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Revestimento de carboneto de silício

A VeTek Semiconductor é especializada na produção de produtos de revestimento de carboneto de silício ultrapuros. Esses revestimentos são projetados para serem aplicados em grafite purificado, cerâmica e componentes de metal refratário.


Nossos revestimentos de alta pureza são direcionados principalmente para uso nas indústrias de semicondutores e eletrônicos. Eles servem como uma camada protetora para transportadores de wafers, susceptores e elementos de aquecimento, protegendo-os de ambientes corrosivos e reativos encontrados em processos como MOCVD e EPI. Esses processos são essenciais para o processamento de wafers e fabricação de dispositivos. Além disso, nossos revestimentos são adequados para aplicações em fornos a vácuo e aquecimento de amostras, onde são encontrados ambientes de alto vácuo, reativos e de oxigênio.


Na VeTek Semiconductor, oferecemos uma solução abrangente com nossos recursos avançados de oficina mecânica. Isso nos permite fabricar os componentes básicos usando grafite, cerâmica ou metais refratários e aplicar os revestimentos cerâmicos SiC ou TaC internamente. Também fornecemos serviços de revestimento para peças fornecidas pelo cliente, garantindo flexibilidade para atender diversas necessidades.


Nossos produtos de revestimento de carboneto de silício são amplamente utilizados em epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo de gravação, processo de gravação ICP/PSS, processo de vários tipos de LED, incluindo LED azul e verde, LED UV e UV profundo LED etc., que é adaptado a equipamentos LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e assim por diante.


Peças do reator que podemos fazer:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Revestimento de carboneto de silício com várias vantagens exclusivas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parâmetro de revestimento de carboneto de silício semicondutor VeTek

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura Cristalina FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade do revestimento SiC 3,21g/cm³
Revestimento SiCDureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão 2~10μm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J·kg-1·K-1
Temperatura de Sublimação 2700°C
Resistência Flexural 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade Térmica 300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

ESTRUTURA DE CRISTAL DO FILME CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Bico de revestimento CVD SiC

Bico de revestimento CVD SiC

Os bocais de revestimento CVD SiC são componentes cruciais usados ​​no processo de epitaxia LPE SIC para depositar materiais de carboneto de silício durante a fabricação de semicondutores. Esses bicos são tipicamente feitos de material de carboneto de silício de alta temperatura e quimicamente estável para garantir a estabilidade em ambientes de processamento severos. Projetados para deposição uniforme, eles desempenham um papel fundamental no controle da qualidade e uniformidade das camadas epitaxiais cultivadas em aplicações de semicondutores. Dê boas -vindas à sua pergunta adicional.
Protetor de revestimento CVD SiC

Protetor de revestimento CVD SiC

O protetor de revestimento CVD SiC do vetek semicondutor usado é o epitaxia do LPE SIC, o termo "LPE" geralmente se refere a epitaxia de baixa pressão (LPE) na deposição de vapor químico de baixa pressão (LPCVD). Na fabricação de semicondutores, o LPE é uma importante tecnologia de processo para o cultivo de filmes finos de cristal único, frequentemente usado para cultivar camadas epitaxiais de silício ou outras camadas epitaxiais de semicondutores. Não hesite em nos contatar para obter mais perguntas.
Pedestal revestido de SiC

Pedestal revestido de SiC

A Vetek Semiconductor é profissional na fabricação de revestimento CVD SiC, revestimento TaC em grafite e material de carboneto de silício. Fornecemos produtos OEM e ODM como pedestal revestido de SiC, suporte de wafer, mandril de wafer, bandeja de suporte de wafer, disco planetário e assim por diante. Com sala limpa de grau 1000 e dispositivo de purificação, podemos fornecer produtos com impureza abaixo de 5 ppm. de você em breve.
Anel de entrada de revestimento sic

Anel de entrada de revestimento sic

A Vetek Semiconductor se destaca por colaborar estreitamente com os clientes para criar projetos sob medida para o anel de entrada de revestimento de SiC, adaptados às necessidades específicas. Esses anéis de entrada de revestimento de SiC são meticulosamente projetados para diversas aplicações, como equipamentos CVD SiC e epitaxia de carboneto de silício. Para soluções personalizadas de anel de entrada de revestimento de SiC, não hesite em entrar em contato com a Vetek Semiconductor para obter assistência personalizada.
Anel de suporte revestido de SiC

Anel de suporte revestido de SiC

O vetek semicondutor é um fabricante e fornecedor profissional de China, produzindo principalmente anéis de suporte revestidos com SiC, revestimentos de carboneto de silício CVD (SIC), revestimentos de carboneto de tântalo (TAC). Estamos comprometidos em fornecer suporte técnico perfeito e soluções de produtos finais para a indústria de semicondutores, bem -vindo a entrar em contato conosco.
Wafer Chuck

Wafer Chuck

Pedaço de pinça de wafer de wafer em processo de semicondutores e é amplamente utilizado em PVD, CVD, gravação e outro processo.VETEK O Wafer Chuck do semicondutor desempenha papéis fundamentais na produção de semicondutores, permitindo a produção rápida e de alta qualidade. Com fabricação interna, preços competitivos e suporte robusto em P&D, o vetek semicondutor se destaca nos serviços OEM/ODM para componentes de precisão.
Como fabricante e fornecedor profissional Revestimento de carboneto de silício na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas da sua região ou deseja comprar uma mensagem avançada e durável Revestimento de carboneto de silício na China, você pode nos deixar uma mensagem.
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