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Carboneto de silício sólido

Vetek semicondutor O carboneto de silício sólido é um importante componente de cerâmica em equipamentos de gravura de plasma, carboneto de silício sólido (Carboneto de silício CVD) Peças no equipamento de gravação incluemAnéis de foco, chuveiro a gás, bandeja, anéis de borda, etc. Devido à baixa reatividade e condutividade do carboneto de silício sólido (carboneto de silício de CVD) ao cloro - e gases de gravação contendo fluorina, é um material ideal para equipamentos de gravação de plasma e outros componentes.


Por exemplo, o anel de foco é uma parte importante colocada fora da bolacha e em contato direto com a bolacha, aplicando uma tensão ao anel para focar o plasma que passa pelo anel, concentrando assim o plasma na bolacha para melhorar a uniformidade do processamento. O anel de foco tradicional é feito de silício ouquartzo, Silício condutor como um material de anel de foco comum, está quase próximo da condutividade das bolachas de silício, mas a escassez é baixa resistência de gravação no plasma contendo fluorino, a gravação de materiais de peças da máquina frequentemente usada por um período de tempo, haverá um fenômeno grave de corrosão, reduzindo seriamente sua eficiência da produção.


Sanel de foco olid sicPrincípio de trabalho

Working Principle of Solid SiC Focus Ring


Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC:

Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC
Item E CVD sic
Densidade (g/cm3) 2.33 3.21
Gap de banda (EV) 1.12 2.3
Condutividade térmica (W/cm ℃) 1.5 5
CTE (x10-6/℃) 2.6 4
Módulo elástico (GPA) 150 440
Dureza (GPA) 11.4 24.5
Resistência ao desgaste e corrosão Pobre Excelente


O vetek semicondutor oferece peças avançadas de carboneto de silício sólido (carboneto de silício CVD), como anéis de foco do SIC para equipamentos de semicondutores. Nosso carboneto de silício sólido anéis de foco superam o silício tradicional em termos de resistência mecânica, resistência química, condutividade térmica, durabilidade de alta temperatura e resistência à gravação de íons.


Os principais recursos de nossos anéis de foco no SIC incluem:

Alta densidade para taxas reduzidas de gravação.

Excelente isolamento com um alto desvio de banda.

Alta condutividade térmica e baixo coeficiente de expansão térmica.

Resistência e elasticidade do impacto mecânico superior.

Alta dureza, resistência ao desgaste e resistência à corrosão.

Fabricado usandoDeposição de vapor químico aprimorado por plasma (PECVD)Técnicas, nossos anéis de foco no SIC atendem às crescentes demandas dos processos de gravação na fabricação de semicondutores. Eles foram projetados para suportar maior poder plasmático e energia, especificamente emPlasma capacitivamente acoplado (CCP)sistemas.

Os anéis de foco SIC do VETEK SEMICONDUCOR fornecem desempenho e confiabilidade excepcionais na fabricação de dispositivos semicondutores. Escolha nossos componentes SIC para obter qualidade e eficiência superiores.


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Silicon Carbide Chuveiro

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O chuveiro de carboneto de silício possui excelente tolerância a alta temperatura, estabilidade química, condutividade térmica e bom desempenho de distribuição de gás, que podem obter distribuição uniforme de gás e melhorar a qualidade do filme. Portanto, geralmente é usado em processos de alta temperatura, como deposição de vapor químico (DCV) ou processos de deposição de vapor físico (PVD). Dê boas -vindas à sua consulta adicional, vetek semicondutor.
Anel de vedação de carboneto de silício

Anel de vedação de carboneto de silício

Como fabricante e fábrica profissional de produtos de anel de selo de carboneto de silício na China, o anel de vedação de carboneto de silício de vetek semicondutor é amplamente utilizado em equipamentos de processamento de semicondutores devido à sua excelente resistência ao calor, resistência à corrosão, resistência mecânica e condutividade térmica. É especialmente adequado para processos que envolvem gases de alta temperatura e reativos, como DCV, PVD e gravura plasmática, e é uma escolha de material essencial no processo de fabricação de semicondutores. Suas mais perguntas são bem -vindas.
CVD SiC Block para crescimento de cristal SiC

CVD SiC Block para crescimento de cristal SiC

CVD SiC Block para crescimento de cristais SiC, é uma nova matéria -prima de alta pureza desenvolvida pelo vetek semicondutor. Possui uma alta taxa de entrada e saída e pode cultivar cristais únicos de carboneto de silício de alta qualidade e de tamanho grande, que é um material de segunda geração para substituir o pó usado no mercado hoje. Bem -vindo a discutir questões técnicas.
SiC Crystal Growth New Technology

SiC Crystal Growth New Technology

O carboneto de silício de pureza de pureza de vetek semicondutor (SIC) formado pela deposição de vapor químico (DCV) é recomendado para ser usado como material de origem para cultivar cristais de carboneto de silício por transporte físico de vapor (PVT). Na nova tecnologia de crescimento do cristal SiC, o material de origem é carregado em um cadinho e sublimado em um cristal de semente. Use os blocos CVD-SIC de alta pureza para ser uma fonte para o crescimento de cristais SiC. Bem -vindo a estabelecer uma parceria conosco.
Cvd sic chuveiro

Cvd sic chuveiro

O vetek semicondutor é um dos principais fabricantes de cabeças de chuveiro da CVD SIC na China. Fomos especializados em material SiC por muitos anos. Cabeça de chuveiro CVD SIC é escolhida como um material de foco devido à sua excelente estabilidade termoquímica, alta resistência mecânica e resistência à erosão plasmática. Estamos ansiosos para nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
SIC SHOW Head

SIC SHOW Head

O Vetek Semiconductor é um dos principais fabricantes e inovadores do SiC Subster na China. Fomos especializados em material SiC há muitos anos. O chuveiro ssic é escolhido como um material de anel de foco devido à sua excelente estabilidade termoquímica, alta resistência mecânica e resistência à erosão do plasma. Esperamos avançar para se tornar seu parceiro longo na China.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


Como fabricante e fornecedor profissional Carboneto de silício sólido na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas da sua região ou deseja comprar uma mensagem avançada e durável Carboneto de silício sólido na China, você pode nos deixar uma mensagem.
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