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Anel de foco de carboneto de silício
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Anel de foco de carboneto de silício

O anel de foco Veteksemicon foi projetado especificamente para equipamentos exigentes de gravação de semicondutores, especialmente aplicações de gravação de SiC. Montado ao redor do mandril eletrostático (ESC), próximo ao wafer, sua função principal é otimizar a distribuição do campo eletromagnético dentro da câmara de reação, garantindo ação de plasma uniforme e focada em toda a superfície do wafer. Um anel de foco de alto desempenho melhora significativamente a uniformidade da taxa de gravação e reduz os efeitos de borda, aumentando diretamente o rendimento do produto e a eficiência da produção.

Informações gerais do produto

Local de Origem:
China
Marca:
Meu rival
Número do modelo:
Anel de foco SiC-01
Certificação:
ISO9001


Termos comerciais do produto

Quantidade mínima de pedido:
Sujeito a negociação
Preço:
Contato para cotação personalizada
Detalhes da embalagem:
Pacote de exportação padrão
Prazo de entrega:
Prazo de entrega: 30-45 dias após a confirmação do pedido
Condições de pagamento:
T/T
Capacidade de fornecimento:
500 unidades/mês


Aplicativo: Em processos de gravação a seco de semicondutores, o anel de foco é um componente chave que garante a uniformidade do processo. Ele envolve firmemente o wafer e, ao controlar com precisão a distribuição do plasma nas bordas do wafer, determina diretamente a uniformidade e consistência do processo de gravação, tornando-o uma parte indispensável para garantir o rendimento do chip.


Serviços que podem ser fornecidos: análise de cenários de aplicação do cliente, correspondência de materiais, resolução de problemas técnicos.


Perfil da empresa:A Veteksemicon possui 2 laboratórios, uma equipe de especialistas com 20 anos de experiência em materiais, com P&D e capacidade de produção, teste e verificação.


Parâmetros Técnicos

projeto
parâmetro
Materiais Principais
SiC sinterizado de alta pureza
Materiais opcionais
SiC revestido pode ser personalizado de acordo com as necessidades do cliente
Processos aplicáveis
Gravura de SiC, Gravura profunda de Si, outra gravação de semicondutores compostos
Dispositivos aplicáveis
Aplicável às principais plataformas de equipamentos de gravação a seco (modelos específicos podem ser personalizados)
Dimensões principais
Personalizado de acordo com o modelo do equipamento do cliente e requisitos de desenho
Rugosidade superficial
Ra ≤ 0,2 μm (pode ser ajustado de acordo com os requisitos do processo)
Principais recursos
Alta resistência à corrosão, alta pureza, alta dureza, excelente estabilidade térmica e baixa formação de partículas


Vantagens principais do anel de foco Meu rival


1. Ciência de materiais excepcional, nascida para ambientes agressivos


Nosso material selecionado de carboneto de silício de alta pureza e alta densidade pode suportar facilmente o intenso bombardeio de plasma e a corrosão de gases químicos contendo flúor durante o processo de gravação de SiC. Sua excelente resistência à corrosão se traduz diretamente em uma vida útil mais longa e menor frequência de substituição de componentes, não apenas reduzindo o tempo de inatividade do equipamento, mas também reduzindo significativamente o risco de contaminação por partículas causada pelo desgaste dos componentes, proporcionando uma relação custo-benefício abrangente, estável e de longo prazo.


2. O projeto de engenharia preciso garante um processo consistente


Cada anel de foco Veteksemicon passa por usinagem CNC de ultraprecisão para garantir que as principais dimensões, como planicidade, diâmetro interno e altura do degrau, atinjam precisão de nível mícron, garantindo a correspondência perfeita com o fabricante do equipamento original (OEM). Nossa equipe de engenharia otimiza ainda mais o perfil usando simulação de plasma. Este design orienta efetivamente o campo elétrico, reduzindo a corrosão anormal nas bordas do wafer e, assim, controlando a uniformidade da gravação de todo o wafer a um nível extremo.


3. Desempenho confiável melhora a eficiência da produção


Em ambientes exigentes de produção em massa, o valor total dos nossos produtos é concretizado. Ao garantir uma distribuição de plasma concentrada e estável, o anel de foco Veteksemicon contribui diretamente para melhorar a uniformidade da taxa de gravação e otimizar a repetibilidade do processo lote a lote. Isso significa que sua linha de produção pode fornecer consistentemente produtos de alto rendimento, ao mesmo tempo que se beneficia de ciclos de manutenção mais longos, reduzindo efetivamente os custos de consumíveis por wafer e proporcionando uma vantagem competitiva significativa.


4. Endosso de verificação da cadeia ecológica


A verificação da cadeia ecológica do anel de foco Veteksemicon cobre matérias-primas até a produção, passou pela certificação de padrão internacional e possui uma série de tecnologias patenteadas para garantir sua confiabilidade e sustentabilidade nos campos de semicondutores e novas energias.


Para especificações técnicas detalhadas, white papers ou arranjos de testes de amostra, entre em contato com nossa equipe de suporte técnico para explorar como a Veteksemicon pode melhorar a eficiência do seu processo.


Principais campos de aplicação

Direção da aplicação
Cenário típico
Fabricação de dispositivos de energia SiC
Gravação de gate e mesa de MOSFET, SBD, IGBT e outros dispositivos.
Dispositivos RF GaN-on-SiC
Processo de gravação para dispositivos de radiofrequência de alta frequência e alta potência.
Gravura profunda do dispositivo MEMS
Processamento de sistema microeletromecânico que possui requisitos extremamente elevados em morfologia e uniformidade de gravação.


Loja de produtos Meu rival

Veteksemicon products shop


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