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CVDsic(Carboneto de silício de deposição de vapor químico) é um material de carboneto de silício de alta pureza fabricado pela deposição de vapor químico. É usado principalmente para vários componentes e revestimentos em equipamentos de processamento de semicondutores. CVDMaterial SiCpossui excelente estabilidade térmica, alta dureza, baixo coeficiente de expansão térmica e excelente resistência à corrosão química, tornando -o um material ideal para uso sob condições extremas do processo.
O material CVD SiC é amplamente utilizado em componentes envolvendo alta temperatura, ambiente altamente corrosivo e alto estresse mecânico no processo de fabricação de semicondutores.
● Cvd SiC Coating
É usado como uma camada protetora para equipamentos de processamento de semicondutores para impedir que o substrato seja danificado por alta temperatura, corrosão química e desgaste mecânico.
● Barco de bolacha sic
É usado para transportar e transportar bolachas em processos de alta temperatura (como difusão e crescimento epitaxial) para garantir a estabilidade das bolachas e a uniformidade dos processos.
● Tubo de processo sic
Os tubos de processo SiC são usados principalmente em fornos de difusão e fornos de oxidação para fornecer um ambiente de reação controlada para as bolachas de silício, garantindo deposição precisa de material e distribuição uniforme de doping.
● Sic cantilever paddle
O SiC Cantilever Paddle é usado principalmente para transportar ou suportar bolachas de silício em fornos de difusão e fornos de oxidação, desempenhando um papel de rolamento. Especialmente em processos de alta temperatura, como difusão, oxidação, recozimento etc., garante a estabilidade e o tratamento uniforme das bolachas de silício em ambientes extremos.
● Cvd sic chuveiro
É usado como um componente de distribuição de gás no equipamento de gravura plasmática, com excelente resistência à corrosão e estabilidade térmica para garantir a distribuição uniforme de gás e o efeito de gravação.
● Teto revestido com sic
Componentes na câmara de reação do equipamento, usados para proteger o equipamento contra danos por alta temperatura e gases corrosivos, e prolongar a vida útil do equipamento.
● Susceptores de epitaxia de silício
Os portadores de wafer usados nos processos de crescimento epitaxial de silício para garantir a qualidade uniforme do aquecimento e deposição das bolachas.
O vapor químico depositou o carboneto de silício (CVD SIC) possui uma ampla gama de aplicações no processamento de semicondutores, usadas principalmente para fabricar dispositivos e componentes resistentes a altas temperaturas, corrosão e alta dureza.
✔ Revestimentos de proteção em ambientes de alta temperatura
Função: O CVD SIC é frequentemente usado para revestimentos de superfície dos componentes -chave em equipamentos semicondutores (como conceptores, revestimentos da câmara de reação, etc.). Esses componentes precisam trabalhar em ambientes de alta temperatura, e os revestimentos CVD SiC podem proporcionar uma excelente estabilidade térmica para proteger o substrato de danos de alta temperatura.
Vantagens: O alto ponto de fusão e a excelente condutividade térmica do CVD SIC garantem que os componentes possam funcionar de forma estável por um longo tempo em condições de alta temperatura, prolongando a vida útil do equipamento.
Applications Aplicações anticorrosão
Função: No processo de fabricação de semicondutores, o revestimento CVD SiC pode resistir efetivamente à erosão de gases e produtos químicos corrosivos e proteger a integridade de equipamentos e dispositivos. Isso é especialmente importante para lidar com gases altamente corrosivos, como fluoretos e cloretos.
Vantagens: Ao depositar o revestimento CVD SiC na superfície do componente, os custos de danos e manutenção do equipamento causados pela corrosão podem ser bastante reduzidos e a eficiência da produção pode ser melhorada.
✔ Aplicações de alta resistência e resistência ao desgaste
Função: O material CVD SiC é conhecido por sua alta dureza e alta resistência mecânica. É amplamente utilizado em componentes de semicondutores que requerem resistência ao desgaste e alta precisão, como vedações mecânicas, componentes de carga, etc. Esses componentes são submetidos a forte tensão mecânica e atrito durante a operação. O CVD SIC pode resistir efetivamente a essas tensões e garantir a vida longa e o desempenho estável do dispositivo.
Vantagens: Os componentes feitos de CVD SiC não podem apenas suportar o estresse mecânico em ambientes extremos, mas também manter sua estabilidade dimensional e acabamento da superfície após o uso a longo prazo.
Ao mesmo tempo, o CVD SIC desempenha um papel vital emCrescimento epitaxial LED, semicondutores de potência e outros campos. No processo de fabricação de semicondutores, os substratos CVD SiC são geralmente usados comoSusceptores de EPI. Sua excelente condutividade térmica e estabilidade química fazem com que as camadas epitaxiais crescidas tenham maior qualidade e consistência. Além disso, o CVD SIC também é amplamente utilizado emPortadores de gravação de PSS, Portadores de wafer RTP, Portadores de gravação ICP, etc., fornecendo suporte estável e confiável durante a gravação de semicondutores para garantir o desempenho do dispositivo.
A Vetek Semiconductor Technology Co., Ltd é uma provedora líder de materiais avançados de revestimento para a indústria de semicondutores. Nossa empresa se concentra no desenvolvimento de soluções de ponta para a indústria.
Nossas principais ofertas de produtos incluem revestimentos de carboneto de silício CVD (SIC), revestimentos de carboneto de tântalo (TAC), sic sic, pós SiC e materiais de alta pureza SIC, suscetion de grafite revestido com SiC, requisitos de desvio com revestimento de TAC, requisitos de interrupção, a pobreza.
O vetek semicondutor se concentra no desenvolvimento de soluções de tecnologia de ponta e desenvolvimento de produtos para a indústria de semicondutores.Esperamos sinceramente se tornar seu parceiro de longo prazo na China.
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