Pedestal de quartzo fundido ALD

Vetek semicondutor ald fusado quartzo pedestal desempenha um papel fundamental no processo de fabricação de semicondutores como uma estrutura de suporte para obarco de quartzo, que é usado para manter obolacha. O pedestal de quartzo fundido ajuda a obter uma deposição uniforme do filme, mantendo uma temperatura estável, o que afeta diretamente o desempenho e a confiabilidade dos dispositivos semicondutores. Além disso, o pedestal de quartzo garante distribuição uniforme de calor e luz na câmara de processo, melhorando assim a qualidade geral do processo de deposição.

Ald Fused Fused Quartz Pedestal Material Vantagens

Resistência à alta temperatura: O ponto de amolecimento do pedestal de quartzo fundido é de até 1730 ° C e pode suportar a operação de alta temperatura de 1100 ° C a 1250 ° C por um longo tempo e pode ser exposto a ambientes de temperatura extrema de até 1450 ° C por um curto período de tempo.

Excelente resistência à corrosão: O quartzo fundido é altamente inerte quimicamente para quase todos os ácidos, exceto o ácido hidrofluórico. Sua resistência ao ácido é 30 vezes maior que a cerâmica e 150 vezes maior que o aço inoxidável. O quartzo fundido é quimicamente incomparável em altas temperaturas, tornando -o um material ideal para processos químicos complexos.

Estabilidade térmica: Uma característica fundamental do material do pedestal de quartzo fundido é seu coeficiente de expansão térmica extremamente baixo. Isso significa que ele pode lidar facilmente com flutuações drásticas de temperatura sem rachar. Por exemplo, o quartzo de sílica fundida pode ser rapidamente aquecido a 1100°C e imerso diretamente em água fria sem danos, uma característica importante em condições de fabricação de alto estresse.

Processo de fabricação rigoroso: O processo de produção de pedestais de sílica fundida segue estritamente os altos padrões de qualidade. O processo de produção utiliza processos de conformação a quente e soldagem, que geralmente são concluídos em um ambiente de sala limpa classe 10.000. Posteriormente, o pedestal de vidro de quartzo fundido é cuidadosamente limpo com água ultrapura (18 MΩ) para garantir a pureza do produto e o desempenho ideal. Cada produto acabado é rigorosamente inspecionado, limpo e embalado em uma sala limpa classe 1.000 ou superior para atender aos altos padrões da indústria de semicondutores.

Material de quartzo de sílica opaca de alta pureza

O pedestal de quartzo de quartzo veteksemi ald usa material de quartzo opaco de alta pureza para isolar efetivamente o calor e a luz. Suas excelentes propriedades de blindagem térmica e blindagem de luz permitem manter a distribuição uniforme de temperatura na câmara de processo, garantindo uniformidade e consistência da finaDeposição de filmesna superfície da bolacha.

Campos de aplicação

Os pedestais de quartzo fundido são amplamente utilizados em muitos campos da indústria de semicondutores devido ao seu excelente desempenho. Noprocesso de deposição de camada atômica (ALD), ele suporta o controle preciso do crescimento do filme e garante o avanço dos dispositivos semicondutores. Noprocesso de deposição química de vapor de baixa pressão (LPCVD), a estabilidade térmica e a capacidade de blindagem leve do pedestal de quartzo de alta pureza fornecem garantias para a deposição uniforme de filmes finos, melhorando assim o desempenho e o rendimento do dispositivo.

Além disso, no processo de bolacha de difusão, a resistência à alta temperatura e a resistência à corrosão química do pedestal de quartzo fundido garantem a confiabilidade e a consistência do processo de dopagem de material semicondutor. Esses processos-chave determinam o desempenho elétrico dos dispositivos semicondutores e os materiais de quartzo fundidos de alta qualidade desempenham um papel indispensável na obtenção dos melhores resultados desses processos.

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