Tubo de forno de difusão sic

Diagrama esquemático de trabalho do tubo do forno de difusão SiC

VETEK Semicondutor SiC Difusão Furnace Tube tem as seguintes vantagens do produto:

Excelentes propriedades mecânicas de alta temperatura: O tubo do forno de difusão SiC possui as melhores propriedades mecânicas de alta temperatura de qualquer material de cerâmica conhecido, incluindo excelente resistência e resistência à fluência. Isso o torna particularmente adequado para aplicações que exigem estabilidade a longo prazo em altas temperaturas.

Excelente resistência a oxidação: O tubo do forno de difusão SiC de vetek semicondutor possui excelente resistência a oxidação, o melhor de toda a cerâmica não óxido. Essa propriedade garante estabilidade e desempenho a longo prazo em ambientes de alta temperatura, reduzindo o risco de degradação e prolongando a vida útil do tubo.

● Alta força de flexão: O tubo do forno de difusão veteksemi siC ​​possui uma resistência à flexão de mais de 200MPa, garantindo excelentes propriedades mecânicas e integridade estrutural nas condições de alta tensão típicas dos processos de fabricação de semicondutores.

● Excelente resistência à corrosãoe: A inércia química do tubo do forno SiC fornece excelente resistência à corrosão, tornando esses tubos ideais para uso nos ambientes químicos severos frequentemente encontrados no processamento de semicondutores.

● Alta resistência ao desgaste: Os fornos de tubo SiC têm forte resistência ao desgaste, essencial para manter a estabilidade dimensional e reduzir os requisitos de manutenção quando usados ​​por longos períodos de tempo em condições abrasivas.

● Com o revestimento CVD: O revestimento SiC de deposição de vapor de semicondutores vetek (CVD) tem um nível de pureza maior que 99,9995%, conteúdo de impureza menor que 5ppm e impurezas de metal prejudiciais inferiores a 1ppm. O processo de revestimento CVD garante que o tubo atenda aos rigorosos requisitos de rigidez a vácuo do 2-3Torr, que é crítico para ambientes de fabricação de semicondutores de alta precisão.

● Aplicação em fornos de difusão: Esses tubos SiC são projetados para fornos de difusão de semicondutores, onde desempenham um papel fundamental em processos de alta temperatura, como doping e oxidação. Suas propriedades materiais avançadas garantem que possam suportar as condições adversas desses processos, melhorando assim a eficiência e a confiabilidade da produção de semicondutores.

O vetek semicondutor está comprometido há muito tempo em fornecer soluções avançadas de tecnologia e produto para a indústria de semicondutores e apoia serviços personalizados profissionais. Escolhendo o tubo do forno de difusão SiC de vetek semicondutor, você obterá um produto com excelente desempenho e alta confiabilidade para atender às várias necessidades da fabricação moderna de semicondutores. Sinceramente, esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.

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