo de fabricação de semicondutores. Isso permite que ele seja usado na fabricação de componentes-chave de equipamentos de processo de alta temperatura, como pinças, componentes de câmara de reação e assim por diante.

4. Excelentes propriedades isolantes

As propriedades isolantes são críticas na fabricação de dispositivos semicondutores. A cerâmica de nitreto de silício tem boas propriedades isolantes, que podem isolar e proteger eficazmente os componentes do circuito contra vazamento de corrente ou interferência eletromagnética, ajudando a melhorar a estabilidade e confiabilidade do dispositivo.

5. Condutividade térmica e condutividade térmica

A cerâmica de nitreto de silício possui alta condutividade térmica, pode conduzir e dissipar com eficácia o calor gerado pelo dispositivo, ajudando a manter a estabilidade da temperatura do dispositivo no processo operacional. Isto é fundamental para a operação de alto desempenho de dispositivos semicondutores.

As aplicações dos materiais de nitreto de silício da VeTek Semiconductor nas indústrias solar e de semicondutores incluem principalmente:

1. Mandris eletrostáticos e componentes da câmara de gravação

Cerâmicas de nitreto de silício são frequentemente usadas como materiais para mandris eletrostáticos e componentes de câmaras de gravação na fabricação de semicondutores devido à sua excelente estabilidade química e resistência a altas temperaturas. Os mandris eletrostáticos são usados ​​para fixar e estabilizar wafers ou substratos, enquanto os componentes da câmara de gravação são usados ​​para suportar gases corrosivos e ambientes de alta temperatura.

2. Placas e refletores de distribuição de gás

As cerâmicas de nitreto de silício também são utilizadas na fabricação de equipamentos semicondutores em placas de distribuição de gás e refletores. Placas de distribuição de gás são usadas para distribuir uniformemente gases reativos ou protetores na câmara de reação, enquanto refletores são usados ​​para otimizar a distribuição e reflexão da luz dentro da câmara de reação para melhorar a eficiência e uniformidade da reação.

3. Suportes e componentes térmicos

Cerâmicas de nitreto de silício são frequentemente usadas como suportes e componentes de gerenciamento térmico em equipamentos de fabricação de semicondutores. Esses componentes precisam ter boa resistência mecânica, resistência ao desgaste e condutividade térmica para garantir a operação estável do equipamento e a precisão do processamento do dispositivo.

4. Almofadas de polimento químico-mecânico (CMP)

A cerâmica de nitreto de silício é amplamente utilizada como material de almofada no processo de polimento químico-mecânico (CMP). Possui excelente planicidade e resistência ao desgaste e pode fornecer suporte estável durante o processo de polimento para garantir o nivelamento e a precisão da superfície do wafer semicondutor.