Anel de foco de gravação sólida de SiC

A VeTek Semiconductor fez grandes progressos na tecnologia CVD Solid SiC e agora é capaz de produzir anel de focagem de gravação em SiC sólido com nível de liderança mundial. O anel de foco de gravação de SiC sólido da VeTek Semiconductor é um produto de material de carboneto de silício de ultra-alta pureza criado através do processo de deposição química de vapor.

O anel de foco de gravação SiC SiC é usado em processos de fabricação de semicondutores, particularmente em sistemas de gravura plasmática. O anel de foco do SIC é um componente crucial que ajuda a alcançar a gravação precisa e controlada das bolachas de carboneto de silício (sic).

Durante o processo de gravação a plasma, o anel de foco desempenha várias funções, como segue:

● Focando o plasma: O anel de foco de gravação sólido da SIC ajuda a moldar e concentrar o plasma ao redor da bolacha, garantindo que o processo de gravação ocorra de maneira uniforme e eficiente. Ajuda a limitar o plasma à área desejada, impedindo a gravação dispersa ou danos às regiões circundantes.

●  Protegendo as paredes da câmara: O anel de foco atua como uma barreira entre o plasma e as paredes da câmara, impedindo o contato direto e os possíveis danos. O SiC é altamente resistente à erosão plasmático e oferece excelente proteção para as paredes da câmara.

●  Tcontrole de temperatura: O anel de foco sic ajuda a manter a distribuição uniforme da temperatura em todo o wafer durante o processo de gravação. Ajuda a dissipar o calor e evita superaquecimento localizado ou gradientes térmicos que podem afetar os resultados da gravação.

O SiC sólido é escolhido para anéis de foco devido à sua excelente estabilidade térmica e química, alta resistência mecânica e resistência à erosão por plasma. Essas propriedades tornam o SiC um material adequado para as condições adversas e exigentes dentro dos sistemas de gravação a plasma.

Vale a pena notar que o design e as especificações dos anéis de foco podem variar dependendo do sistema específico de gravação de plasma e requisitos de processo. O vetek semicondutor otimiza a forma, as dimensões e as características da superfície dos anéis de foco para garantir o desempenho e a longevidade da gravação ideais. O sólido SiC é amplamente utilizado para transportadores de bolacas, suscetores, bolacha fictícia, anéis de guia, peças para processo de gravação, processo de CVD, etc.