Revestimento de carboneto de silício

VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de pinos de elevação de wafer EPI na China. Somos especializados em revestimento de SiC na superfície de grafite há muitos anos. Oferecemos um pino de levantamento de wafer EPI para processo Epi. Com alta qualidade e preço competitivo, convidamos você a visitar nossa fábrica na China.

A epitaxia é uma técnica usada na fabricação de dispositivos de semicondutores para cultivar novos cristais em um chip existente para criar uma nova camada de semicondutores.Vetek Semicondutores oferece um conjunto abrangente de soluções de componentes para o LPE Silicon Epitaxy Chambers, proporcionando longos longos de vida, qualidade estável e epitaxial e melhorado rendimento da camada. Nosso produto, como o susceptador de barril revestido com SiC, recebeu feedback de posição dos clientes. Também fornecemos suporte técnico para SI EPI, SIC EPI, MOCVD, epitaxia liderada por UV e muito mais. Sinta -se à vontade para perguntar para obter informações sobre preços.

A China Top Factory-Vetek Semiconductor combina a usinagem de precisão e as capacidades de revestimento SIC e TAC semicondutor. O Si EPI Susceptador do Tipo de Barril fornece recursos de controle de temperatura e atmosfera, aumentando a eficiência da produção nos processos de crescimento epitaxial de semicondutores. Ligando -se para a criação do relacionamento de cooperação com você.

Como principal fabricante nacional de revestimentos de carboneto de silício e carboneto de tântalo, a VeTek Semiconductor é capaz de fornecer usinagem de precisão e revestimento uniforme de Epi Susceptor revestido com SiC, controlando efetivamente a pureza do revestimento e do produto abaixo de 5 ppm. A vida útil do produto é comparável à do SGL. Bem-vindo para nos perguntar.

Susceptor plano e susceptor de barril são a forma principal dos susceptores epi. VeTek Semiconductor é um fabricante líder de conjunto de susceptor LPE Si Epi e inovador na China. Somos especializados em revestimento SiC e revestimento TaC por muitos anos. Conjunto projetado especificamente para wafers LPE PE2061S de 4". O grau de correspondência do material de grafite e do revestimento de SiC é bom, a uniformidade é excelente e a vida é longa, o que pode melhorar o rendimento do crescimento da camada epitaxial durante o processo LPE (epitaxia de fase líquida). Convidamos você a visitar nossa fábrica na China.

O sistema AIXTRON G5 MOCVD consiste em material de grafite, grafite revestida de carboneto de silício, quartzo, material de feltro rígido, etc. O semicondutor vetek pode personalizar e fabricar todo o conjunto de componentes para este sistema. Ficamos especializados em peças de grafite e quartzo semicondutores por muitos anos. Este kit de susceptores de MOCVD AIXTRON G5 é uma solução versátil e eficiente para a fabricação de semicondutores, com seu tamanho ideal, compatibilidade e alta produtividade.