Revestimento de carboneto de silício

Como fabricante profissional de revestimento de cerâmica de carboneto de silício na China, o revestimento cerâmico de carboneto de silício do vetek semicondutor é amplamente utilizado nos principais componentes dos equipamentos de fabricação de semicondutores, especialmente quando os processos CVD e PECVD estão envolvidos. Bem -vindo sua pergunta.

O Susceptador de EPI foi projetado para as exigentes aplicações de equipamentos epitaxiais. Sua estrutura de grafite revestida com carboneto de silício de alta pureza (SiC) oferece excelente resistência ao calor, uniformidade térmica uniforme para espessura e resistência da camada epitaxial consistente e resistência química duradoura. Estamos ansiosos para cooperar com você.

Como um fabricante e fornecedor profissional de transportadores de wafer de revestimento de SiC, os transportadores de wafer de revestimento de SiC da Vetek Semiconductor são usados ​​principalmente para melhorar a uniformidade de crescimento da camada epitaxial, garantindo sua estabilidade e integridade em ambientes corrosivos e de alta temperatura.

O vetek semicondutor é um fabricante profissional de susceptores de ALD da China. A Vetek desenvolveu e produziu em conjunto e produziu bases planetárias de ALD revestidas com SIC com fabricantes de sistemas ALD para atender aos altos requisitos do processo ALD. Bem -vindo sua consulta.

O teto revestido de CVD SiC do VETEK semicondutor possui excelentes propriedades, como resistência à alta temperatura, resistência à corrosão, alta dureza e baixo coeficiente de expansão térmica, tornando -a uma escolha de material ideal na fabricação de semicondutores. Como fabricante e fornecedor de teto revestido com CVD SIC, líder da China, o vetek semicondutor aguarda sua consulta.

O vetek semicondutor é um fabricante profissional do MOCVD LED Susceptor EPI na China. Nosso Susceptador de EPI LED MOCVD foi projetado para exigir aplicações de equipamentos epitaxiais. Sua alta condutividade térmica, estabilidade química e durabilidade são fatores -chave para garantir um processo estável de crescimento epitaxial e produção de filmes semicondutores.