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Revestimento de carboneto de silício

A VeTek Semiconductor é especializada na produção de produtos de revestimento de carboneto de silício ultrapuros. Esses revestimentos são projetados para serem aplicados em grafite purificado, cerâmica e componentes de metal refratário.


Nossos revestimentos de alta pureza são direcionados principalmente para uso nas indústrias de semicondutores e eletrônicos. Eles servem como uma camada protetora para transportadores de wafers, susceptores e elementos de aquecimento, protegendo-os de ambientes corrosivos e reativos encontrados em processos como MOCVD e EPI. Esses processos são essenciais para o processamento de wafers e fabricação de dispositivos. Além disso, nossos revestimentos são adequados para aplicações em fornos a vácuo e aquecimento de amostras, onde são encontrados ambientes de alto vácuo, reativos e de oxigênio.


Na VeTek Semiconductor, oferecemos uma solução abrangente com nossos recursos avançados de oficina mecânica. Isso nos permite fabricar os componentes básicos usando grafite, cerâmica ou metais refratários e aplicar os revestimentos cerâmicos SiC ou TaC internamente. Também fornecemos serviços de revestimento para peças fornecidas pelo cliente, garantindo flexibilidade para atender diversas necessidades.


Nossos produtos de revestimento de carboneto de silício são amplamente utilizados em epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo de gravação, processo de gravação ICP/PSS, processo de vários tipos de LED, incluindo LED azul e verde, LED UV e UV profundo LED etc., que é adaptado a equipamentos LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e assim por diante.


Peças do reator que podemos fazer:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Revestimento de carboneto de silício com várias vantagens exclusivas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parâmetro de revestimento de carboneto de silício semicondutor VeTek

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura Cristalina FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade do revestimento SiC 3,21g/cm³
Revestimento SiCDureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão 2~10μm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J·kg-1·K-1
Temperatura de Sublimação 2700°C
Resistência Flexural 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade Térmica 300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

ESTRUTURA DE CRISTAL DO FILME CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Conjunto de receptores LPE SI EPI

Conjunto de receptores LPE SI EPI

Susceptor plano e susceptor de barril são a forma principal dos susceptores epi. VeTek Semiconductor é um fabricante líder de conjunto de susceptor LPE Si Epi e inovador na China. Somos especializados em revestimento SiC e revestimento TaC por muitos anos. Conjunto projetado especificamente para wafers LPE PE2061S de 4". O grau de correspondência do material de grafite e do revestimento de SiC é bom, a uniformidade é excelente e a vida é longa, o que pode melhorar o rendimento do crescimento da camada epitaxial durante o processo LPE (epitaxia de fase líquida). Convidamos você a visitar nossa fábrica na China.
Susceptores de MOCVD de Aixtron G5

Susceptores de MOCVD de Aixtron G5

O sistema AIXTRON G5 MOCVD consiste em material de grafite, grafite revestida de carboneto de silício, quartzo, material de feltro rígido, etc. O semicondutor vetek pode personalizar e fabricar todo o conjunto de componentes para este sistema. Ficamos especializados em peças de grafite e quartzo semicondutores por muitos anos. Este kit de susceptores de MOCVD AIXTRON G5 é uma solução versátil e eficiente para a fabricação de semicondutores, com seu tamanho ideal, compatibilidade e alta produtividade.
Susceptador de barril de grafite revestido com SIC para EPI

Susceptador de barril de grafite revestido com SIC para EPI

A base de aquecimento de wafer epitaxial tipo barril é um produto com tecnologia de processamento complicada, que é muito desafiadora para equipamentos e habilidades de usinagem. A Vetek semiconductor possui equipamentos avançados e rica experiência no processamento de susceptor de barril de grafite revestido de SiC para EPI, pode fornecer o mesmo que a vida de fábrica original, barris epitaxiais mais econômicos.
Defletor de cadinho de grafite revestido de SiC

Defletor de cadinho de grafite revestido de SiC

O defletor de cadinho de grafite revestido com SiC é um componente chave no equipamento de forno de cristal único, sua tarefa é guiar suavemente o material fundido do cadinho para a zona de crescimento do cristal e garantir a qualidade e a forma do crescimento do cristal único. fornece material de revestimento de grafite e SiC. Entre em contato conosco para obter mais detalhes.
Susceptor Epitaxial MOCVD para Wafer de 4

Susceptor Epitaxial MOCVD para Wafer de 4"

O suscetador epitaxial do MOCVD para wafer de 4 "foi projetado para cultivar camada epitaxial de 4". O semicondutor de vetek é um fabricante e fornecedor profissional, que se dedica a fornecer susceptador epitaxial de MOCVD de alta qualidade com material de seleção de grafite e processo de revestimento de sicite. Somos capazes de fornecer soluções especializadas e eficientes para nossos clientes. Você pode se comunicar conosco.
Suporte de grafite epitaxial Gan para G5

Suporte de grafite epitaxial Gan para G5

O vetek semicondutor é um fabricante e fornecedor profissional, dedicado ao fornecimento de susceptador de grafite epitaxial GaN de alta qualidade para o G5. Estabelecemos parcerias de longo prazo e estáveis ​​com inúmeras empresas conhecidas em casa e no exterior, ganhando a confiança e o respeito de nossos clientes.
Como fabricante e fornecedor profissional Revestimento de carboneto de silício na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas da sua região ou deseja comprar uma mensagem avançada e durável Revestimento de carboneto de silício na China, você pode nos deixar uma mensagem.
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