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Vetek semicondutor O carboneto de silício sólido é um importante componente de cerâmica em equipamentos de gravura de plasma, carboneto de silício sólido (Carboneto de silício CVD) Peças no equipamento de gravação incluemAnéis de foco, chuveiro a gás, bandeja, anéis de borda, etc. Devido à baixa reatividade e condutividade do carboneto de silício sólido (carboneto de silício de CVD) ao cloro - e gases de gravação contendo fluorina, é um material ideal para equipamentos de gravação de plasma e outros componentes.
Por exemplo, o anel de foco é uma parte importante colocada fora da bolacha e em contato direto com a bolacha, aplicando uma tensão ao anel para focar o plasma que passa pelo anel, concentrando assim o plasma na bolacha para melhorar a uniformidade do processamento. O anel de foco tradicional é feito de silício ouquartzo, Silício condutor como um material de anel de foco comum, está quase próximo da condutividade das bolachas de silício, mas a escassez é baixa resistência de gravação no plasma contendo fluorino, a gravação de materiais de peças da máquina frequentemente usada por um período de tempo, haverá um fenômeno grave de corrosão, reduzindo seriamente sua eficiência da produção.
Sanel de foco olid sicPrincípio de trabalho:
Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC:
Comparação do anel de foco baseado em SI e anel de foco CVD SIC | ||
Item | E | CVD sic |
Densidade (g/cm3) | 2.33 | 3.21 |
Gap de banda (EV) | 1.12 | 2.3 |
Condutividade térmica (W/cm ℃) | 1.5 | 5 |
CTE (x10-6/℃) | 2.6 | 4 |
Módulo elástico (GPA) | 150 | 440 |
Dureza (GPA) | 11.4 | 24.5 |
Resistência ao desgaste e corrosão | Pobre | Excelente |
O vetek semicondutor oferece peças avançadas de carboneto de silício sólido (carboneto de silício CVD), como anéis de foco do SIC para equipamentos de semicondutores. Nosso carboneto de silício sólido anéis de foco superam o silício tradicional em termos de resistência mecânica, resistência química, condutividade térmica, durabilidade de alta temperatura e resistência à gravação de íons.
Alta densidade para taxas reduzidas de gravação.
Excelente isolamento com um alto desvio de banda.
Alta condutividade térmica e baixo coeficiente de expansão térmica.
Resistência e elasticidade do impacto mecânico superior.
Alta dureza, resistência ao desgaste e resistência à corrosão.
Fabricado usandoDeposição de vapor químico aprimorado por plasma (PECVD)Técnicas, nossos anéis de foco no SIC atendem às crescentes demandas dos processos de gravação na fabricação de semicondutores. Eles foram projetados para suportar maior poder plasmático e energia, especificamente emPlasma capacitivamente acoplado (CCP)sistemas.
Os anéis de foco SIC do VETEK SEMICONDUCOR fornecem desempenho e confiabilidade excepcionais na fabricação de dispositivos semicondutores. Escolha nossos componentes SIC para obter qualidade e eficiência superiores.
Veteksemicon solid silicon carbide is the ideal procurement material for high-temperature, high-strength, and corrosion-resistant components used in semiconductor and industrial applications. As a fully dense, monolithic ceramic, solid silicon carbide (SiC) offers unmatched mechanical rigidity, extreme thermal conductivity, and exceptional chemical durability in harsh processing environments. Veteksemicon’s solid SiC is specifically developed for critical structural applications such as SiC wafer carriers, cantilever paddles, susceptors, and showerheads in semiconductor equipment.
Manufactured through pressureless sintering or reaction bonding, our solid silicon carbide parts exhibit excellent wear resistance and thermal shock performance, even at temperatures above 1600°C. These properties make solid SiC the preferred material for CVD/PECVD systems, diffusion furnaces, and oxidation furnaces, where long-term thermal stability and purity are essential.
Veteksemicon also offers custom-machined SiC parts, enabling tight dimensional tolerances, high surface quality, and application-specific geometries. Additionally, solid SiC is non-reactive in both oxidizing and reducing atmospheres, enhancing its suitability for plasma, vacuum, and corrosive gas environments.
To explore our full range of solid silicon carbide components and discuss your project specifications, please visit the Veteksemicon product detail page or contact us for technical support and quotations.
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