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Forno de oxidação e difusão

Os fornos de oxidação e difusão são usados ​​em vários campos, como dispositivos semicondutores, dispositivos discretos, dispositivos optoeletrônicos, dispositivos eletrônicos de potência, células solares e fabricação de circuitos integrados em larga escala. Eles são utilizados para processos, incluindo difusão, oxidação, recozimento, liga e sinterização das bolachas.


O vetek semicondutor é um fabricante líder especializado na produção de componentes de grafite, carboneto de silício e quartzo de alta pureza nos fornos de oxidação e difusão. Estamos comprometidos em fornecer componentes de forno de alta qualidade para as indústrias semicondutor e fotovoltaica e estamos na vanguarda da tecnologia de revestimento de superfície, como CVD-SIC, CVD-TAC, pirocarboneto, etc.


As vantagens dos componentes de carboneto de silício de vetek semicondutores:

● Resistência a alta temperatura (até 1600 ℃)

● Excelente condutividade térmica e estabilidade térmica

● Boa resistência a corrosão química

● Baixo coeficiente de expansão térmica

● Alta força e dureza

● Longa vida útil


Nos fornos de oxidação e difusão, devido à presença de alta temperatura e gases corrosivos, muitos componentes requerem o uso de materiais de alta temperatura e corrosão, entre os quais o carboneto de silício (SIC) é uma escolha comumente usada. A seguir, são apresentados componentes comuns de carboneto de silício encontrados em fornos de oxidação e fornos de difusão:



● barco de wafer

O barco de bolacha de carboneto de silício é um recipiente usado para transportar bolachas de silício, que podem suportar altas temperaturas e não reagirão com as bolachas de silício.


● Tubo do forno

O tubo do forno é o componente central do forno de difusão, usado para acomodar as bolachas de silício e controlar o ambiente de reação. Os tubos do forno de carboneto de silício têm excelente desempenho de alta temperatura e resistência à corrosão.


● Placa do defletor

Usado para regular o fluxo de ar e a distribuição de temperatura dentro do forno


● Tubo de proteção de termopar

Usado para proteger a temperatura medindo termopares do contato direto com gases corrosivos.


● Paddle cantilever

As pás do cantilever de carboneto de silício são resistentes a alta temperatura e corrosão e são usadas para transportar barcos de silício ou barcos de quartzo que transportam bolachas de silício nos tubos do forno de difusão.


● Injetor de gás

Usado para introduzir o gás de reação no forno, ele precisa ser resistente a alta temperatura e corrosão.


● Transportador de barco

O portador de barcos de wafer de carboneto de silício é usado para consertar e suportar bolachas de silício, que têm vantagens como alta resistência, resistência à corrosão e boa estabilidade estrutural.


● Porta do forno

Revestimentos ou componentes de carboneto de silício também podem ser usados ​​no interior da porta do forno.


● Elemento de aquecimento

Os elementos de aquecimento do carboneto de silício são adequados para altas temperaturas, alta potência e podem aumentar rapidamente as temperaturas para mais de 1000 ℃.


● SiC Liner

Usado para proteger a parede interna dos tubos do forno, ele pode ajudar a reduzir a perda de energia térmica e suportar ambientes agressivos, como alta temperatura e alta pressão.

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Barco de bolacha sic

Barco de bolacha sic

O barco de wafer SiC é usado para transportar a bolacha, principalmente para o processo de oxidação e difusão, para garantir que a temperatura possa ser distribuída uniformemente na superfície da wafer. A estabilidade de alta temperatura e a alta condutividade térmica dos materiais SiC garantem processamento eficiente e confiável de semicondutores. O vetek semicondutor está comprometido em fornecer produtos de qualidade a preços competitivos.
Tubo de Processo SiC

Tubo de Processo SiC

O vetek semicondutor fornece tubos de processo SiC de alto desempenho para a fabricação de semicondutores. Nossos tubos de processo SiC se destacam em processos de oxidação e difusão. Com qualidade superior e habilidade, esses tubos oferecem estabilidade de alta temperatura e condutividade térmica para processamento eficiente de semicondutores. Oferecemos preços competitivos e procuramos ser seu parceiro de longo prazo na China.
Sic cantilever paddle

Sic cantilever paddle

O SiC Cantilever Paddle do vetek semicondutor é usado em fornos de tratamento térmico para manusear e apoiar barcos de bolacha. A estabilidade de alta temperatura e alta condutividade térmica do material SiC garantem alta eficiência e confiabilidade no processo de processamento de semicondutores. Estamos comprometidos em fornecer produtos de alta qualidade a preços competitivos e esperamos nos tornar seu parceiro de longo prazo na China.
Barco de wafer de carboneto de silício para forno horizontal

Barco de wafer de carboneto de silício para forno horizontal

O barco wafer SiC tem alta exigência em pureza de material. A Vetek Semiconductor fornece pureza de SiC> 99,96% de SiC recristalizado para este produto. VeTek Semiconductor é um fabricante e fornecedor profissional na China de barco wafer de carboneto de silício para forno horizontal, com anos de experiência em P&D e produção, pode controlar bem a qualidade e oferecer um preço competitivo. Você pode ter a certeza de comprar conosco o barco wafer de carboneto de silício para forno horizontal.
Barco de wafer de carboneto de silício revestido com SiC

Barco de wafer de carboneto de silício revestido com SiC

O barco wafer de carboneto de silício revestido com SiC é projetado com 165 slots para transportar wafers. VeTek Semiconductor é fabricante e fornecedor profissional na China de barco wafer de carboneto de silício revestido com SiC, com anos de experiência em P&D e produção, pode controlar bem a qualidade e oferecer um preço competitivo preço. Bem-vindo por visitar nossa fábrica e discutir mais sobre cooperação.
Silício carboneto cantilever paddle

Silício carboneto cantilever paddle

A pá de cantilever de carboneto de silício do Vetek Semicondutor é um componente importante no processo de fabricação de semicondutores, especialmente adequado para fornos de difusão ou fornos LPCVD em processos de alta temperatura, como difusão e RTP. Nossa paddle cantilever de carboneto de silício é cuidadosamente projetada e fabricada com excelente resistência de alta temperatura e resistência mecânica, e pode transportar com segurança e confiabilidade as bolachas para o tubo de processo sob condições de processo severas para vários processos de alta temperatura, como difusão e RTP. Estamos ansiosos para nos tornar seu parceiro de longo prazo na China. Fique livre para nos perguntar.

Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.


Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.


Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.


For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.


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