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Susceptor revestido de carboneto de tântalo CVD (TaC)
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Susceptor revestido de carboneto de tântalo CVD (TaC)

O susceptor revestido VETEK CVD TaC combina um substrato de grafite isostático de alta pureza com um revestimento denso de carboneto de tântalo CVD (TaC) para fornecer estabilidade térmica excepcional, resistência à corrosão e baixa geração de partículas para epitaxia semicondutora exigente. Projetado para crescimento epitaxial de SiC, GaN e AlN, ele minimiza a contaminação, melhora a uniformidade da temperatura do wafer e prolonga a vida útil dos componentes em processos MOCVD e CVD de alta temperatura.

Principais recursos

Estabilidade em altas temperaturas: Mantém o desempenho estável sob condições prolongadas de processamento em alta temperatura.
Resistência à corrosão: O denso revestimento TaC fornece proteção eficaz contra gases corrosivos de processo.
Baixa geração de partículas: Uma estrutura de revestimento densa ajuda a reduzir a contaminação durante o crescimento epitaxial.
Excelente uniformidade térmica: suporta distribuição uniforme de calor para melhorar a consistência do processo.
Longa vida útil: A alta resistência ao desgaste contribui para manutenção reduzida e ciclos operacionais mais longos.


Aplicações

As aplicações típicas incluem:

• Crescimento epitaxial de SiC

• Epitaxia GaN MOCVD

• Crescimento epitaxial de AlN

• Fabricação de semicondutores de terceira geração

• Eletrônicos de alta potência

• Dispositivos RF

• Produção de MicroLED

• Sistemas de Pesquisa e Produção Piloto


Equipamento Compatível

As plataformas compatíveis incluem:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Reatores CVD e MOCVD personalizados


Também disponível:

• Portadores de Wafer

• Susceptores Planetários

• Susceptores de Barril

• Discos de Rotação

• Peças de meia-lua

• Placas de cobertura

• Conjuntos de grafite

• Componentes de campo térmico personalizados


Especificações Técnicas

Material de substrato

Grafite isostática de alta pureza

Material de revestimento

Carboneto de tântalo CVD (TaC)

Espessura do revestimento
20–40 μm (personalizável)
Pureza do Revestimento
Até 99,9995%
Temperatura Máxima de Trabalho

>2000°C (atmosfera inerte)

Densidade
14,3g/cm³
Dureza
~2.000 Hong Kong
Coeficiente de Expansão Térmica
6,3 × 10⁻⁶/K
Resistividade Elétrica
1 × 10⁻⁵Ω·cm
Tamanhos disponíveis
Personalizado
Aplicações Típicas
SiC, GaN, AlN Epitaxia

Perguntas frequentes

1. O que é um susceptor revestido com CVD TaC?

Um componente de grafite de alta pureza protegido por um denso revestimento CVD TaC usado como transportador de wafer durante o crescimento epitaxial.

2. Por que usar TaC coating em vez de revestimento de SiC?

TaC oferece maior resistência a temperaturas, estabilidade química superior e vida útil mais longa.

3.Quais processos semicondutores usam TaC-csusceptores flutuantes?

Epitaxia SiC, GaN MOCVD, epitaxia AlN e outros processos de crescimento de cristais em alta temperatura.

4. A VETEK pode fabricar susceptores customizados?

Sim. Fornecemos projetos personalizados com base nos desenhos do cliente e nos requisitos do processo.

5. Quais marcas de reatores são suportadas?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare e outros sistemas convencionais.


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