Qual é a diferença entre CVD TAC e TAC sinterizado?

1. O que é carboneto de Tantalum?

O carboneto de tântalo (TAC) é um composto binário composto de tântalo e carbono com a fórmula empírica TACX, onde X geralmente varia na faixa de 0,4 a 1. Eles são materiais cerâmicos refratários condutores metálicos muito difíceis. Eles são pós marrom-cinza, geralmente sinterizados. Como um importante material de cerâmica de metal, o carboneto de tântalo é usado comercialmente para ferramentas de corte e às vezes é adicionado às ligas de carboneto de tungstênio.

Figura 1. Matérias -primas de carboneto de Tantalum

A cerâmica de carboneto de tântalo é uma cerâmica contendo sete fases cristalinas de carboneto de tântalo. A fórmula química é TAC, treliça cúbica centrada na face.

Figura 2.Tantalum Carbide - Wikipedia

A densidade teórica é de 1,44, o ponto de fusão é 3730-3830 ℃, o coeficiente de expansão térmica é 8,3 × 10-6, o módulo elástico é de 291GPA, a condutividade térmica é 0,22J/cm · S · C, e o ponto de fusão de pico de tantalum e tantalum é em torno de 380 ℃ ℃ ℃ ℃ ℃ ℃ ℃ · S, e o ponto de fusão de pico de tantalum e tantalum é em torno de 380 ℃ ℃ ℃ ℃ ℃ ℃ ℃ · · S, e o ponto de fusão do pico de tantalum e tantalum é em torno de 380. Este valor é o mais alto entre os compostos binários.

Figura 3.Deposição de vapor químico de carboneto de tântalo no tabr5 & ndash

2. Quão forte é o carboneto de tântalo?

Testando a dureza de Vickers, a tenacidade da fratura e a densidade relativa de uma série de amostras, pode -se determinar que o TAC possui as melhores propriedades mecânicas a 5,5 GPa e 1300 ℃. A densidade relativa, a tenacidade da fratura e a dureza de Vickers de TAC são 97,7%, 7,4mpam1/2 e 21,0gPa, respectivamente.

O carboneto de tantalum também é chamado de cerâmica de carboneto de tantalum, que é um tipo de material cerâmico em um sentido amplo;Os métodos de preparação de carboneto de tântalo incluemCVDmétodo, método de sinterização, etc. Atualmente, o método CVD é mais comumente usado em semicondutores, com alta pureza e alto custo.

3. Comparação entre carboneto de tântalo sinterizado e carboneto de TantalumCVD

Na tecnologia de processamento dos semicondutores, o carboneto de tântalo sinterizado e o carboneto de deposição de vapor químico (CVD) são dois métodos comuns para preparar o carboneto de tântalo, que têm diferenças significativas no processo de preparação, microestrutura, desempenho e aplicação.

3.1 Processo de preparação

Carboneto de tântalo sinterizado: O pó de carboneto de tantalum é sinterizado sob alta temperatura e alta pressão para formar uma forma. Esse processo envolve densificação em pó, crescimento de grãos e remoção de impureza.

Carboneto de Tantalum CVD: O precursor gasoso de carboneto de tantalum é usado para reagir quimicamente na superfície do substrato aquecido, e o filme de carboneto de tântalo é depositado por camada por camada. O processo CVD tem boa capacidade de controle de espessura do filme e uniformidade da composição.

3.2 Microestrutura

Carboneto de tântalo sinterizado: Geralmente, é uma estrutura policristalina com grande tamanho de grão e poros. Sua microestrutura é afetada por fatores como temperatura de sinterização, pressão e características de pó.

Carboneto de Tantalum CVD: Geralmente é um filme policristalino denso com tamanho de grão pequeno e pode obter um crescimento altamente orientado. A microestrutura do filme é afetada por fatores como temperatura de deposição, pressão do gás e composição da fase gasosa.

3.3 Diferenças de desempenho

Figura 4. Diferenças de desempenho entre TAC sinterizado e CVD TAC

3.4 APLICAÇÕES

Carboneto de tântalo sinterizado: Devido à sua alta resistência, alta resistência à dureza e alta temperatura, é amplamente utilizado em ferramentas de corte, peças resistentes ao desgaste, materiais estruturais de alta temperatura e outros campos. Por exemplo, o carboneto de tântalo sinterizado pode ser usado para fabricar ferramentas de corte, como exercícios e cortadores de moagem, para melhorar a eficiência do processamento e a qualidade da superfície da parte.

CVD Tantalum Carbide: Devido às suas finas propriedades de filme, boa adesão e uniformidade, é amplamente utilizado em dispositivos eletrônicos, materiais de revestimento, catalisadores e outros campos. Por exemplo, o cv

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Figura 5. Produtos de revestimento TAC de vendas a quente da vetek semicondutor

O vetek semicondutor está comprometido em se tornar um inovador na indústria de revestimento de carboneto de tantalum por meio de pesquisas contínuas e desenvolvimento de tecnologias iterativas. 

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