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O vetek semicondutor é um pioneiro da indústria especializado no desenvolvimento, produção e marketing de pó de alta pureza, conhecido por sua pureza ultra-alta, distribuição uniforme de tamanho de partícula e excelente estrutura cristalina. A empresa possui uma equipe de pesquisa e desenvolvimento composta por especialistas seniores para promover constantemente a inovação tecnológica. Com tecnologia e equipamento avançado de produção, a pureza, o tamanho das partículas e o desempenho do pó de alta pureza podem ser controlados com precisão. O rigoroso controle de qualidade garante que cada lote atenda aos padrões mais exigentes do setor, fornecendo um material base estável e confiável para suas aplicações de ponta.
1. Alta pureza: o conteúdo de SiC é de 99,9999%, o conteúdo de impureza é muito baixo, o que reduz o impacto adverso no desempenho dos dispositivos semicondutores e fotovoltaicos e melhora a consistência e a confiabilidade dos produtos.
2. Excelentes propriedades físicas: incluindo alta dureza, alta resistência e alta resistência ao desgaste, para que possa manter uma boa estabilidade estrutural durante o processamento e o uso.
3. Alta condutividade térmica: pode realizar rapidamente calor, ajudar a melhorar a eficiência de dissipação de calor do dispositivo, reduzir a temperatura de operação, estendendo assim a vida útil do dispositivo.
4. Baixo coeficiente de expansão: a mudança de tamanho é pequena quando a temperatura muda, reduzindo o rachadura do material ou o declínio do desempenho causado pela expansão e contração térmica.
5. Boa estabilidade química: a resistência à corrosão ácida e alcalina, pode permanecer estável em um ambiente químico complexo.
6. Características de gap de banda larga: com alta resistência ao campo elétrico de ruptura e velocidade de desvio de saturação de elétrons, adequada para fabricar dispositivos de alta temperatura, alta pressão, alta frequência e de alta potência.
7. Mobilidade de Alta Eletrônica: É propício a melhorar a velocidade de trabalho e a eficiência dos dispositivos semicondutores.
8. Proteção ambiental: poluição relativamente pequena para o meio ambiente no processo de produção e uso.
Indústria de semicondutores:
- Material do substrato: o pó SiC de alta pureza pode ser usado para fabricar substrato de carboneto de silício, que pode ser usado para fabricar dispositivos de alta frequência, alta temperatura e alta pressão e dispositivos de RF.
Crescimento epitaxial: No processo de fabricação de semicondutores, o pó de carboneto de silício de alta pureza pode ser usado como matéria-prima para o crescimento epitaxial, que é usado para cultivar camadas epitaxiais de carboneto de silício de alta qualidade no substrato.
Materiais de embalagem: o pó de carboneto de silício de alta pureza pode ser usado para fabricar materiais de embalagem de semicondutores para melhorar o desempenho e a confiabilidade da dissipação de calor da embalagem.
Indústria fotovoltaica:
Células de silício cristalino: No processo de fabricação de células de silício cristalino, o pó de carboneto de silício de alta pureza pode ser usado como fonte de difusão para a formação de junções P-N.
- Bateria de filme fino: no processo de fabricação de bateria de filme fino, o pó de carboneto de silício de alta pureza pode ser usado como alvo para a deposição de deposição de sputering de filme de carboneto de silício.
Especificação de pó de carboneto de silício | ||
Pureza | g / cm3 | 99.9999 |
Densidade | 3.15-3.20 | 3.15-3.20 |
Módulo elástico | GPA | 400-450 |
Dureza | HV (0,3) kg/mm2 | 2300-2850 |
Tamanho de partícula | malha | 200 ~ 25000 |
Resistência à fratura | MPA.M1/2 | 3.5-4.3 |
Resistividade elétrica | ohm-cm | 100-107 |
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Veteksemicon offers high-purity silicon carbide (SiC) powder tailored for advanced semiconductor applications including single crystal growth, ceramic sintering, and high-performance coating formulations.
Our powders are synthesized through controlled processes to achieve exceptional purity levels (≥99.999%), low oxygen and metallic contamination, and narrow particle size distributions. This makes them ideal for use in CVD SiC growth, epitaxial layer support, high-density sintered parts, and thermal spray applications. The material is available in various grades—α-SiC and β-SiC—each selected based on crystallography, surface area, and flow characteristics.
Our powders are compatible with additive manufacturing, vacuum plasma spraying (VPS), and hot isostatic pressing (HIP), offering flexibility across R&D and production scales. From bulk lots for crucible production to micro-powders for fine-layer coatings, Veteksemicon ensures consistent batch quality, tight impurity control, and COA traceability.
To request a product spec sheet, MSDS, or discuss custom grading options, visit Veteksemicon’s High Purity SiC Powder page or get in touch with our technical sales team.
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