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Transportador RTA de grafite revestido de carboneto de silício CVD (SiC)
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Transportador RTA de grafite revestido de carboneto de silício CVD (SiC)

O transportador RTP RTA de grafite revestido com carboneto de silício (SiC) VETEK CVD foi projetado para sistemas de processamento térmico rápido (RTP) e recozimento térmico rápido (RTA) usados ​​na fabricação de semicondutores. Fabricado a partir de grafite isostática de alta pureza com um denso revestimento CVD SiC, oferece excelente estabilidade térmica, excelente uniformidade de temperatura, resistência química superior e geração de partículas ultrabaixa. Projetado para suportar ciclos repetidos de aquecimento e resfriamento rápidos, o suporte garante suporte confiável de wafer e desempenho estável de processo para recozimento de wafer de silício e outras aplicações de semicondutores de alta temperatura.

Recursos do produto

· Equipamento principal:Projetado para sistemas de Recozimento Térmico Rápido (RTA) e Processamento Térmico Rápido (RTP).

· Primary Aaplicação: Otimizado para processos de recozimento de wafer semicondutor.

· Op.eclassificação Tetemperatura:Op.eração estável de 200°C a 700°C.

· ExcEllent Thermal Uniformidade: Garante distribuição uniforme de calor para processamento consistente de wafer.

· Partícula baixaGgeração: O denso revestimento CVD SiC minimiza a contaminação e melhora o rendimento da produção.

· Resistência Química Superior:Resistente à oxidação e gases de processo corrosivos durante o processamento térmico.

· Excelenteg térmicoal Resistência ao choque: Mantém a integridade estrutural através de ciclos repetidos de aquecimento e resfriamento rápidos.

· Longa vida útil:O revestimento SiC resistente ao desgaste prolonga significativamente a vida útil dos componentes e reduz os custos de manutenção.

· PersonalizadoFabricação:Disponível em vários tamanhos e configurações para combinar com diferentes equipamentos RTP/RTA.


Especificações Técnicas

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade
Valor típico
Estrutura Cristalina
FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade
3,21g/cm³
Dureza
Dureza Vickers 2500 (carga de 500 g)
Tamanho do grão
2–10 μm
Pureza Química
99,99995%
Capacidade de calor
640 J·kg⁻¹·K⁻¹
Temperatura de sublimação
2700ºC
Resistência Flexural
415 MPa (RT, flexão de 4 pontos)
Módulo de Young
430 GPa (flexão de 4 pontos, 1300°C)
Condutividade Térmica
300 W·m⁻¹·K⁻¹
Coeficiente de Expansão Térmica (CTE)
4,5 × 10⁻⁶ K⁻¹

Aplicações

·Recozimento Térmico Rápido (RTA)

· Processamento Térmico Rápido (RTP)

· Recozimento de wafer de silício

· Ativação de Dopante

· Oxidação

· Difusão

·Fabricação de semicondutores compostos

·Fabricação de MEMS

·Processamento de semicondutores de potência


Perguntas frequentes

1. O que é uma operadora RTP/RTA?

Um transportador RTP/RTA é um componente de suporte de wafer usado em sistemas de processamento térmico rápido e recozimento térmico rápido. Ele segura wafers semicondutores com segurança enquanto fornece transferência de calor uniforme durante todo o ciclo térmico.

2. Por que o revestimento CVD SiC é preferido?

Comparado com a grafite pura, o revestimento CVD SiC oferece resistência superior à oxidação, menor geração de partículas, melhor estabilidade química e vida útil significativamente mais longa.

3. A VETEK pode fornecer operadoras RTP/RTA personalizadas?

Sim. A VETEK oferece transportadoras RTP/RTA personalizadas com base nos desenhos do cliente.


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