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Carboneto de silício sólido

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Silicon Carbide Chuveiro

Silicon Carbide Chuveiro

O chuveiro de carboneto de silício possui excelente tolerância a alta temperatura, estabilidade química, condutividade térmica e bom desempenho de distribuição de gás, que podem obter distribuição uniforme de gás e melhorar a qualidade do filme. Portanto, geralmente é usado em processos de alta temperatura, como deposição de vapor químico (DCV) ou processos de deposição de vapor físico (PVD). Dê boas -vindas à sua consulta adicional, vetek semicondutor.
Anel de vedação de carboneto de silício

Anel de vedação de carboneto de silício

Como fabricante e fábrica profissional de produtos de anel de selo de carboneto de silício na China, o anel de vedação de carboneto de silício de vetek semicondutor é amplamente utilizado em equipamentos de processamento de semicondutores devido à sua excelente resistência ao calor, resistência à corrosão, resistência mecânica e condutividade térmica. É especialmente adequado para processos que envolvem gases de alta temperatura e reativos, como DCV, PVD e gravura plasmática, e é uma escolha de material essencial no processo de fabricação de semicondutores. Suas mais perguntas são bem -vindas.
Susceptor RTP revestido com CVD SiC

Susceptor RTP revestido com CVD SiC

O susceptor RTP revestido com SiC CVD da VeTek Semiconductor atende equipamentos de processamento térmico rápido (RTP) e recozimento térmico rápido (RTA) usados ​​na fabricação de semicondutores. O substrato é usinado a partir de grafite isostática de alta pureza, sobre a qual é depositada uma densa camada de carboneto de silício (SiC) CVD. Esta construção produz alta condutividade térmica, inércia química robusta e estabilidade dimensional sustentada sob repetidos ciclos de alta temperatura.
CVD SiC Block para crescimento de cristal SiC

CVD SiC Block para crescimento de cristal SiC

CVD SiC Block para crescimento de cristais SiC, é uma nova matéria -prima de alta pureza desenvolvida pelo vetek semicondutor. Possui uma alta taxa de entrada e saída e pode cultivar cristais únicos de carboneto de silício de alta qualidade e de tamanho grande, que é um material de segunda geração para substituir o pó usado no mercado hoje. Bem -vindo a discutir questões técnicas.
SiC Crystal Growth New Technology

SiC Crystal Growth New Technology

O carboneto de silício de pureza de pureza de vetek semicondutor (SIC) formado pela deposição de vapor químico (DCV) é recomendado para ser usado como material de origem para cultivar cristais de carboneto de silício por transporte físico de vapor (PVT). Na nova tecnologia de crescimento do cristal SiC, o material de origem é carregado em um cadinho e sublimado em um cristal de semente. Use os blocos CVD-SIC de alta pureza para ser uma fonte para o crescimento de cristais SiC. Bem -vindo a estabelecer uma parceria conosco.
Cvd sic chuveiro

Cvd sic chuveiro

O vetek semicondutor é um dos principais fabricantes de cabeças de chuveiro da CVD SIC na China. Fomos especializados em material SiC por muitos anos. Cabeça de chuveiro CVD SIC é escolhida como um material de foco devido à sua excelente estabilidade termoquímica, alta resistência mecânica e resistência à erosão plasmática. Estamos ansiosos para nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.


Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.


Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.


To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.


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