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Nossos barcos de quartzo de alta pureza são feitos de quartzo fundido (conteúdo de SiO₂ ≥ 99,99%). Com sua excelente resistência a ambientes extremos, baixo coeficiente de expansão térmica e ciclo de vida longo, tornou -se uma chave insubstituível consumível nas indústrias de semicondutores e novas energia.

Os anéis de foco para a gravação são o componente chave para garantir a precisão e a estabilidade do processo. Esses componentes são montados com precisão em uma câmara de vácuo para obter usinagem uniforme de estruturas em nanoescala na superfície da wafer através do controle preciso da distribuição plasmática, temperatura da borda e uniformidade do campo elétrico.

O susceptador de grafite EPI de wafer único veteksemicon foi projetado para carboneto de silício de alto desempenho (sic), nitreto de gálio (GaN) e outras de terceira geração do processo epitaxial de semicondutor e é o componente de rolamento de núcleo da folha de epitaxial de alta precisão na produção de massa.

A Veteksemicon é um fabricante líder de vácuo em Chuck na China, nosso vácuo de cerâmica Chuck serve como um dispositivo de adsorção de vácuo de ponta, orientado para adsorver com precisão e imobilizar bolachas e lingotes. Bem -vindo sua pergunta.

O papel de grafite de alta pureza do vetek semicondutor, um produto premium projetado para atender aos rigorosos padrões de pureza e desempenho. Com um nível de pureza excepcional de até 99,9%, nosso papel de grafite é uma opção confiável para diversos aplicações, como sistemas de bateria, células de combustível, soluções de gerenciamento térmico, campos térmicos semicondutores e além. Criado através de um processo de fabricação proprietário, este papel de grafite garante uniformidade e consistência, fornecendo condutividade elétrica incomparável e estabilidade térmica. Trust Vetek Semiconductor Papel de grafite de alta pureza para confiabilidade e excelência em seus projetos especializados.

O vetek semicondutor oferece pó de grafite de alta pureza, que é um produto de alta qualidade, com uma pureza de até 5ppm e atende aos mais altos padrões da indústria. Forma de partícula personalizável, usada principalmente para pó de carboneto de silício e síntese de diamantes, adequado para indústrias de semicondutores, eletrônicos e de alta tecnologia. Bem -vindo ao Inquérito nos EUA!