Bocal cerâmico semicondutor

O bocal cerâmico semicondutor desempenha um papel importante noProcesso HDP-CVD, usado para controlar com precisão o fluxo de gás e garantirDeposição de filmes de alta qualidade. O spray de bico cerâmico é projetado com precisão para garantir taxas de fluxo de gás consistentes e controláveis, minimizando a possível turbulência quando o gás entra na câmara de reação.

Especificações Técnicas:

1. Composição de material:

O bico de jateamento de areia de cerâmica semicondutor vetek é normalmente feito de cerâmica semicondutores, como o óxido de alumínio (Al2O3),carboneto de silício (sic)ou óxido de zircônio (ZRO2), esses materiais têm excelentes propriedades:

    • Alta estabilidade térmica (pode suportar temperaturas acima de 1000 ℃)

    • Resistência à corrosão por gases reativos usados ​​emProcessos de DCV(como silano, amônia)

    • resistência à exposição contínua ao plasma.

2. Projeto Estrutural:

    • Tamanho do orifício: O orifício do bico cerâmico Semiconductor é cientificamente projetado para permitir o controle preciso do fluxo de gás, o que, por sua vez, afeta a uniformidade e a espessura do filme.

    • ângulos e geometrias: projetados com precisão para garantir a distribuição uniforme de gás através do substrato, minimizando defeitos na camada depositada.

Na indústria de semicondutores, o bocal de jateamento cerâmico semicondutor desempenha um papel fundamental principalmente no processo HDP-CVD. Também são utilizados para depositar filmes finos para a produção de microeletrônica, garantindo revestimentos superficiais de alta qualidade, uniformes e livres de contaminantes.

Lojas de bicos cerâmicos VeTeK Semiconductor: