Parte da meia -lua de 8 polegadas para reator de LPE

Como fabricante profissional, a VeTek Semiconductor gostaria de fornecer peça meia-lua de 8 polegadas de alta qualidade para reator LPE.

A peça meia-lua VeTek Semiconductor de 8 polegadas para reator LPE é um componente essencial utilizado em processos de fabricação de semicondutores, particularmente em equipamentos epitaxiais de SiC. A VeTek Semiconductor emprega uma tecnologia patenteada para produzir peças em meia-lua de 8 polegadas para reatores LPE, garantindo que possuam pureza excepcional, revestimento uniforme e excelente longevidade. Além disso, essas peças apresentam notáveis ​​propriedades de resistência química e estabilidade térmica.

O corpo principal da peça meia-lua de 8 polegadas para o reator LPE é feito de grafite de alta pureza, que proporciona excelente condutividade térmica e estabilidade mecânica. A grafite de alta pureza é escolhida por seu baixo teor de impurezas, garantindo contaminação mínima durante o processo de crescimento epitaxial. Sua robustez permite suportar as condições exigentes do reator LPE.

As peças de meia -lua com revestimento de grafite semicondutor vetek são fabricadas com a máxima precisão e atenção aos detalhes. A alta pureza dos materiais utilizados garante desempenho superior e confiabilidade na fabricação de semicondutores. O revestimento uniforme nessas partes garante operação consistente e eficiente ao longo de sua vida útil.

Uma das principais vantagens de nossas peças Halfmoon de grafite revestidas com SiC é sua excelente resistência química. Eles podem suportar a natureza corrosiva do ambiente de fabricação de semicondutores, garantindo durabilidade duradoura e minimizando a necessidade de substituições frequentes. Além disso, a sua excepcional estabilidade térmica permite-lhes manter a sua integridade estrutural e funcionalidade sob condições de alta temperatura.

Nossas peças de meia -lua de grafite revestidas com SiC foram meticulosamente projetadas para atender aos requisitos rigorosos do equipamento epitaxial do SIC. Com seu desempenho confiável, essas partes contribuem para o sucesso dos processos de crescimento epitaxial, permitindo a deposição de filmes de alta qualidade.

ESTRUTURA DE CRISTAL DO FILME DE REVESTIMENTO CVD SIC: