Tecnologia de carboneto Tantalum Avanço, poluição epitaxial do SiC reduzida em 75%?

Recentemente, o Instituto de Pesquisa Alemão Fraunhofer IISB fez um avanço na pesquisa e desenvolvimento deTecnologia de revestimento de carboneto de Tantalume desenvolveu uma solução de revestimento por spray mais flexível e ecológica que a solução de deposição de CVD e foi comercializada.

E o semicondutor de vetek doméstico também fez avanços nesse campo, veja abaixo os detalhes.

Fraunhofer iisb:

Desenvolvendo uma nova tecnologia de revestimento TAC

Em 5 de março, de acordo com a mídia "Semicondutor composto", Fraunhofer iisb desenvolveu um novoTecnologia de revestimento de carboneto de Tantalum (TAC)-TacCotta. A licença de tecnologia foi transferida para o Nippon Kornmeyer Carbon Group (NKCG) e o NKCG começou a fornecer peças de grafite revestidas com TAC para seus clientes.

O método tradicional de produzir revestimentos TAC na indústria é a deposição de vapor químico (DCV), que enfrenta desvantagens, como altos custos de fabricação e longos prazos de entrega. Além disso, o método CVD também é propenso a rachaduras do TAC durante aquecimento repetido e resfriamento dos componentes. Essas rachaduras expõem a grafite subjacente, que se degrada severamente ao longo do tempo e precisa ser substituída.

A inovação da taccotta é que ele usa um método de revestimento de pulverização à base de água seguido de tratamento de temperatura para formar um revestimento TAC com alta estabilidade mecânica e espessura ajustável nosubstrato de grafite. A espessura do revestimento pode ser ajustada de 20 mícrons para 200 mícrons para atender aos diferentes requisitos de aplicação.

A tecnologia de processo TAC desenvolvida pelo Fraunhofer IISB pode ajustar as propriedades de revestimento necessárias, como espessura, como mostrado abaixo na faixa de 35μm a 110 μm.

Especificamente, o revestimento com spray de taccotta também possui os seguintes recursos e vantagens importantes:

● Mais amigável ao meio ambiente: com o revestimento de pulverização à base de água, esse método é mais ecológico e fácil de industrializar;

● Flexibilidade: a tecnologia de taccotta pode se adaptar aos componentes de diferentes tamanhos e geometrias, permitindo revestimento parcial e reforma de componentes, o que não é possível em DCV.

● Poluição reduzida de tântalo: os componentes de grafite com revestimento de taccotta são usados ​​na fabricação epitaxial do SiC, e a poluição do tântalo é reduzida em 75% em comparação com a existenteRevestimentos CVD.

● Resistência ao desgaste: os testes de arranhões mostram que aumentar a espessura do revestimento pode melhorar significativamente a resistência ao desgaste.

Teste de arranhão

É relatado que a tecnologia foi promovida para comercialização pela NKCG, uma joint venture com foco no fornecimento de materiais de grafite de alto desempenho e produtos relacionados. O NKCG também participará do desenvolvimento da tecnologia de taccotta por um longo tempo no futuro. A empresa começou a fornecer componentes de grafite com base na tecnologia de taccotta para seus clientes.

Vetek semicondutor promove a localização do TAC

No início de 2023, o vetek semicondutor lançou uma nova geração deCrescimento do cristal SiCmaterial de campo térmico-carboneto poroso de tântalo.

Segundo relatos, o vetek semicondutor lançou um avanço no desenvolvimento decarboneto poroso de tântalocom grande porosidade por meio de pesquisa e desenvolvimento de tecnologia independente. Sua porosidade pode atingir até 75%, alcançando a liderança internacional.