Anel revestido de carboneto de tântalo

Vetek semicondutor tantalum carboneto revestido de carboneto é criado degrafitee revestido com carboneto de Tantalum, uma combinação que aproveita as melhores propriedades de ambos os materiais para garantir desempenho e longevidade superiores. 

O revestimento TAC no anel de revestimento de carboneto de tântalo garante que ele permaneça quimicamente inerte nas atmosferas reativas dos fornos de crescimento de cristais SiC, que geralmente envolvem gases como hidrogênio, argônio e nitrogênio. Essa inércia química é vital para impedir qualquer contaminação do cristal em crescimento, o que pode levar a defeitos e o desempenho reduzido dos produtos semicondutores finais. Além disso, a estabilidade térmica fornecida pelo revestimento TAC permite que o anel de revestimento de carboneto de tântalo opere efetivamente nas altas temperaturas necessárias para o crescimento do cristal de SiC, normalmente superior a 2000 ° C.

O revestimento TAC denso e uniforme pode ser preparado na superfície de grafite por pulverização de plasma, método CVD e método de sinterização de pasta, mas o método de pulverização de plasma tem requisitos de alto equipamento e formação de TA2C. É difícil preparar o revestimento composto pelo método de sinterização da pasta, e a resistência ao choque térmico do revestimento é ruim. O revestimento preparado pelo método CVD possui composição controlável e maior densidade, que é um método comum de revestimento de carboneto de tântalo no momento.

As propriedades mecânicas do TAC reduzem bastante o desgaste no anel de revestimento de carboneto de tântalo. Isso é crucial devido à natureza repetitiva do processo de crescimento de cristais, que expõe o anel guia a ciclos térmicos frequentes e tensões mecânicas. A dureza e a resistência do desgaste do TAC garantem que o anel revestido com TAC mantenha sua integridade estrutural e dimensões precisas por longos períodos, minimizando a necessidade de substituições frequentes e reduzindo o tempo de inatividade no processo de fabricação. 

A densidade a granel do revestimento de carboneto de tântalo é de 14,3gm/cm3, emissividade 0,3, dureza é 2000HK, o ponto de fusão é 3950S ℃ e boas propriedades físicas foram selecionadas como material comum para a terceira geração de semicondutores.

Além disso, a combinação de grafite e TAC no anel de revestimento de carboneto de Tantalum otimiza o gerenciamento térmico dentro do forno de crescimento de cristais. A alta condutividade térmica da grafite distribui com eficiência o calor, impedindo pontos e promovendo o crescimento uniforme de cristais. Enquanto isso, o revestimento TAC serve como uma barreira térmica, protegendo o núcleo de grafite da exposição direta a altas temperaturas e gases reativos. Essa sinergia entre o núcleo e os materiais de revestimento resulta em um anel de guia que não apenas suporta as duras condições deCrescimento do cristal SiCmas também aprimora a eficiência geral e a qualidade do processo.

Vetek semicondutor tantalum carboneto revestido de carboneto é um componente essencial na indústria de semicondutores, projetado especificamente para o crescimento deCristais de carboneto de silício. Seu design aproveita os pontos fortes do carboneto de grafite e do tântalo para oferecer desempenho excepcional em ambientes de alta temperatura e alta estresse. O revestimento TAC garante a inércia química, a durabilidade mecânica e a estabilidade térmica, todos críticos para produzir cristais SIC de alta qualidade. Ao manter sua integridade e funcionalidade em condições extremas, o anel suporta o crescimento eficiente e livre de defeitos de cristais SiC, contribuindo para o avanço de dispositivos semicondutores de alta e alta frequência.

Vetek semicondutor é um fabricante líder e fornecedor deTantalum Carboking Coating, Revestimento de carboneto de silícioeGrafite especialna China. Há muito tempo estamos comprometidos em fornecer soluções avançadas de tecnologia e produto para a indústria de semicondutores e, sinceramente, esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.

Revestimento de carboneto de tântalo (tac)em uma seção transversal microscópica：

Visão geral doCadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores：