Vetek semicondutor O carboneto de silício sólido é um importante componente de cerâmica em equipamentos de gravura de plasma, carboneto de silício sólido (Carboneto de silício CVD) Peças no equipamento de gravação incluemAnéis de foco, chuveiro a gás, bandeja, anéis de borda, etc. Devido à baixa reatividade e condutividade do carboneto de silício sólido (carboneto de silício de CVD) ao cloro - e gases de gravação contendo fluorina, é um material ideal para equipamentos de gravação de plasma e outros componentes.
Por exemplo, o anel de foco é uma parte importante colocada fora da bolacha e em contato direto com a bolacha, aplicando uma tensão ao anel para focar o plasma que passa pelo anel, concentrando assim o plasma na bolacha para melhorar a uniformidade do processamento. O anel de foco tradicional é feito de silício ouquartzo, Silício condutor como um material de anel de foco comum, está quase próximo da condutividade das bolachas de silício, mas a escassez é baixa resistência de gravação no plasma contendo fluorino, a gravação de materiais de peças da máquina frequentemente usada por um período de tempo, haverá um fenômeno grave de corrosão, reduzindo seriamente sua eficiência da produção.
Sanel de foco olid sicPrincípio de trabalho：
Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC:
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Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC
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Item
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E
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CVD sic
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Densidade (g/cm3)
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2.33
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3.21
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Gap de banda (EV)
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1.12
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2.3
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Condutividade térmica (W/cm ℃)
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1.5
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5
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CTE (x10-6/℃)
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2.6
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4
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Módulo elástico (GPA)
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150
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440
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Dureza (GPA)
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11.4
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24.5
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Resistência ao desgaste e corrosão
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Pobre
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Excelente
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O vetek semicondutor oferece peças avançadas de carboneto de silício sólido (carboneto de silício CVD), como anéis de foco do SIC para equipamentos de semicondutores. Nosso carboneto de silício sólido anéis de foco superam o silício tradicional em termos de resistência mecânica, resistência química, condutividade térmica, durabilidade de alta temperatura e resistência à gravação de íons.
Os principais recursos de nossos anéis de foco no SIC incluem:
Alta densidade para taxas reduzidas de gravação.
Excelente isolamento com um alto desvio de banda.
Alta condutividade térmica e baixo coeficiente de expansão térmica.
Resistência e elasticidade do impacto mecânico superior.
Alta dureza, resistência ao desgaste e resistência à corrosão.
Fabricado usandoDeposição de vapor químico aprimorado por plasma (PECVD)Técnicas, nossos anéis de foco no SIC atendem às crescentes demandas dos processos de gravação na fabricação de semicondutores. Eles foram projetados para suportar maior poder plasmático e energia, especificamente emPlasma capacitivamente acoplado (CCP)sistemas.
Os anéis de foco SIC do VETEK SEMICONDUCOR fornecem desempenho e confiabilidade excepcionais na fabricação de dispositivos semicondutores. Escolha nossos componentes SIC para obter qualidade e eficiência superiores.
