Carboneto de tântalo poroso: uma nova geração de materiais para crescimento de cristais de SiC

Com a produção em massa gradual de substratos condutores de SiC, requisitos mais elevados são impostos à estabilidade e repetibilidade do processo. Em particular, o controle de defeitos, pequenos ajustes ou desvios no campo térmico do forno levará a alterações no cristal ou ao aumento de defeitos.

Na fase posterior, enfrentaremos o desafio de "crescer mais rápido, mais espesso e mais longo". Além da melhoria da teoria e da engenharia, são necessários materiais de campo térmico mais avançados como suporte. Use materiais avançados para cultivar cristais avançados.

O uso inadequado de materiais como grafite, grafite porosa e pó de carboneto de tântalo no cadinho no campo térmico levará a defeitos como aumento de inclusões de carbono. Além disso, em algumas aplicações, a permeabilidade da grafite porosa não é suficiente e é necessário abrir furos adicionais para aumentar a permeabilidade. A grafite porosa com alta permeabilidade enfrenta desafios como processamento, perda de pó e ataque químico.

Recentemente, a VeTek Semiconductor lançou uma nova geração de materiais de campo térmico de crescimento de cristal SiC,carboneto poroso de tântalo, pela primeira vez no mundo.

O carboneto de Tantalum tem alta resistência e dureza, e é ainda mais desafiador torná -lo poroso. É ainda mais desafiador fazer carboneto poroso de tântalo com grande porosidade e alta pureza. O vetek semicondutor lançou um carboneto de tântalo poroso inovador com grande porosidade,com uma porosidade máxima de 75%, atingindo o nível líder internacional.

Além disso, pode ser usado para filtração componente da fase gasosa, ajustando gradientes de temperatura local, orientação do material do material, controle de vazamento, etc.; Pode ser combinado com outro revestimento sólido de tântalo (denso) ou carboneto de tantalum de semicondutor vetek para formar componentes com diferentes condutâncias de fluxo local; Alguns componentes podem ser reutilizados.

Parâmetros técnicos

Porosidade ≤75% liderança internacional

Formato: floco, cilíndrico Líder internacional

Porosidade uniforme

Vetek semicondutor poroso tantalum carboneto (TAC) tem os seguintes recursos do produto

●   Porosidade para aplicações versáteis

A estrutura porosa do TAC fornece multifuncionalidade, permitindo seu uso em cenários especializados, como:

Difusão de gás: Facilita o controle preciso do fluxo de gás nos processos de semicondutores.

Filtração: Ideal para ambientes que exigem separação de partículas de alto desempenho.

Dissipação de calor controlado: Gerencia eficientemente o calor em sistemas de alta temperatura, melhorando a regulação térmica geral.

● Resistência extrema de alta temperatura

Com um ponto de fusão de aproximadamente 3.880 ° C, o carboneto de tântalo se destaca em aplicações de temperatura ultra-alta. Essa resistência ao calor excepcional garante desempenho consistente em condições em que a maioria dos materiais falha.

●   Dureza e durabilidade superiores

Classificando 9-10 na escala de dureza Mohs, semelhante ao diamante, o TAC poroso demonstra resistência incomparável ao desgaste mecânico, mesmo sob estresse extremo. Essa durabilidade o torna ideal para aplicações expostas a ambientes abrasivos.

● Estabilidade térmica excepcional

O carboneto de Tantalum mantém sua integridade estrutural e desempenho em calor extremo. Sua notável estabilidade térmica garante uma operação confiável em indústrias que requerem consistência de alta temperatura, como fabricação de semicondutores e aeroespacial.

● Excelente condutividade térmica

Apesar de sua natureza porosa, o poroso TAC mantém uma transferência de calor eficiente, permitindo seu uso em sistemas onde a rápida dissipação de calor é crítica. Esse recurso aprimora a aplicabilidade do material em processos intensivos em calor.

●   Baixa expansão térmica para estabilidade dimensional

Com um baixo coeficiente de expansão térmica, o carboneto de Tantalum resiste às alterações dimensionais causadas por flutuações de temperatura. Essa propriedade minimiza o estresse térmico, estendendo a vida útil dos componentes e mantendo a precisão em sistemas críticos.

Na fabricação de semicondutores, o carboneto poroso de Tantalum (TAC) desempenha as seguintes funções -chave específicas

● Em processos de alta temperatura, como gravura plasmática e DCV, o carboneto de tântalo poroso do semicondutor vetek é frequentemente usado como um revestimento protetor para o equipamento de processamento. Isso se deve à forte resistência à corrosão do revestimento TAC e sua estabilidade de alta temperatura. Essas propriedades garantem que ela proteja efetivamente as superfícies expostas a gases reativos ou temperaturas extremas, garantindo assim a reação normal dos processos de alta temperatura.

●  Em processos de difusão, o carboneto de tântalo poroso pode servir como uma barreira de difusão eficaz para evitar a mistura de materiais em processos de alta temperatura. Esse recurso é frequentemente usado para controlar a difusão de dopantes em processos como implantação iônica e controle de pureza de wafers semicondutores.

●  A estrutura porosa do carboneto de tântalo poroso semicondutor VeTek é muito adequada para ambientes de processamento de semicondutores que exigem controle preciso de fluxo de gás ou filtragem. Neste processo, o TaC poroso desempenha principalmente o papel de filtração e distribuição de gás. Sua inércia química garante que nenhum contaminante seja introduzido durante o processo de filtração. Isto garante efetivamente a pureza do produto processado.

Sobre semicondutor de compensação

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