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Anel de pré-aquecimento
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Anel de pré-aquecimento

O anel de pré-aquecimento é usado no processo de epitaxia semicondutora para pré-aquecer wafers e tornar a temperatura dos wafers mais estável e uniforme, o que é de grande importância para o crescimento de alta qualidade das camadas de epitaxia. A Vetek Semiconductor controla rigorosamente a pureza deste produto para evitar a volatilização de impurezas em altas temperaturas.

O Anel de Pré-Aquecimento é um equipamento chave projetado especificamente para o processo epitaxial (EPI) na fabricação de semicondutores. É utilizado para pré-aquecer wafers antes do processo EPI, garantindo estabilidade de temperatura e uniformidade durante todo o crescimento epitaxial.


Fabricado pela VeTek Semiconductor, nosso anel de pré-aquecimento EPI oferece vários recursos e vantagens notáveis. Em primeiro lugar, é construído com materiais de alta condutividade térmica, permitindo uma transferência de calor rápida e uniforme para a superfície do wafer. Isto evita a formação de pontos quentes e gradientes de temperatura, garantindo uma deposição consistente e melhorando a qualidade e uniformidade da camada epitaxial. Além disso, nosso anel de pré-aquecimento EPI está equipado com um sistema avançado de controle de temperatura, permitindo um controle preciso e consistente da temperatura de pré-aquecimento. Este nível de controle aumenta a precisão e a repetibilidade de etapas cruciais, como crescimento de cristais, deposição de material e reações de interface durante o processo EPI.


Durabilidade e confiabilidade são aspectos essenciais do design de nossos produtos. O anel de pré-aquecimento EPI foi construído para suportar altas temperaturas e pressões operacionais, mantendo a estabilidade e o desempenho por longos períodos. Essa abordagem de projeto reduz os custos de manutenção e substituição, garantindo confiabilidade e eficiência operacional a longo prazo. A instalação e operação do anel de pré-aquecimento EPI são simples, pois é compatível com equipamentos EPI comuns. Ele apresenta um mecanismo de colocação e recuperação de wafer de fácil utilização, aumentando a conveniência e a eficiência operacional.


Na vetek Semiconductor, também oferecemos serviços de personalização para atender aos requisitos específicos do cliente. Isso inclui adaptar o tamanho, a forma e a faixa de temperatura do anel de calor pré -Epi pré -calor para se alinhar com necessidades exclusivas de produção. Para pesquisadores e fabricantes envolvidos na produção de crescimento epitaxial e de dispositivos semicondutores, o anel de calor pré -EPI por vetek semicondutor fornece desempenho excepcional e suporte confiável. Serve como uma ferramenta crítica para alcançar o crescimento epitaxial de alta qualidade e facilitar os processos de fabricação de dispositivos de semicondutores eficientes.


SEM DADOS DA CVD SIC FILM

SEM DATA OF CVD SIC FILM

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura Cristalina FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade do revestimento SiC 3,21 g/cm³
Dureza do revestimento sic 2500 VICKERS DUÊNDA (500G CARRE
Tamanho do grão 2 ~ 10mm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J · kg-1·K-1
Temperatura da sublimação 2700°C
Resistência à Flexão 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Condutividade térmica 300W · m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5 × 10-6K-1


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