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Anel de foco SiC sólido
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Anel de foco SiC sólido

O anel de foco sólido de SiC Veteksemi melhora significativamente a uniformidade da gravação e a estabilidade do processo, controlando com precisão o campo elétrico e o fluxo de ar na borda do wafer. É amplamente utilizado em processos de gravação de precisão para silício, dielétricos e materiais semicondutores compostos e é um componente chave para garantir o rendimento da produção em massa e a operação confiável do equipamento a longo prazo.

1. Informações gerais sobre o produto

Local de Origem:
China
Marca:
Veteksem
Número do modelo:
Anel de foco SiC sólido-01
Certificação:
ISO9001

2. Termos comerciais do produto

Quantidade mínima de pedido:
Sujeito a negociação
Preço:
Contato para cotação personalizada
Detalhes da embalagem:
Pacote de exportação padrão
Prazo de entrega:
Prazo de entrega: 30-45 dias após a confirmação do pedido
Condições de pagamento:
T/T
Capacidade de fornecimento:
100 unidades/mês

3.Aplicativo:O anel de foco sólido de SiC Veteksemi melhora significativamente a uniformidade da gravação e a estabilidade do processo, controlando com precisão o campo elétrico e o fluxo de ar na borda do wafer. É amplamente utilizado em processos de gravação de precisão para silício, dielétricos e materiais semicondutores compostos e é um componente chave para garantir o rendimento da produção em massa e a operação confiável do equipamento a longo prazo.

Serviços que podem ser prestados:análise de cenário de aplicação do cliente, correspondência de materiais, solução de problemas técnicos.

Perfil de companhia:A Semixlab possui 2 laboratórios, uma equipe de especialistas com 20 anos de experiência em materiais, com P&D e capacidade de produção, teste e verificação.


4.Descrição:

O anel de foco sólido SiC Veteksemi foi projetado especificamente para processos avançados de gravação de semicondutores. Fabricado com precisão a partir de carboneto de silício de alta pureza, oferece excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão por plasma e estabilidade mecânica. Adequado para uma variedade de ambientes exigentes de fabricação de semicondutores, este produto melhora significativamente a uniformidade do processo, estende os ciclos de manutenção do equipamento e reduz os custos gerais de produção.


5.TParâmetros técnicos

Projeto
Parâmetro
Material
Carboneto de silício sinterizado de alta pureza
Densidade
≥3,10g/cm3
Condutividade térmica
120 W/m·K(@25°C)
Coeficiente de expansão térmica
4,0×10-6/°C(20-1000°C)
Rugosidade superficial
Ra≤0,5μm (padrão), pode ser personalizado para 0,2μm
Dispositivos aplicáveis
Aplicável a máquinas de gravação convencionais, como Applied Materials, Lam Research e TEL


6.Principais campos de aplicação

Direção da aplicação
Direção da aplicaçãoCenário típico
Processo de gravação de semicondutores
Gravura em silício, gravação dielétrica, gravação em metal, etc.
Fabricação de dispositivos de alta potência
Processo de gravação de dispositivos baseados em SiC e GaN
Embalagem Avançada
Processo de gravação a seco em embalagens de nível de wafer


7. Vantagens do núcleo do anel de foco SiC sólido Veteksem


Excelente resistência à corrosão por plasma

Sob exposição prolongada a plasmas altamente corrosivos e de alta densidade, como CF4, O2 e Cl2, os materiais convencionais são suscetíveis ao desgaste rápido e à contaminação por partículas. Nosso anel de foco sólido de SiC apresenta excelente resistência à corrosão, com uma taxa de corrosão muito inferior à de materiais como quartzo ou alumina. Isso significa que ele mantém uma superfície lisa ao longo do tempo, reduzindo significativamente o risco de defeitos do wafer causados ​​pelo desgaste dos componentes, garantindo uma produção em massa contínua e estável.


Excelente estabilidade em altas temperaturas e desempenho de gerenciamento térmico

O processo de gravação de semicondutores gera calor significativo, fazendo com que os componentes da câmara sofram flutuações drásticas de temperatura. Nossos anéis de foco possuem um coeficiente de expansão térmica extremamente baixo, capaz de suportar temperaturas transitórias de até 1600°C sem rachaduras ou deformações. Além disso, sua alta condutividade térmica inerente ajuda a dispersar o calor de maneira uniforme e rápida, melhorando efetivamente a distribuição de temperatura na borda do wafer, melhorando assimgravando uniformidade e consistência de dimensões críticas em todo o wafer.


Pureza de material extraordinária e densidade estrutural

Controlamos rigorosamente a pureza das matérias-primas de carboneto de silício (≥99,999%) e eliminamos a contaminação metálica durante o processo de sinterização para atender aos rigorosos requisitos de processos de fabricação avançados para controle de vestígios de impurezas. A estrutura densa formada através da sinterização em alta temperatura possui porosidade extremamente baixa, bloqueando quase completamente a penetração de gases e subprodutos do processo. Isto evita a degradação do desempenho e o crescimento de partículas causadas pela degradação interna do material, garantindo um ambiente puro na câmara de processo.


Vida mecânica duradoura e custo-benefício abrangente

Em comparação com os consumíveis convencionais que requerem substituição frequente, os anéis de foco sólidos de SiC Veteksemi oferecem durabilidade excepcional. Mantêm um desempenho estável durante toda a sua vida útil, prolongando várias vezes os ciclos de substituição. Isto não apenas reduz diretamente os custos de aquisição de peças de reposição, mas também melhora significativamente a utilização da máquina, reduzindo o tempo de inatividade do equipamento para manutenção, resultando em vantagens significativas de custo geral para os clientes.


Controle preciso de tamanho e serviços de personalização flexíveis

Compreendemos os requisitos precisos de diferentes máquinas e processos para consumíveis. Cada anel de foco passa por usinagem de precisão e testes rigorosos para garantir tolerâncias dimensionais críticas dentro de ±0,05 mm. Também oferecemos serviços personalizados, incluindo tamanhos personalizados, acabamentos de superfície (polimento para Ra ≤ 0,2μm) e ajustes de condutividade para atender perfeitamente aos seus requisitos de processo e cenários de aplicação específicos.


Para especificações técnicas detalhadas, white papers ou arranjos de testes de amostra, entre em contato com nossa equipe de suporte técnico para explorar como a Veteksemi pode melhorar a eficiência do seu processo.





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