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Pino de levantamento de wafer
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Pino de levantamento de wafer

VeTek Semiconductor é um fabricante líder e inovador de pinos de elevação de wafer EPI na China. Somos especializados em revestimento de SiC na superfície de grafite há muitos anos. Oferecemos um pino de levantamento de wafer EPI para processo Epi. Com alta qualidade e preço competitivo, convidamos você a visitar nossa fábrica na China.

OFERECE SEMICONDUTOR OFORTERevestimento de SiCeRevestimento TACMaterial com preço da concorrência e alta qualidade, bem -vindo à investigação.


O pino de elevação do wafer VeTek Semiconductor EPI é um dispositivo chave projetado especificamente para a fabricação de semicondutores. É utilizado para levantar e transportar wafers, garantindo sua segurança e estabilidade durante a fabricação. Fornecemos pino de elevação de wafer revestido de SiC, pino de ponta e anel de pré-aquecimento para processo EPI.


Nossos pinos de elevador de wafer EPI oferecem os seguintes recursos e vantagens:

● Alta precisão e estabilidade: os pinos de elevação de wafer EPI usam processos e materiais avançados para garantir alta precisão e estabilidade ao levantar e manusear wafers. Ele pode posicionar e fixar wafers com precisão, evitando desvios e danos aos wafers durante a fabricação.

● Segurança e confiabilidade: Nossos pinos de elevação de wafer EPI são fabricados a partir de materiais de alta resistência para excelente durabilidade e confiabilidade. É capaz de suportar peso e pressão, garantindo que a bolacha não seja danificada ou acidentalmente caiu durante o manuseio.

● Automação e eficiência: Os pinos de elevação de wafer VeTek Semiconductor EPI são projetados para operar de forma autônoma e integrar-se perfeitamente com equipamentos de fabricação de semicondutores. Ele pode levantar e mover wafers com rapidez e precisão, aumentando a eficiência da produção e reduzindo a necessidade de operações manuais.

● Compatibilidade e aplicabilidade: Os pinos de elevação de wafer EPI são adequados para uma ampla variedade de tamanhos e tipos de wafers, incluindo wafers de diferentes diâmetros e materiais. Ele pode ser compatível com uma variedade de equipamentos e processos de fabricação de semicondutores e é adequado para uma variedade de ambientes de produção.

● Suporte de alta qualidade e confiável: Estamos comprometidos em fornecer produtos confiáveis ​​e de alta qualidade e em fornecer suporte e serviço abrangentes aos nossos clientes. Nossos pinos de elevação wafer passam por rigorosos testes e controle de qualidade para garantir seu desempenho e durabilidade.


SEM DADOS DO FILME CVD SIC:

SEM DATA OF CVD SIC FILM

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas deCvd SiC Coating
Propriedade Valor típico
Estrutura cristalina Policristalina da fase β da FCC, principalmente (111) orientada
Densidade do revestimento CVD SiC 3,21g/cm³
Dureza do revestimento sic 2500 VICKERS DUÊNDA (500G CARRE
Tamanho de grão 2~10μm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J · kg-1·K-1
Temperatura da sublimação 2700°C
Força de flexão 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Condutividade térmica 300W · m-1·K-1
Expansão térmica (CTE) 4,5 × 10-6K-1


É semicondutor Pino de elevação da bolachaLoja de produção

SiC Graphite substrateWafer Lift Pin testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment


Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

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