Elemento de aquecimento do revestimento SiC CVD SIC

O elemento de aquecimento do revestimento SiC CVD é usado principalmente em equipamentos de PVD (deposição de vapor físico). No processo de evaporação, o material é aquecido para obter evaporação ou pulverização e, finalmente, um filme fino uniforme é formado no substrato.

Ⅰ.Aplicação específica

Deposição de filme fino: o elemento de aquecimento do revestimento SiC CVD é usado na fonte de evaporação ou na fonte de pulverização. Ao aquecer, o elemento aquece o material a ser depositado em alta temperatura, para que seus átomos ou moléculas sejam separados da superfície do material, formando assim vapor ou plasma. Nosso revestimento SiC baseado em elementos de aquecimento também pode aquecer diretamente alguns materiais de metal ou cerâmica para evaporar ou sublimá -los em um ambiente de vácuo para uso como fonte de material no processo de PVD. Como a estrutura possui ranhuras concêntricas, ela pode controlar melhor o caminho atual e a distribuição de calor para garantir a uniformidade do aquecimento.

Diagrama esquemático do processo de PVD de evaporação

Ⅱ.Princípio de trabalho

Aquecimento resistivo, quando a corrente passa pelo caminho de resistência do aquecedor revestido com SiC, o calor da joule é gerado, alcançando assim o efeito do aquecimento. A estrutura concêntrica permite que a corrente seja distribuída uniformemente. Um dispositivo de controle de temperatura é geralmente conectado ao elemento para monitorar e ajustar a temperatura.

Ⅲ.Projeto material e estrutural

O elemento de aquecimento do revestimento CVD SiC é feito de grafite de alta pureza e revestimento SiC para lidar com o ambiente de alta temperatura. A própria grafite de alta pureza tem sido amplamente utilizada como material de campo térmico. Depois que uma camada de revestimento é aplicada na superfície de grafite pelo método CVD, sua estabilidade de alta temperatura, resistência à corrosão, eficiência térmica e outras características são aprimoradas ainda mais.

O design de ranhuras concêntricas permite que a corrente forme um loop uniforme na superfície do disco. Ele atinge a distribuição uniforme de calor, evita superaquecimento local causado pela concentração em certas áreas, reduz a perda de calor adicional causada pela concentração de corrente e, portanto, melhora a eficiência do aquecimento.

O elemento de aquecimento do revestimento CVD SiC consiste em duas pernas e um corpo. Cada perna possui um fio que se conecta à fonte de alimentação. O semicondutor vetek pode fazer peças de uma peça ou dividir, ou seja, as pernas e o corpo são feitos separadamente e depois montados. Independentemente dos requisitos que você tem para o aquecedor revestido com CVD SIC, consulte -nos. O veteksemi pode fornecer os produtos que você precisa.

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC: