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Barco de wafer de carboneto de silício
  • Barco de wafer de carboneto de silícioBarco de wafer de carboneto de silício

Barco de wafer de carboneto de silício

Os barcos veteksemicon sic wafer são amplamente utilizados em processos críticos de alta temperatura na fabricação de semicondutores, servindo como portadores confiáveis ​​para processos de oxidação, difusão e recozimento para circuitos integrados à base de silício. Eles também se destacam no setor de semicondutores de terceira geração, perfeitamente adequado para processos exigentes, como crescimento epitaxial (EPI) e deposição de vapor químico-orgânico metal (MOCVD) para dispositivos de potência SiC e GAN. Eles também apóiam a fabricação de alta temperatura de células solares de alta eficiência na indústria fotovoltaica. Ansioso por sua consulta adicional.

O barco veteksemicon sic wafer é um transportador principal projetado especificamente para processos de semicondutores de alta temperatura. Utilizando grafite isostaticamente pressionada de alta pureza como seu substrato, este produto utiliza tecnologia patenteada de deposição de vapor químico para formar uma densa e não porosa camada de proteção contra carboneto de silício na superfície.


Essa camada combina perfeitamente a excelente condutividade térmica da grafite com a excepcional resistência à corrosão do carboneto de silício. O revestimento rigorosamente controlado alcança uma espessura de 80-120μm, resistindo efetivamente à corrosão de várias atmosferas ácidas e alcalinas, reduzindo significativamente o risco de contaminação por metal. Mantém a estabilidade estrutural e a integridade dimensional, mesmo em ambientes de alta temperatura, fornecendo proteção e suporte confiáveis ​​para as bolachas durante processos críticos, como oxidação, difusão e crescimento epitaxial, estendendo efetivamente a vida útil da bolacha em mais de três vezes a dos barcos de grafite convencionais.


Ⅰ. Parâmetros técnicos


Projeto
Parâmetro
Material base
Grafite de alta pureza isostaticamente pressionada
espessura do revestimento
80-120μm (personalizável)
rugosidade da superfície
Fora ≤ 0,8μm
expectativa média de vida
150-200 Ciclos de processo
Processo aplicável
CVD/MOCVD/oxidação/difusão


Ⅱ. Veteksemicon sic wafer barcos vantagens do núcleo



  • Excelente resistência à corrosão


O revestimento SiC no barco veteksemicon é depositado usando nosso processo de CVD de alta temperatura, resultando em uma estrutura densa e uniforme que está completamente livre de poros e rachaduras. Essa barreira sólida isola efetivamente as bolachas do ambiente do forno. Fortes atmosferas oxidantes, compostos fluorados e outros gases corrosivos são impermeáveis ​​a essa camada protetora. Isso significa que suas bolachas estão protegidas da contaminação, enquanto o próprio barco permanece intacto através de processos extremos repetidos, estendendo significativamente sua vida útil.



  • Materiais de pureza ultra alta


Entendemos que mesmo a menor contaminação pode tornar inútil um lote inteiro de bolachas. Portanto, o veteksemicon controla rigorosamente matérias -primas, usando grafite isostaticamente pressionada importada com uma pureza superior a 99,9995% como substrato. O revestimento SiC depositado nesse substrato também atinge 99,999% de pureza, com impurezas críticas como sódio, potássio, ferro e metais pesados ​​mantidos em níveis extremamente baixos (PPB). Essa pureza quase intrinseca garante que nenhum contaminante seja liberado em altas temperaturas, eliminando fundamentalmente o risco de degradação do desempenho do dispositivo devido a problemas relacionados à transportadora.



  • Excelente estabilidade térmica


A fabricação de semicondutores requer processos térmicos extremamente consistentes. O coeficiente de expansão térmica do VetekSemicon Wafer Boat é meticulosamente projetado para corresponder de perto ao das bolachas de silício. Durante o aquecimento e o resfriamento rápido, o barco e a wafer se movem em sincronia, reduzindo significativamente o risco de defeitos da treliça e deformação causada pelo estresse térmico. Ele pode suportar temperaturas operacionais contínuas de até 1600 ℃, mantendo excelente resistência mecânica e estabilidade dimensional, mesmo nessas altas temperaturas. Isso garante repetibilidade e confiabilidade em todos os processos executados, fornecendo uma base sólida para o controle de tolerância na fabricação de chips.



  • Resistência mecânica durável


O valor de nossos produtos está não apenas no investimento inicial, mas também no custo de propriedade a longo prazo. Comparados aos componentes tradicionais de quartzo ou grafite, os barcos veteksemicon sic wafer oferecem desgaste excepcional e resistência ao impacto. Sua alta dureza superficial resiste a arranhões e detritos durante o manuseio e a limpeza. Essa resistência lhes permite suportar facilmente mais de 200 ciclos de processo de alta temperatura e procedimentos de limpeza necessários, reduzindo significativamente os custos de compras, custos de estoque e tempo de inatividade do equipamento associados à substituição frequente de componentes.



  • Endosso de verificação da cadeia ecológica


A verificação da cadeia ecológica da VETEKSEMICON SIC WAFER cobre matérias -primas para a produção, passou a certificação padrão internacional e possui várias tecnologias patenteadas para garantir sua confiabilidade e sustentabilidade nos campos de semicondutores e novos energia.


Ⅲ. Principais campos de aplicação


Direção do aplicativo
Cenário típico
Fabricação de dispositivos de energia
Crescimento epitaxial de sic e gan
Produção de circuito integrado
Processo de oxidação e difusão de alta temperatura
Indústria fotovoltaica
Recozimento de células solares


Para obter especificações técnicas detalhadas, trabalhos brancos ou acordos de teste de amostra, entre em contato com nossa equipe de suporte técnico para explorar como o veteksemicon pode melhorar sua eficiência do processo.


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