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Silicon Carboide Wafer Chuck
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Silicon Carboide Wafer Chuck

Como fabricante líder e fornecedor de produtos de wafer de carboneto de silício na China, o Chuck de Wafer de carboneto de silício de vetek semicondutor desempenha um papel insubstituível no processo de crescimento epitaxial, com sua excelente resistência à alta temperatura, resistência à corrosão química e resistência ao choque térmico. Dê boas -vindas à sua consulta adicional.

O Chuck de Wafer de carboneto semicondutor de vetek usa as excelentes propriedades dos materiais de carboneto de silício para atender aos requisitos rigorosos da produção de semicondutores, especialmente no processamento de semicondutores, que requer precisão e confiabilidade extremamente alta.


No processo de processamento de semicondutores,Carboneto de silíciotem excelente resistência à alta temperatura (pode funcionar de forma estável a até 1400 ° C), baixa condutividade (o sic tem uma condutividade relativamente baixa, normalmente 10^-3S/m) e baixo coeficiente de expansão térmica (cerca de 4,0 × 10^-6/° C), que é um material indispensável e importante, especialmente adequado para a fabricação de mandíbulas de wafer de carboneto de silício.


Durante oProcesso de crescimento epitaxial, uma fina camada de material semicondutor é depositada em um substrato, exigindo estabilidade absoluta da bolacha para garantir camadas uniformes e de deposição de filmes uniformes e de alta qualidade. O SiC Vacuum Chuck alcança isso criando uma retenção firme e consistente de vácuo para impedir qualquer movimento ou deformação da bolacha.


O chuck de wafer de carboneto de silício também oferece excelente resistência ao choque térmico. Alterações rápidas de temperatura são comuns na fabricação de semicondutores, e os materiais que não podem suportar essas flutuações podem quebrar, dobrar ou falhar. O carboneto de silício possui um baixo coeficiente de expansão térmica e pode manter sua forma e função mesmo sob mudanças drásticas de temperatura, garantindo que a bolacha permaneça segura durante o processo de epitaxia sem movimento ou desalinhamento.


Além disso, oProcesso de epitaxiaMuitas vezes, envolve gases reativos e outros produtos químicos corrosivos. A inércia química do sic wafer chuck garante que ela não seja afetada por esses ambientes severos, mantendo seu desempenho e estendendo sua vida útil. Essa durabilidade química não apenas reduz a frequência da substituição de wafer chuck, mas também garante o desempenho consistente do produto em vários ciclos de produção, ajudando a melhorar a eficiência geral e a relação custo-benefício do processo de fabricação de semicondutores.


O vetek semicondutor é um fabricante líder e fornecedor de produtos de wafer de carboneto de silício na China. Podemos fornecer vários tipos de produtos de chuck, comoChuck poroso de cerâmica, Chuck poroso a vácuo, Chuck de vácuo de cerâmica porosoeTAC revestido Chuck, etc. O vetek semicondutor está comprometido em fornecer soluções avançadas de tecnologia e produto para a indústria de semicondutores. Sinceramente, esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.

Dados SEM de CVDEstrutura cristalina de filme sic

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


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