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O chuck poroso de cerâmica de SiC por veteksemicon é uma plataforma de vácuo de engenharia de precisão projetada para manuseio de bolacha seguro e sem partículas em processos avançados de semicondutores, como gravura, implante de íons, CMP e inspeção. Fabricado a partir de carboneto poroso de silício de alta pureza, oferece excelente condutividade térmica, resistência química e resistência mecânica. Com tamanhos e dimensões de poros personalizáveis, o VETEKSEMICON oferece soluções personalizadas para atender às demandas rigorosas dos ambientes de processamento de wafer de salas limpas.

Nossos barcos de wafer de quartzo são solução de transportador de wafer de alta pureza adaptada para processos de semicondutores, LED, células solares e fabricação de baterias. Projetado para suportar altas temperaturas e ambientes quimicamente agressivos, este barco de quartzo apresenta baixa expansão térmica, excelente isolamento elétrico e estabilidade dimensional a longo prazo. Ideal para processos de difusão, oxidação e LPCVD, ele suporta o alinhamento preciso da wafer e está disponível em vários tamanhos para atender aos diferentes requisitos de equipamento.

As pás de cantilever de veteksemicon são os braços de suporte de carboneto de silício de alta pureza projetados para manuseio de bolacha em fornos de difusão horizontal e reatores epitaxiais. Com uma condutividade térmica excepcional, resistência à corrosão e resistência mecânica, esses remos garantem estabilidade e limpeza em exigentes ambientes de semicondutores. Disponível em tamanhos personalizados e otimizado para uma longa vida útil.

O bloco SiC da VetekSemicon foi projetado para moagem de alta eficiência e afinamento das bolachas de silício e safira. Com excelente condutividade térmica (≥120 W/m · k), alta resistência ao choque térmico e resistência superior ao desgaste (MOHS ≥9), nossos blocos melhoram a estabilidade do processo e reduzem a frequência da mudança de ferramenta. Disponível em tamanhos de 120 mm a 480 mm, com opções personalizadas e entrega rápida para atender às diversas necessidades de produção.

O porta-bolas de revestimento de carboneto de silício por veteksemicon é projetado para precisão e desempenho em processos avançados de semicondutores, como MOCVD, LPCVD e recozimento de alta temperatura. Com um revestimento uniforme de CVD SiC, esse suporte para wafer garante condutividade térmica excepcional, inércia química e resistência mecânica-essencial para o processamento de wafer de alto rendimento e livre de contaminação.

VETEKSEMICON ALTAMENTOS SIC DE PORTULAÇÃO DE HIA PORTULAÇÃO, projetados especialmente para equipamentos de gravura semicondutores, apresentam excelente resistência à corrosão e estabilidade térmica, aumentando significativamente o rendimento da bolacha