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Revestimento de carboneto de silício

A VeTek Semiconductor é especializada na produção de produtos de revestimento de carboneto de silício ultrapuros. Esses revestimentos são projetados para serem aplicados em grafite purificado, cerâmica e componentes de metal refratário.


Nossos revestimentos de alta pureza são direcionados principalmente para uso nas indústrias de semicondutores e eletrônicos. Eles servem como uma camada protetora para transportadores de wafers, susceptores e elementos de aquecimento, protegendo-os de ambientes corrosivos e reativos encontrados em processos como MOCVD e EPI. Esses processos são essenciais para o processamento de wafers e fabricação de dispositivos. Além disso, nossos revestimentos são adequados para aplicações em fornos a vácuo e aquecimento de amostras, onde são encontrados ambientes de alto vácuo, reativos e de oxigênio.


Na VeTek Semiconductor, oferecemos uma solução abrangente com nossos recursos avançados de oficina mecânica. Isso nos permite fabricar os componentes básicos usando grafite, cerâmica ou metais refratários e aplicar os revestimentos cerâmicos SiC ou TaC internamente. Também fornecemos serviços de revestimento para peças fornecidas pelo cliente, garantindo flexibilidade para atender diversas necessidades.


Nossos produtos de revestimento de carboneto de silício são amplamente utilizados em epitaxia de Si, epitaxia de SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo de gravação, processo de gravação ICP/PSS, processo de vários tipos de LED, incluindo LED azul e verde, LED UV e UV profundo LED etc., que é adaptado a equipamentos LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e assim por diante.


Peças do reator que podemos fazer:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Revestimento de carboneto de silício com várias vantagens exclusivas:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parâmetro de revestimento de carboneto de silício semicondutor VeTek

Propriedades físicas básicas do revestimento CVD SiC
Propriedade Valor típico
Estrutura Cristalina FCC fase β policristalina, orientada principalmente (111)
Densidade do revestimento SiC 3,21g/cm³
Revestimento SiCDureza Dureza Vickers 2500 (carga de 500g)
Tamanho do grão 2~10μm
Pureza Química 99,99995%
Capacidade de calor 640 J·kg-1·K-1
Temperatura de Sublimação 2700°C
Resistência Flexural 415 MPa RT de 4 pontos
Módulo de Young Curvatura de 430 Gpa 4pt, 1300℃
Condutividade Térmica 300W·m-1·K-1
Expansão Térmica (CTE) 4,5×10-6K-1

ESTRUTURA DE CRISTAL DO FILME CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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VEECO MOCVD Providence

VEECO MOCVD Providence

Como fabricante líder e fornecedor de produtos Susceptores de Veeco MOCVD na China, o suscetador de MOCVD do Vetek Semiconductor representa o auge da exclusão de inovação e engenharia, especialmente personalizada para atender aos requisitos complexos dos processos contemporâneos de fabricação de semicondutores. Dê boas -vindas às suas perguntas adicionais.
Parte de vedação sic

Parte de vedação sic

Como um fabricante e fábrica avançado de produtos de vedação da SIC na China. A parte de vedação de vetek semicondutos é um componente de vedação de alto desempenho amplamente utilizado no processamento de semicondutores e outros processos extremos de alta temperatura e alta pressão. Dê boas -vindas à sua consulta adicional.
Silicon Carboide Wafer Chuck

Silicon Carboide Wafer Chuck

Como fabricante líder e fornecedor de produtos de wafer de carboneto de silício na China, o Chuck de Wafer de carboneto de silício de vetek semicondutor desempenha um papel insubstituível no processo de crescimento epitaxial, com sua excelente resistência à alta temperatura, resistência à corrosão química e resistência ao choque térmico. Dê boas -vindas à sua consulta adicional.
Silicon Carbide Chuveiro

Silicon Carbide Chuveiro

O chuveiro de carboneto de silício possui excelente tolerância a alta temperatura, estabilidade química, condutividade térmica e bom desempenho de distribuição de gás, que podem obter distribuição uniforme de gás e melhorar a qualidade do filme. Portanto, geralmente é usado em processos de alta temperatura, como deposição de vapor químico (DCV) ou processos de deposição de vapor físico (PVD). Dê boas -vindas à sua consulta adicional, vetek semicondutor.
Anel de vedação de carboneto de silício

Anel de vedação de carboneto de silício

Como fabricante e fábrica profissional de produtos de anel de vedação de carboneto de silício na China, o anel de vedação de carboneto de silício VeTek Semiconductor é amplamente utilizado em equipamentos de processamento de semicondutores devido à sua excelente resistência ao calor, resistência à corrosão, resistência mecânica e condutividade térmica. É especialmente adequado para processos que envolvem gases reativos e de alta temperatura, como CVD, PVD e gravação por plasma, e é uma escolha de material chave no processo de fabricação de semicondutores. Suas perguntas adicionais são bem-vindas.
Suporte para wafer revestido de SiC

Suporte para wafer revestido de SiC

VeTek Semiconductor é um fabricante profissional e líder de produtos de suporte de wafer revestidos de SiC na China. O suporte de wafer revestido de SiC é um suporte de wafer para o processo de epitaxia no processamento de semicondutores. É um dispositivo insubstituível que estabiliza o wafer e garante o crescimento uniforme da camada epitaxial. Bem-vindo a sua consulta adicional.
Como fabricante e fornecedor profissional Revestimento de carboneto de silício na China, temos nossa própria fábrica. Se você precisa de serviços personalizados para atender às necessidades específicas da sua região ou deseja comprar uma mensagem avançada e durável Revestimento de carboneto de silício na China, você pode nos deixar uma mensagem.
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