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Anel de revestimento tac cvd
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Anel de revestimento tac cvd

Na indústria de semicondutores, o anel de revestimento CVD TAC é um componente altamente vantajoso projetado para atender aos requisitos exigentes dos processos de crescimento de cristal de carboneto de silício (SIC). O anel de revestimento TAC CVD TAC do VETEK SEMICONDUTOR fornece excelente resistência de alta temperatura e inércia química, tornando-a uma escolha ideal para ambientes caracterizados por temperaturas elevadas e condições corrosivas. Estamos comprometidos em criar uma produção eficiente de acessórios de cristal único de carboneto de silício. Por favor, sinta -se à vontade para entrar em contato conosco para mais perguntas.

VETEKSEMICON CVD TAC Anel de revestimento é um componente crítico para o sucesso do crescimento de cristal único de carboneto de silício. Com sua resistência de alta temperatura, inércia química e desempenho superior, garante a produção de cristais de alta qualidade com resultados consistentes. Confie em nossas soluções inovadoras para elevar seus processos de crescimento de cristal de PVT e alcançar resultados excepcionais.


SiC Crystal Growth Furnace

Durante o crescimento de cristais únicos de carboneto de silício, o anel de revestimento de carboneto de Tantalum CVD desempenha um papel crucial na garantia de resultados ideais. Suas dimensões precisas e revestimento TAC de alta qualidade permitem distribuição uniforme de temperatura, minimizando o estresse térmico e promovendo a qualidade do cristal. A condutividade térmica superior do revestimento TAC facilita a dissipação de calor eficiente, contribuindo para maiores taxas de crescimento e melhorar as características cristalinas. Sua construção robusta e excelente estabilidade térmica garantem desempenho confiável e vida útil prolongada, reduzindo a necessidade de substituições frequentes e minimizando o tempo de inatividade da produção.


A inércia química do anel de revestimento TAC CVD é essencial na prevenção de reações e contaminação indesejadas durante o processo de crescimento do cristal SiC. Ele fornece uma barreira protetora, mantendo a integridade do cristal e minimizando as impurezas. Isso contribui para a produção de cristais únicos sem defeitos e de alta qualidade, com excelentes propriedades elétricas e ópticas.


Além de seu desempenho excepcional, o anel de revestimento CVD TAC foi projetado para facilitar a instalação e a manutenção. Sua compatibilidade com o equipamento existente e a integração perfeita garante a operação simplificada e o aumento da produtividade.


Conte com o veteksemicon e nosso anel de revestimento CVD TAC para um desempenho confiável e eficiente, posicionando -o na vanguarda da tecnologia de crescimento de cristais SiC.


Método Pvt Sic Crystal Cresch:



Especificação do CVD Tantalum Carboking Coating Anel:

Propriedades físicas do revestimento TAC
Densidade 14.3 (g/cm³)
Emissividade específica 0.3
Coeficiente de expansão térmica 6.3*10-6/K
Dureza (hk) 2000 HK
Resistência 1 × 10-5Ohm*cm
Estabilidade térmica <2500 ℃
Mudanças de tamanho de grafite -10 ~ -20um
Espessura do revestimento ≥20um valor típico (35um ± 10um)

Visão geral do semicondutor Cadeia da indústria de epitaxia de chip:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy


É semicondutorAnel de revestimento tac cvdLoja de produção

SiC Graphite substrateGraphite Heating Unit testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment


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