Processo de deposição de vapor químico anel de borda SiC sólida

CVD Processo anel de borda SiC sólido:

● Material: O anel de foco é fabricado a partir do Solid Sic, um material cerâmico de alta pureza e de alto desempenho. É preparado por deposição de vapor químico. O material SiC sólido fornece durabilidade excepcional, resistência de alta temperatura e excelentes propriedades mecânicas.

●  Vantagens: O anel CVD SiC oferece excelente estabilidade térmica, mantendo sua integridade estrutural, mesmo sob condições de alta temperatura encontradas em processos de gravação a seco. Sua alta dureza garante resistência ao estresse e desgaste mecânicos, levando à vida útil prolongada do serviço. Além disso, o sólido SiC exibe inércia química, protegendo -o da corrosão e mantendo seu desempenho ao longo do tempo.

CVD SIC Coating:

●  Material: O revestimento CVD SiC é uma deposição de filme fino de SiC usando técnicas de deposição de vapor químico (CVD). O revestimento é aplicado em um material de substrato, como grafite ou silício, para fornecer propriedades SIC à superfície.

●  Comparação: Embora os revestimentos CVD SIC ofereçam algumas vantagens, como deposição conforme em formas complexas e propriedades de filme ajustáveis, elas podem não corresponder à robustez e desempenho do SOLL SIC. A espessura do revestimento, a estrutura cristalina e a rugosidade da superfície podem variar com base nos parâmetros do processo CVD, impactando potencialmente a durabilidade do revestimento e o desempenho geral.

Em resumo, o anel de foco do Solid SiC semicondutor vetek é uma escolha excepcional para aplicações de gravação a seco. Seu material SiC sólido garante resistência de alta temperatura, excelente dureza e inércia química, tornando-a uma solução confiável e duradoura. Enquanto o revestimento CVD SiC oferece flexibilidade na deposição, o anel CVD SiC se destaca em fornecer durabilidade e desempenho incomparáveis ​​necessários para exigir processos de gravação a seco.

Propriedades físicas do SOLL SIC