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Carboneto de silício sólido

Vetek semicondutor O carboneto de silício sólido é um importante componente de cerâmica em equipamentos de gravura de plasma, carboneto de silício sólido (Carboneto de silício CVD) Peças no equipamento de gravação incluemAnéis de foco, chuveiro a gás, bandeja, anéis de borda, etc. Devido à baixa reatividade e condutividade do carboneto de silício sólido (carboneto de silício de CVD) ao cloro - e gases de gravação contendo fluorina, é um material ideal para equipamentos de gravação de plasma e outros componentes.


Por exemplo, o anel de foco é uma parte importante colocada fora da bolacha e em contato direto com a bolacha, aplicando uma tensão ao anel para focar o plasma que passa pelo anel, concentrando assim o plasma na bolacha para melhorar a uniformidade do processamento. O anel de foco tradicional é feito de silício ouquartzo, Silício condutor como um material de anel de foco comum, está quase próximo da condutividade das bolachas de silício, mas a escassez é baixa resistência de gravação no plasma contendo fluorino, a gravação de materiais de peças da máquina frequentemente usada por um período de tempo, haverá um fenômeno grave de corrosão, reduzindo seriamente sua eficiência da produção.


Sanel de foco olid sicPrincípio de trabalho

Working Principle of Solid SiC Focus Ring


Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC:

Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC
Item E CVD sic
Densidade (g/cm3) 2.33 3.21
Gap de banda (EV) 1.12 2.3
Condutividade térmica (W/cm ℃) 1.5 5
CTE (x10-6/℃) 2.6 4
Módulo elástico (GPA) 150 440
Dureza (GPA) 11.4 24.5
Resistência ao desgaste e corrosão Pobre Excelente


O vetek semicondutor oferece peças avançadas de carboneto de silício sólido (carboneto de silício CVD), como anéis de foco do SIC para equipamentos de semicondutores. Nosso carboneto de silício sólido anéis de foco superam o silício tradicional em termos de resistência mecânica, resistência química, condutividade térmica, durabilidade de alta temperatura e resistência à gravação de íons.


Os principais recursos de nossos anéis de foco no SIC incluem:

Alta densidade para taxas reduzidas de gravação.

Excelente isolamento com um alto desvio de banda.

Alta condutividade térmica e baixo coeficiente de expansão térmica.

Resistência e elasticidade do impacto mecânico superior.

Alta dureza, resistência ao desgaste e resistência à corrosão.

Fabricado usandoDeposição de vapor químico aprimorado por plasma (PECVD)Técnicas, nossos anéis de foco no SIC atendem às crescentes demandas dos processos de gravação na fabricação de semicondutores. Eles foram projetados para suportar maior poder plasmático e energia, especificamente emPlasma capacitivamente acoplado (CCP)sistemas.

Os anéis de foco SIC do VETEK SEMICONDUCOR fornecem desempenho e confiabilidade excepcionais na fabricação de dispositivos semicondutores. Escolha nossos componentes SIC para obter qualidade e eficiência superiores.


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Cabeça de chuveiro de grafite revestida com CVD SIC

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O chuveiro de grafite revestido com CVD SiC da veteksemicon é um componente de alto desempenho projetado especificamente para processos de deposição de vapor químico semicondutores (CVD). Fabricado a partir de grafite de alta pureza e protegido com um revestimento de carboneto de silício de deposição de vapor químico (CVD), esta cabeça de chuveiro oferece excelente durabilidade, estabilidade térmica e resistência a gases de processo corrosivo. Ansioso por sua consulta adicional.
Anel de borda sic

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VETEKSEMICON ALTAMENTOS SIC DE PORTULAÇÃO DE HIA PORTULAÇÃO, projetados especialmente para equipamentos de gravura semicondutores, apresentam excelente resistência à corrosão e estabilidade térmica, aumentando significativamente o rendimento da bolacha
Matéria -prima de alta pureza CVD sic

Matéria -prima de alta pureza CVD sic

Matéria -prima CVD SIC de alta pureza, preparada por CVD, é o melhor material de origem para o crescimento de cristais de carboneto de silício pelo transporte físico de vapor. A densidade da matéria-prima cvd sic de alta pureza fornecida pelo semicondutor de vetek é maior que a de pequenas partículas formadas pela combustão espontânea de gases contendo S e C, e não requer um forno de sinterização dedicado e tem uma taxa de evaporação quase constante. Pode crescer cristais únicos de alta qualidade. Ansioso por sua pergunta.
Transportadora sólida de wafer

Transportadora sólida de wafer

O transportador de wafer SiC do SiC de vetek semicondutor foi projetado para ambientes resistentes a alta temperatura e corrosão em processos epitaxiais de semicondutores e é adequado para todos os tipos de processos de fabricação de wafer com requisitos de alta pureza. O vetek semicondutor é um fornecedor líder de transportadora de bolacha na China e espera se tornar seu parceiro de longo prazo na indústria de semicondutores.
Cabeça de chuveiro em forma de disco SiC

Cabeça de chuveiro em forma de disco SiC

O vetek semicondutor é um fabricante líder de equipamentos de semicondutores na China e um fabricante profissional e fornecedor de chuveiro em forma de disco sólido. A cabeça do chuveiro em forma de disco é amplamente utilizada na produção de deposição de filmes finos, como o processo de CVD, para garantir a distribuição uniforme do gás de reação e é um dos componentes principais do forno CVD.
Parte de vedação sic

Parte de vedação sic

Como um fabricante e fábrica avançado de produtos de vedação da SIC na China. A parte de vedação de vetek semicondutos é um componente de vedação de alto desempenho amplamente utilizado no processamento de semicondutores e outros processos extremos de alta temperatura e alta pressão. Dê boas -vindas à sua consulta adicional.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


Como fabricante e fornecedor profissional Carboneto de silício sólido na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas da sua região ou deseja comprar uma mensagem avançada e durável Carboneto de silício sólido na China, você pode nos deixar uma mensagem.
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