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Revestimento de cerâmica de carboneto de silício
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Revestimento de cerâmica de carboneto de silício

Como fabricante profissional de revestimento de cerâmica de carboneto de silício na China, o revestimento cerâmico de carboneto de silício do vetek semicondutor é amplamente utilizado nos principais componentes dos equipamentos de fabricação de semicondutores, especialmente quando os processos CVD e PECVD estão envolvidos. Bem -vindo sua pergunta.

É semicondutor Revestimento de cerâmica de carboneto de silícioé um revestimento protetor de alto desempenho feito de material de carboneto de silício extremamente duro e resistente ao desgaste (SIC), que fornece excelente resistência à corrosão química e estabilidade de alta temperatura. Essas propriedades são cruciais na produção de semicondutores; portanto, o revestimento de cerâmica de carboneto de silício é amplamente utilizado nos principais componentes do equipamento de fabricação de semicondutores.


O papel específico desempenhado pelo revestimento de cerâmica de carboneto semicondutor vetek na produção de semicondutores édo seguinte modo:

Aprimore a durabilidade do equipamento: O revestimento de cerâmica de carboneto de silício fornece excelente proteção de superfície para equipamentos de fabricação de semicondutores com sua dureza extremamente alta e resistência ao desgaste. Especialmente na alta temperatura, ambientes de processo altamente corrosivos, como deposição de vapor químico (DCV) e gravação plasmática, o revestimento cerâmico de carboneto de silício pode efetivamente impedir danos à superfície do equipamento devido à erosão química ou desgaste físico, prolongando significativamente a vida útil do equipamento e reduzindo a redução de tempo causada por reposição frequente e manutenção.

Melhorar a pureza do processo: No processo de fabricação de semicondutores, qualquer pequena contaminação pode causar defeitos do produto. A inércia química do revestimento de cerâmica de carboneto de silício permite permanecer estável em condições extremas, impedir que o material libere partículas ou impurezas e garanta a pureza do meio ambiente durante o processo. Isso é especialmente importante para as etapas de fabricação que requerem alta precisão e alta limpeza, como o PECVD e o implante de íons.

Otimize o gerenciamento térmico: No processamento de semicondutores de alta temperatura, como processamento térmico rápido (RTP) e processos de oxidação, a alta condutividade térmica do revestimento de cerâmica de carboneto de silício permite uma distribuição uniforme de temperatura dentro do equipamento. Isso ajuda a reduzir o estresse térmico e a deformação do material causados ​​por flutuações de temperatura, melhorando assim a precisão e a consistência da fabricação de produtos.

Apoiar o ambiente de processo complexo: Em processos que requerem controle de atmosfera complexo, como gravura ICP e processos de gravação de PSS, a resistência à estabilidade e oxidação do aquecedor de revestimento de cerâmica de carboneto de silício garante o desempenho estável do equipamento em operação de longo prazo, reduzindo o risco de degradação do material ou danos ao equipamento devido a alterações ambientais.

É semicondutorconcentra-se na fabricação e fornecimento de alto desempenhoRevestimento de cerâmica de carboneto de silícioe está comprometido em fornecer soluções avançadas de tecnologia e produto para a indústria de semicondutores.Sinceramente, esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.


Propriedades físicas básicas deRevestimento de cerâmica de carboneto de silício:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE


Basic physical properties of CVD SiC coating


VETEK semicondutor Silicon Carboned Ceramic Coating Shops:

VeTek Semiconductor Production Shop


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain

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