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Qual é a aplicação específica de peças revestidas com TAC no campo semicondutor?

Vetek Tantalum carbide coating parts



Propriedades físicas do revestimento de carboneto de tântalo (TAC)



Propriedades físicas do revestimento TAC
Densidade de revestimento de carboneto de tantalum (TAC)
14.3 (g/cm³)
Emissividade específica
0.3
Coeficiente de expansão térmica
6.3x10-6/K
TAC Toned Disidade (HK)
2000 HK
Resistência
1 × 10-5Ohm*cm
Estabilidade térmica
<2500 ℃
Mudanças de tamanho de grafite
-10 ~ -20um
Espessura do revestimento
≥20um valor típico (35um ± 10um)


A aplicação do revestimento de carboneto de Tantalum (TAC) no campo semicondutor


1. Componentes do reator de crescimento epitaxial

O revestimento TAC é amplamente utilizado em componentes do reator de deposição de vapor químico (CVD) do epitaxial epitaxial de nitreto de gálio (GaN) e carboneto de silício (SIC), incluindoPortadores de wafer, pratos de satélite, bicos e sensores. Esses componentes requerem durabilidade e estabilidade extremamente alta em altas temperaturas e ambientes corrosivos. O revestimento TAC pode efetivamente estender sua vida útil e melhorar o rendimento.


2. Componente de crescimento de cristal único

No processo de crescimento de cristal único de materiais como SiC, GaN e nitreto de alumínio (AIN),Revestimento TACé aplicado a componentes -chave, como cadinhos, suportes de cristal de sementes, anéis de guia e filtros. Os materiais de grafite com revestimento TAC podem reduzir a migração de impureza, melhorar a qualidade do cristal e reduzir a densidade de defeitos.


3. Componentes industriais de alta temperatura

O revestimento TAC pode ser usado em aplicações industriais de alta temperatura, como elementos de aquecimento resistivo, bocais de injeção, anéis de blindagem e luminárias de brasagem. Esses componentes precisam manter um bom desempenho em ambientes de alta temperatura, e a resistência ao calor do TAC e a resistência à corrosão o tornam a escolha ideal.


4. Aquecedores em sistemas MOCVD

Os aquecedores de grafite revestidos com TAC foram introduzidos com sucesso em sistemas de deposição de vapores químicos orgânicos (MOCVD) metal. Comparados com os aquecedores tradicionais revestidos com PBN, os aquecedores TAC podem proporcionar melhor eficiência e uniformidade, reduzir o consumo de energia e reduzir a emissividade da superfície, melhorando assim a integridade.


5. Portadores de wafer

Os portadores de bolacha revestidos com TAC desempenham um papel importante na preparação de materiais semicondutores de terceira geração, como SiC, Ain e Gan. Estudos mostraram que a taxa de corrosão deRevestimentos TACem ambientes de amônia e hidrogênio de alta temperatura é muito menor do que o deRevestimentos SIC, o que faz com que ele mostre melhor estabilidade e durabilidade no uso a longo prazo.

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