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Forno de oxidação e difusão

Os fornos de oxidação e difusão são usados ​​em vários campos, como dispositivos semicondutores, dispositivos discretos, dispositivos optoeletrônicos, dispositivos eletrônicos de potência, células solares e fabricação de circuitos integrados em larga escala. Eles são utilizados para processos, incluindo difusão, oxidação, recozimento, liga e sinterização das bolachas.


O vetek semicondutor é um fabricante líder especializado na produção de componentes de grafite, carboneto de silício e quartzo de alta pureza nos fornos de oxidação e difusão. Estamos comprometidos em fornecer componentes de forno de alta qualidade para as indústrias semicondutor e fotovoltaica e estamos na vanguarda da tecnologia de revestimento de superfície, como CVD-SIC, CVD-TAC, pirocarboneto, etc.


As vantagens dos componentes de carboneto de silício de vetek semicondutores:

● Resistência a alta temperatura (até 1600 ℃)

● Excelente condutividade térmica e estabilidade térmica

● Boa resistência a corrosão química

● Baixo coeficiente de expansão térmica

● Alta força e dureza

● Longa vida útil


Nos fornos de oxidação e difusão, devido à presença de alta temperatura e gases corrosivos, muitos componentes requerem o uso de materiais de alta temperatura e corrosão, entre os quais o carboneto de silício (SIC) é uma escolha comumente usada. A seguir, são apresentados componentes comuns de carboneto de silício encontrados em fornos de oxidação e fornos de difusão:



● barco de wafer

O barco de bolacha de carboneto de silício é um recipiente usado para transportar bolachas de silício, que podem suportar altas temperaturas e não reagirão com as bolachas de silício.


● Tubo do forno

O tubo do forno é o componente central do forno de difusão, usado para acomodar as bolachas de silício e controlar o ambiente de reação. Os tubos do forno de carboneto de silício têm excelente desempenho de alta temperatura e resistência à corrosão.


● Placa do defletor

Usado para regular o fluxo de ar e a distribuição de temperatura dentro do forno


● Tubo de proteção de termopar

Usado para proteger a temperatura medindo termopares do contato direto com gases corrosivos.


● Paddle cantilever

As pás do cantilever de carboneto de silício são resistentes a alta temperatura e corrosão e são usadas para transportar barcos de silício ou barcos de quartzo que transportam bolachas de silício nos tubos do forno de difusão.


● Injetor de gás

Usado para introduzir o gás de reação no forno, ele precisa ser resistente a alta temperatura e corrosão.


● Transportador de barco

O portador de barcos de wafer de carboneto de silício é usado para consertar e suportar bolachas de silício, que têm vantagens como alta resistência, resistência à corrosão e boa estabilidade estrutural.


● Porta do forno

Revestimentos ou componentes de carboneto de silício também podem ser usados ​​no interior da porta do forno.


● Elemento de aquecimento

Os elementos de aquecimento do carboneto de silício são adequados para altas temperaturas, alta potência e podem aumentar rapidamente as temperaturas para mais de 1000 ℃.


● SiC Liner

Usado para proteger a parede interna dos tubos do forno, ele pode ajudar a reduzir a perda de energia térmica e suportar ambientes agressivos, como alta temperatura e alta pressão.

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Tubo de forno de difusão sic

Tubo de forno de difusão sic

Como fabricante líder e fornecedor de equipamentos de forno de difusão na China, o tubo de forno de difusão SiC semicondutor vetek tem resistência à flexão significativamente alta, excelente resistência à oxidação, resistência à corrosão, alta resistência ao desgaste e excelentes propriedades mecânicas de alta temperatura. Tornando -o um material de equipamento indispensável em aplicações de forno de difusão. O vetek semicondutor está comprometido com a fabricação e o fornecimento de tubo de forno de difusão SIC de alta qualidade e recebe suas perguntas adicionais.
Transportador de barco wafer SiC de alta pureza

Transportador de barco wafer SiC de alta pureza

A VeTek Semiconductor oferece transportador de barco wafer SiC de alta pureza personalizado. Feito de carboneto de silício de alta pureza, possui ranhuras para segurar o wafer no lugar, evitando que deslize durante o processamento. O revestimento CVD SiC também está disponível, se necessário. Como um fabricante e fornecedor profissional e forte de semicondutores, o transportador de barcos wafer SiC de alta pureza da VeTek Semiconductor tem preço competitivo e alta qualidade. A VeTek Semiconductor espera ser seu parceiro de longo prazo na China.
Alta pureza SiC cantilever paddle

Alta pureza SiC cantilever paddle

O VETEK SEMICONDUCOR é um fabricante líder e fornecedor de produtos SiC Cantilever Paddle de alta pureza na China. As pás SiC cantilever de alta pureza são comumente usadas em fornos de difusão de semicondutores como plataformas de transferência de wafer ou carregamento.
Baço de wafer de coluna vertical e pedestal

Baço de wafer de coluna vertical e pedestal

A coluna vertical do Vetek Semiconductor Boat & Pedestal é feita de materiais de quartzo de alta pureza ou cerâmica de carbono de silício (SIC), com excelente resistência a alta temperatura, estabilidade química e resistência mecânica e é um componente de núcleo indispensável no processo de fabricação de semicondutores. Dê boas -vindas à sua consulta adicional.
Barco contíguo de bolacha

Barco contíguo de bolacha

VETEK O barco contíguo de semicondutores é um equipamento avançado para o processamento de semicondutores. A estrutura do produto é cuidadosamente projetada para garantir um processamento e produção eficientes de bolachas de precisão. A veteksemi suporta soluções de produtos personalizadas e aguarda sua consulta.
Transportadora horizontal de wafer

Transportadora horizontal de wafer

VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor profissional de anel guia revestido com TaC, transportador de wafer horizontal de SiC e susceptores revestidos de SiC na China. Estamos comprometidos em fornecer suporte técnico perfeito e soluções de produtos de última geração para a indústria de semicondutores. Bem-vindo a entrar em contato conosco.

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Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.


Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.


For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.


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