Componentes do reator planetário Aixtron G10 Solid SiC

1. Principais recursos e vantagens

• Estrutura de SiC Sólido totalmente densa e sem aglutinantes para maior resistência ao desgaste e à corrosão

• Excelente condutividade térmica e resistência ao choque térmico em temperaturas acima de 1500 °C

• Geração de partículas ultrabaixa e alta pureza, minimizando o risco de contaminação

• Excelente inércia química contra gases de processo usados ​​na epitaxia de SiC

• Longa vida útil sob repetidos ciclos de alta temperatura

• Usinado com precisão com tolerâncias dimensionais restritas para ajuste confiável e estabilidade do processo

 2. Aplicações Típicas

Esses acessórios de SiC Sólido são usados ​​nas principais áreas funcionais do reator Aixtron G10, incluindo:

• Placas de cobertura e elementos de cobertura selecionados

• Anéis de proteção e componentes de alto desgaste

• Pinos de precisão, arruelas e pequenas peças estruturais

• Outras pastilhas personalizadas de alta pureza expostas a intenso fluxo de gás ou carga térmica

Eles suportam distribuição estável de temperatura, fornecimento uniforme de gás e baixa densidade de defeitos durante o crescimento epitaxial de SiC de alto volume para MOSFETs de potência, diodos e dispositivos de banda larga relacionados.

3. Por que escolher VeTek Solid SiC para Aixtron G10?

Como fabricante especializado de materiais semicondutores, a VeTek Semiconductor fornece:

• Componentes de SiC sólido de alta pureza adaptados para sistemas Aixtron G10, por exemplo: Anel de cobertura, Tampas internas/externas, placa de puxar para baixo/suporte, disco de satélite, susceptor

• Rigoroso controle de pureza e usinagem CNC de precisão

• Soluções complementares, incluindo grafite revestido com SiC CVD e peças revestidas com TaC para cobertura completa do campo térmico

• Projetos personalizados combinados com condições específicas de processo e configurações de reator

Nossos acessórios de SiC sólido ajudam os clientes a maximizar as vantagens de produtividade da plataforma Aixtron G10 – alta produção de wafer, excelente espessura e uniformidade de dopagem e custo de propriedade competitivo – ao mesmo tempo em que prolongam a vida útil dos componentes e reduzem a perda de rendimento relacionada às partículas.