Jarra de sino de quartzo semicondutores

A jarra de sino de quartzo semicondutores é feita de material de quartzo de alta pureza. Possui excelente estabilidade térmica e forte resistência à corrosão e é usado em muitos campos. Na indústria de semicondutores: a jarra de sino de quartzo semicondutores fornece um ambiente controlado para deposição de filmes finos nas bolachas durante a deposição de vapor químico (CVD). A jarra de sino de quartzo semicondutores também é usada em processos que requerem tecnologia de vácuo, como a produção de revestimentos ópticos, revestimentos de metal e outros tipos de materiais de filme fino. A jarra de sino de quartzo semicondutores também é necessária em muitos experimentos científicos físicos e materiais que requerem um ambiente de alta pureza e selações de vácuo.

Cenários de uso da indústria de semicondutores:

O polissilício é um material de silício composto por muitos grãos pequenos, amplamente utilizados em circuitos integrados, células solares e outros campos. A deposição de vapor químico (DCV) é um dos principais métodos para preparar o silício policristalino. O princípio básico é que o gás fonte de silício, como o SIH4, é decomposto em alta temperatura e depositado no substrato para formar silício policristalino:

SIHCL3 + H2 ⇒ SI + 3HCL

Sob condições de alta temperatura e vácuo, o gás fonte de silício foi alimentado na deposição de vapor químico. O silício policristalino é finalmente obtido. O frasco de sino de quartzo de grau semicondutor é uma parte importante do reator CVD de silício policristalino.

Reator CVD de silício policristalino

Sob a reação de alta temperatura do DCV, a jarra de sino de quartzo semicondutores pode fornecer um ambiente térmico uniforme. A resistência à alta temperatura do material de quartzo de alta pureza (pode suportar temperaturas de até 1100 ° C) permite que ele funcione de forma estável em reações de DCV e garanta distribuição uniforme de temperatura na área de reação. No processo de CVD, existem muitos componentes de gás tóxicos, como PH3, etc. A jarra de sino de quartzo de grau de semicondutores pode efetivamente isolar os gases químicos na câmara de reação do ambiente externo para evitar vazamentos nocivos de gás. A resistência à corrosão do material de quartzo de alta pureza também permite que outros materiais funcionem de forma estável por um longo tempo durante o processo CVD e não são facilmente corroídos ou danificados.

A redoma de quartzo é usada em conjunto com o tubo de preservação de calor de quartzo e o barco vertical de quartzo, e é usada principalmente no processo epitaxial de produção de chips de circuito integrado semicondutor. O forno epitaxial geralmente adota uma estrutura vertical, com a redoma de quartzo na parte externa do barco de quartzo vertical e o tubo de preservação de calor de quartzo como suporte.

Outra aplicação típica da redoma de quartzo de grau semicondutor em ambiente de alta temperatura: Para aquecer um lote de peças ortodônticas a 704 ℃ em 1 segundo em uma atmosfera inerte para brasagem:

A VeTek Semiconductor possui uma equipe técnica madura. Não importa o formato ou material da redoma de quartzo de alta pureza que você precisa, podemos adaptá-la para você.

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