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Estrada Wangda, rua Ziyang, condado de Wuyi, cidade de Jinhua, província de Zhejiang, China
● Comportamento isotrópico: Propriedades físicas uniformes (por exemplo, condutividade térmica/elétrica, força mecânica) em todas as três dimensões (x, y, z), sem dependência direcional.
● Alta pureza e estabilidade térmica: Fabricado por processos avançados, como prensagem isostática, oferecendo níveis de impureza ultra-baixa (teor de cinzas na escala PPM) e força aprimorada em altas temperaturas (até 2000 ° C+).
● Máquina de precisão: Facilmente fabricado em geometrias complexas, ideal para componentes de processamento de wafer semicondutores (por exemplo, aquecedores, isoladores).
Propriedades físicas da grafite isostática Propriedade Unidade
Valor típico
Densidade a granel g/cm³
1.83
Dureza
HSD
58 Resistividade elétrica μΩ.M
10 Força de flexão
MPA
47 Força de compressão
MPA
103 Resistência à tracção MPA
31 Módulo de Young
GPA
11.8 Expansão térmica (CTE)
10-6K-1
4.6 Condutividade térmica
W · m-1· K-1 130 Tamanho médio de grão μm
8-10 Porosidade
%
10 Conteúdo de cinzas
ppm
≤5 (após purificado)
● Infusão de silício: Infundido com silício para formar uma camada composta de carboneto de silício (SIC), melhorando significativamente a resistência à oxidação e a durabilidade da corrosão em ambientes extremos.
● Anisotropia potencial: Pode manter algumas propriedades direcionais da grafite base, dependendo do processo de siliconização.
● Condutividade ajustada: Condutividade elétrica reduzida em comparação comgrafite puromas aprimorada durabilidade em condições adversas.
Principais parâmetros de grafite siliconizada
Propriedade
Valor típico
Densidade
2.4-2,9 g/cm³
Porosidade
<0,5%
Força de compressão
> 400 MPA Força de flexão
> 120 MPA
Condutividade térmica
120 W/MK
Coeficiente de expansão térmica
4,5 × 10-6
Módulo elástico
120 GPA
Força de impacto
1,9kj/m²
Fricção lubrificada à água
0.005
Coeficiente de atrito seco
0.05
Estabilidade química Vários sais, solventes orgânicos,
ácidos fortes (hf, hcl, h₂so4, Hno₃)
Temperatura de uso estável a longo prazo
800 ℃ (atmosfera de oxidação)
2300 ℃ (atmosfera inerte ou a vácuo)
Resistividade elétrica
120*10-6Ωm
✔ Grafite siliconizada:● Fabricação de semicondutores: Crubzados e elementos de aquecimento em fornos de crescimento de silício de cristal único, alavancando sua pureza e distribuição térmica uniforme.
● Energia solar: Componentes de isolamento térmico na produção de células fotovoltaicas (por exemplo, peças de forno a vácuo).
● Tecnologia nuclear: Moderadores ou materiais estruturais em reatores devido à resistência à radiação e estabilidade térmica.
● Ferramentas de precisão: Moldes para metalurgia em pó, beneficiando -se da alta precisão dimensional.
● Ambientes de oxidação de alta temperatura: Componentes de motores aeroespaciais, revestimentos de fornos industriais e outras aplicações ricas em oxigênio e alto calor.
● Mídia corrosiva: Eletrodos ou vedações em reatores químicos expostos a ácidos/álcalis.
● Tecnologia da bateria: Uso experimental em ânodos de bateria de íons de lítio para melhorar a intercalação de íons de lítio (ainda focada em R & D).
● Equipamento semicondutor: Eletrodos em ferramentas de gravação plasmática, combinando condutividade com resistência à corrosão.
✔ grafite isotrópica
Pontos fortes:
● Desempenho uniforme: Elimina os riscos de falha direcional (por exemplo, rachaduras na tensão térmica).
● Pureza ultra alta: Impede a contaminação em processos sensíveis, como a fabricação de semicondutores.
● Resistência ao choque térmico: Estável sob ciclo de temperatura rápida (por exemplo, reatores de CVD).
Limitações:
● Custos de produção mais altos e requisitos rigorosos de usinagem.
✔ Grafite siliconizada
Pontos fortes:
● Resistência a oxidação: A camada SiC bloqueia a difusão de oxigênio, prolongando a vida útil em ambientes oxidativos de alto calor.
● Durabilidade aprimorada: Melhor dureza da superfície e resistência ao desgaste.
● Inércia química: Resistência superior à mídia corrosiva versus grafite padrão.
Limitações:
● Condutividade elétrica reduzida e maior complexidade de fabricação.
✔ Grafite isotrópica:
Domina aplicações que exigem uniformidade e pureza (semicondutores, tecnologia nuclear).
✔ Grafite siliconizado:
Se destaca em condições extremas (processamento aeroespacial, químico) devido à durabilidade aprimorada pelo silício.
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