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Conjunto de receptores LPE SI EPI
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Conjunto de receptores LPE SI EPI

Susceptor plano e susceptor de barril são a forma principal dos susceptores epi. VeTek Semiconductor é um fabricante líder de conjunto de susceptor LPE Si Epi e inovador na China. Somos especializados em revestimento SiC e revestimento TaC por muitos anos. Conjunto projetado especificamente para wafers LPE PE2061S de 4". O grau de correspondência do material de grafite e do revestimento de SiC é bom, a uniformidade é excelente e a vida é longa, o que pode melhorar o rendimento do crescimento da camada epitaxial durante o processo LPE (epitaxia de fase líquida). Convidamos você a visitar nossa fábrica na China.

Semicondutor VeTek é um fabricante e fornecedor profissional de conjunto receptor LPE Si EPI na China. Com boa qualidade e preço competitivo, seja bem-vindo para visitar nossa fábrica e estabelecer cooperação a longo prazo conosco.


O conjunto de susceptores VeTeK Semiconductor LPE Si Epi é um produto de alto desempenho criado pela aplicação de uma fina camada de carboneto de silício na superfície de materiais altamente purificados.grafite isotrópico. Isto é conseguido através do processo de Deposição Química de Vapor (CVD) proprietário da VeTeK Semiconductor.


Conjunto de susceptores LPE SI EPI do VETEK SEMICONDUCOR é um reator de barril de deposição epitaxial de CVD projetado para executar de maneira confiável, mesmo em condições desafiadoras. Sua excelente adesão ao revestimento, resistência à oxidação de alta temperatura e corrosão o tornam a escolha ideal para ambientes severos. Além disso, seu perfil térmico uniforme e o padrão de fluxo de gás laminar evitam a contaminação, garantindo o crescimento de camadas epitaxiais de alta qualidade.


O design em forma de barril do nosso reator epitaxial semicondutor otimiza o fluxo de gás, garantindo que o calor seja distribuído uniformemente. Esse recurso evita efetivamente a contaminação e a difusão de impurezas, garantindo a produção de camadas epitaxiais de alta qualidade em substratos de wafer.


Na Vetek Semiconductor, estamos comprometidos em fornecer aos clientes produtos de alta qualidade e econômicos. Nosso conjunto de susceptores de LPE SI EPI oferece preços competitivos, mantendo uma excelente densidade para o substrato de grafite erevestimento de carboneto de silício. Essa combinação garante proteção confiável em ambientes de trabalho de alta temperatura e corrosivo.


Dados SEM do filme CVD SIC

SEM DATA OF CVD SIC FILM


Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC:

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura Cristalina Policristalina da fase β da FCC, principalmente (111) orientada
Densidade do revestimento CVD SiC 3,21g/cm³
Dureza do revestimento SiC 2500 VICKERS DUÊNDA (500G CARRE
Tamanho de grão 2 ~ 10mm
Pureza química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J · kg-1· K-1
Temperatura da sublimação 2700 ℃
Resistência à Flexão 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Condutividade térmica 300W · m-1· K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5 × 10-6K-1


Semicondutor VeTek LPE se o conjunto de apoiadores do EPIOficina de produção

SiC Graphite substrateLPE SI EPI Susceptor Set testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment

Visão geral da cadeia da indústria de epitaxia de chips semicondutores:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


Hot Tags: LPE se o conjunto de apoiadores do EPI
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