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Forno de crescimento de cristal SiC com aquecimento por resistência de grande porte
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Forno de crescimento de cristal SiC com aquecimento por resistência de grande porte

O crescimento de cristais de carboneto de silício é um processo central na fabricação de dispositivos semicondutores de alto desempenho. A estabilidade, precisão e compatibilidade do equipamento de crescimento de cristais determinam diretamente a qualidade e o rendimento dos lingotes de carboneto de silício. Com base nas características da tecnologia de transporte físico de vapor (PVT), a Veteksemi desenvolveu um forno de aquecimento por resistência para o crescimento de cristais de carboneto de silício, permitindo o crescimento estável de cristais de carboneto de silício de 6, 8 e 12 polegadas com total compatibilidade com sistemas de materiais condutores, semi-isolantes e do tipo N. Através do controle preciso de temperatura, pressão e potência, ele reduz efetivamente defeitos de cristal, como EPD (Etch Pit Density) e BPD (Basal Plane Dislocation), ao mesmo tempo que apresenta baixo consumo de energia e um design compacto para atender aos altos padrões de produção industrial em grande escala.

Parâmetros Técnicos

Parâmetro
Especificação
Processo de crescimento
Transporte Físico de Vapor (PVT)
Método de aquecimento
Aquecimento por resistência de grafite
Tamanhos de cristal adaptáveis
6 polegadas, 8 polegadas, 12 polegadas (comutável; tempo de substituição da câmara < 4 horas)
Tipos de cristal compatíveis
Tipo condutivo, tipo semi-isolante, tipo N (série completa)
Temperatura máxima de operação
≥2400℃
Vácuo final
≤9×10⁻⁵Pa (condição de forno frio)
Taxa de aumento de pressão
≤1,0Pa/12h (forno frio)
Poder de crescimento do cristal
34,0 kW
Precisão do controle de energia
±0,15% (sob condições de crescimento estáveis)
Precisão do controle de pressão
0,15Pa (fase de crescimento); flutuação <±0,001 Torr (em 1,0Torr)
Densidade de defeito de cristal
DBP < 381 ea/cm²; TED < 1054 ea/cm²
Taxa de crescimento de cristal
0,2-0,3 mm/h
Altura de crescimento do cristal
30-40mm
Dimensões totais (L×P×A)
≤1800mm×3300mm×2700mm


Principais vantagens


 Compatibilidade em tamanho real

Permite o crescimento estável de cristais de carboneto de silício de 6, 8 e 12 polegadas, totalmente compatíveis com sistemas de materiais condutores, semi-isolantes e tipo N. Abrange as necessidades de produção de produtos com diferentes especificações e se adapta a diversos cenários de aplicação.


● Forte estabilidade de processo

Os cristais de 8 polegadas têm excelente consistência politipo 4H, formato de superfície estável e alta repetibilidade; a tecnologia de crescimento de cristal de carboneto de silício de 12 polegadas concluiu a verificação com alta viabilidade de produção em massa.


● Baixa taxa de defeito de cristal

Através do controle preciso de temperatura, pressão e potência, os defeitos do cristal são efetivamente reduzidos com indicadores-chave que atendem aos padrões – EPD=1435 ea/cm², BPD=381 ea/cm², TSD=0 ea/cm² e TED=1054 ea/cm². Todos os indicadores de defeitos atendem aos requisitos de qualidade de cristal de alta qualidade, melhorando significativamente o rendimento do lingote.


● Custos operacionais controláveis

Possui o menor consumo de energia entre produtos similares. Os componentes principais (como escudos de isolamento térmico) têm um longo ciclo de substituição de 6 a 12 meses, reduzindo custos operacionais abrangentes.


● Conveniência plug-and-play

Pacotes personalizados de receitas e processos com base nas características do equipamento, verificados por meio de produção de longo prazo e em vários lotes, permitindo a produção imediata após a instalação.


● Segurança e Confiabilidade

Adota um design especial de faísca anti-arco para eliminar riscos potenciais à segurança; funções de monitoramento em tempo real e alerta precoce evitam proativamente riscos operacionais.


● Excelente desempenho de vácuo

Os indicadores finais de vácuo e taxa de aumento de pressão excedem os níveis líderes internacionais, garantindo um ambiente limpo para o crescimento de cristais.


● Operação e Manutenção Inteligentes

Apresenta uma interface HMI intuitiva combinada com gravação de dados abrangente, suportando funções opcionais de monitoramento remoto para gerenciamento de produção eficiente e conveniente.


Exibição visual do desempenho principal


Curva de precisão de controle de temperatura

Temperature Control Accuracy Curve

Precisão do controle de temperatura do forno de crescimento de cristais ≤ ±0,3°C; Visão geral da curva de temperatura



Gráfico de precisão de controle de pressão


Pressure Control Accuracy Graph

Precisão do controle de pressão do forno de crescimento de cristal: 1,0 Torr, Precisão do controle de pressão: 0,001 Torr


Precisão de estabilidade de energia


Estabilidade e consistência entre fornos/lotes: A precisão da estabilidade da potência

Power Stability Precision

Sob o status de crescimento do cristal, a precisão do controle de potência durante o crescimento estável do cristal é de ±0,15%.


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Veteksemicon products shop



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