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Estrada Wangda, rua Ziyang, condado de Wuyi, cidade de Jinhua, província de Zhejiang, China
Os fornos de oxidação e difusão são usados em vários campos, como dispositivos semicondutores, dispositivos discretos, dispositivos optoeletrônicos, dispositivos eletrônicos de potência, células solares e fabricação de circuitos integrados em larga escala. Eles são utilizados para processos, incluindo difusão, oxidação, recozimento, liga e sinterização das bolachas.
O vetek semicondutor é um fabricante líder especializado na produção de componentes de grafite, carboneto de silício e quartzo de alta pureza nos fornos de oxidação e difusão. Estamos comprometidos em fornecer componentes de forno de alta qualidade para as indústrias semicondutor e fotovoltaica e estamos na vanguarda da tecnologia de revestimento de superfície, como CVD-SIC, CVD-TAC, pirocarboneto, etc.
● Resistência a alta temperatura (até 1600 ℃)
● Excelente condutividade térmica e estabilidade térmica
● Boa resistência a corrosão química
● Baixo coeficiente de expansão térmica
● Alta força e dureza
● Longa vida útil
Nos fornos de oxidação e difusão, devido à presença de alta temperatura e gases corrosivos, muitos componentes requerem o uso de materiais de alta temperatura e corrosão, entre os quais o carboneto de silício (SIC) é uma escolha comumente usada. A seguir, são apresentados componentes comuns de carboneto de silício encontrados em fornos de oxidação e fornos de difusão:
● barco de wafer
O barco de bolacha de carboneto de silício é um recipiente usado para transportar bolachas de silício, que podem suportar altas temperaturas e não reagirão com as bolachas de silício.
● Tubo do forno
O tubo do forno é o componente central do forno de difusão, usado para acomodar as bolachas de silício e controlar o ambiente de reação. Os tubos do forno de carboneto de silício têm excelente desempenho de alta temperatura e resistência à corrosão.
● Placa do defletor
Usado para regular o fluxo de ar e a distribuição de temperatura dentro do forno
● Tubo de proteção de termopar
Usado para proteger a temperatura medindo termopares do contato direto com gases corrosivos.
● Paddle cantilever
As pás do cantilever de carboneto de silício são resistentes a alta temperatura e corrosão e são usadas para transportar barcos de silício ou barcos de quartzo que transportam bolachas de silício nos tubos do forno de difusão.
● Injetor de gás
Usado para introduzir o gás de reação no forno, ele precisa ser resistente a alta temperatura e corrosão.
● Transportador de barco
O portador de barcos de wafer de carboneto de silício é usado para consertar e suportar bolachas de silício, que têm vantagens como alta resistência, resistência à corrosão e boa estabilidade estrutural.
● Porta do forno
Revestimentos ou componentes de carboneto de silício também podem ser usados no interior da porta do forno.
● Elemento de aquecimento
Os elementos de aquecimento do carboneto de silício são adequados para altas temperaturas, alta potência e podem aumentar rapidamente as temperaturas para mais de 1000 ℃.
● SiC Liner
Usado para proteger a parede interna dos tubos do forno, ele pode ajudar a reduzir a perda de energia térmica e suportar ambientes agressivos, como alta temperatura e alta pressão.
Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.
Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.
Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.
For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.
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