Susceptor de grafite revestido com SiC para ASM

Informações gerais do produto

Termos comerciais do produto

✔ Aplicação: O substrato de grafite revestido com SiC da Veteksemicon é um consumível essencial para o equipamento epitaxial da série ASM. Ele suporta diretamente o wafer e fornece um campo térmico uniforme e estável durante a epitaxia de alta temperatura, tornando-o um componente central para garantir o crescimento de alta qualidade de materiais semicondutores avançados, como GaN e SiC.

✔ Serviços que podem ser fornecidos: análise de cenário de aplicação do cliente, correspondência de materiais, solução de problemas técnicos. 

✔ Perfil da empresa：A Veteksemicon possui 2 laboratórios, uma equipe de especialistas com 20 anos de experiência em materiais, com P&D e capacidade de produção, teste e verificação.

Parâmetros Técnicos

Susceptor de grafite revestido com SiC Veteksemicon para vantagens do núcleo ASM

1. Pureza extrema e baixa taxa de defeitos

Usando substrato de grafite especial de alta pureza e partículas finas, combinado com nosso processo de revestimento por deposição química de vapor (CVD) estritamente controlado, garantimos que o revestimento seja denso, livre de furos e livre de impurezas. Isto reduz significativamente o risco de contaminação por partículas durante o processo epitaxial, proporcionando um ambiente de substrato limpo para o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade.

2. Excelente resistência à corrosão e resistência ao desgaste

O revestimento pirolítico de carboneto de silício possui dureza e inércia química extremamente altas, resistindo efetivamente à erosão de fontes de silício (como SiH4, SiHCl3), fontes de carbono (como C3H8) e gases de corrosão (como HCl, H2) em altas temperaturas. Isto amplia significativamente o ciclo de manutenção da base e reduz o tempo de inatividade da máquina causado pela substituição de componentes.

3. Excelente uniformidade e estabilidade térmica

Otimizamos a distribuição do campo térmico dentro da faixa de temperatura operacional por meio do projeto preciso da estrutura do substrato e do controle da espessura do revestimento. Isso se traduz diretamente em excelente uniformidade de espessura e resistividade no wafer epitaxial, contribuindo para melhorar o rendimento de fabricação de cavacos.

4. Excelente resistência de adesão do revestimento

A tecnologia exclusiva de pré-tratamento de superfície e revestimento gradiente permite que o revestimento de carboneto de silício forme uma forte camada de ligação com o substrato de grafite, evitando efetivamente problemas de descascamento, descamação ou rachaduras do revestimento que podem ocorrer durante o ciclo térmico de longo prazo.

5. Tamanho preciso e replicação estrutural

Possuímos capacidades maduras de usinagem e testes CNC, o que nos permite replicar completamente a geometria complexa, as dimensões da cavidade e as interfaces de montagem da base original, garantindo a combinação perfeita e a funcionalidade plug-and-play com a plataforma do cliente.

6. Endosso de verificação da cadeia ecológica

O susceptor de grafite revestido com SiC Veteksemicon para verificação da cadeia ecológica ASM cobre matérias-primas para produção, passou pela certificação de padrão internacional e possui uma série de tecnologias patenteadas para garantir sua confiabilidade e sustentabilidade nos campos de semicondutores e novas energias.

Para especificações técnicas detalhadas, white papers ou arranjos de testes de amostra, entre em contato com nossa equipe de suporte técnico para explorar como a Veteksemicon pode melhorar a eficiência do seu processo.

Principais campos de aplicação

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